Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski pl
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS
Zawartość zarchiwizowana w dniu 2024-04-16

Dry Develop Optical Lithography for ULSI

Cel

The work covered by the DRYDEL project aimed to develop a deep-UV sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the DESIRE (Diffusion-Enhanced Silylating Resist) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single-layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and anisotropic dry development.
The work covered by the dry develop optical lithography (DRYDEL) project aimed to develop a deep ultraviolet (UV) sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the diffusion enhanced silylating resist (DESIRE) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and and anisotropic dry development. The work was distributed over 4 work packages. In the first, the resist materials were developed. Variations of the various components of the resist (photoactive compound, resin composition and solvents) have been investigated. This has led to an optimization of the i-line version of the resist (for exposure at 365 nm) and to the fabrication of first samples of the deep UV version (for exposure at 248 nm).
In the second work package resist processing, such as silylation, dry development and pattern transfer, has been studied. Besides an optimization of each processing step, some more fundamental studies were carried out on silylation kinetics and swelling behaviour. Several new pieces of equipment were evaluated for silylation and dry development (including magnetically enhanced reactors and electron cyclotron resonance (ECR). Using the optimized resist materials and processes, lithographic resolution down to 0.25 micron (lines/spaces) has been demonstrated with perfect line width control over highly reflective topography (on deep-UV stepper, lambda = 248 nm, numerical operture (NA) = 0.42). The process was demonstrated in the third work package. A final work package showed the feasibility of the DESIRE process for application in gallium arsenide processing. The lift off capabilities of the process were demonstrated by the fabrication of appropriate test circuits.

Dziedzina nauki (EuroSciVoc)

Klasyfikacja projektów w serwisie CORDIS opiera się na wielojęzycznej taksonomii EuroSciVoc, obejmującej wszystkie dziedziny nauki, w oparciu o półautomatyczny proces bazujący na technikach przetwarzania języka naturalnego. Więcej informacji: Europejski Słownik Naukowy.

Aby użyć tej funkcji, musisz się zalogować lub zarejestrować

Program(-y)

Wieloletnie programy finansowania, które określają priorytety Unii Europejskiej w obszarach badań naukowych i innowacji.

Temat(-y)

Zaproszenia do składania wniosków dzielą się na tematy. Każdy temat określa wybrany obszar lub wybrane zagadnienie, których powinny dotyczyć wnioski składane przez wnioskodawców. Opis tematu obejmuje jego szczegółowy zakres i oczekiwane oddziaływanie finansowanego projektu.

Brak dostępnych danych

Zaproszenie do składania wniosków

Procedura zapraszania wnioskodawców do składania wniosków projektowych w celu uzyskania finansowania ze środków Unii Europejskiej.

Brak dostępnych danych

System finansowania

Program finansowania (lub „rodzaj działania”) realizowany w ramach programu o wspólnych cechach. Określa zakres finansowania, stawkę zwrotu kosztów, szczegółowe kryteria oceny kwalifikowalności kosztów w celu ich finansowania oraz stosowanie uproszczonych form rozliczania kosztów, takich jak rozliczanie ryczałtowe.

Brak dostępnych danych

Koordynator

Interuniversitair Mikroelektronica Centrum
Wkład UE
Brak danych
Adres
Kapeldreef 75
3030 Heverlee
Belgia

Zobacz na mapie

Koszt całkowity

Ogół kosztów poniesionych przez organizację w związku z uczestnictwem w projekcie. Obejmuje koszty bezpośrednie i pośrednie. Kwota stanowi część całkowitego budżetu projektu.

Brak danych

Uczestnicy (6)

Moja broszura 0 0