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Contenuto archiviato il 2024-04-16

Dry Develop Optical Lithography for ULSI

Obiettivo

The work covered by the DRYDEL project aimed to develop a deep-UV sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the DESIRE (Diffusion-Enhanced Silylating Resist) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single-layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and anisotropic dry development.
The work covered by the dry develop optical lithography (DRYDEL) project aimed to develop a deep ultraviolet (UV) sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the diffusion enhanced silylating resist (DESIRE) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and and anisotropic dry development. The work was distributed over 4 work packages. In the first, the resist materials were developed. Variations of the various components of the resist (photoactive compound, resin composition and solvents) have been investigated. This has led to an optimization of the i-line version of the resist (for exposure at 365 nm) and to the fabrication of first samples of the deep UV version (for exposure at 248 nm).
In the second work package resist processing, such as silylation, dry development and pattern transfer, has been studied. Besides an optimization of each processing step, some more fundamental studies were carried out on silylation kinetics and swelling behaviour. Several new pieces of equipment were evaluated for silylation and dry development (including magnetically enhanced reactors and electron cyclotron resonance (ECR). Using the optimized resist materials and processes, lithographic resolution down to 0.25 micron (lines/spaces) has been demonstrated with perfect line width control over highly reflective topography (on deep-UV stepper, lambda = 248 nm, numerical operture (NA) = 0.42). The process was demonstrated in the third work package. A final work package showed the feasibility of the DESIRE process for application in gallium arsenide processing. The lift off capabilities of the process were demonstrated by the fabrication of appropriate test circuits.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.

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Programma(i)

Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.

Argomento(i)

Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.

Dati non disponibili

Invito a presentare proposte

Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.

Dati non disponibili

Meccanismo di finanziamento

Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.

Dati non disponibili

Coordinatore

Interuniversitair Mikroelektronica Centrum
Contributo UE
Nessun dato
Indirizzo
Kapeldreef 75
3030 Heverlee
Belgio

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Costo totale

I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.

Nessun dato

Partecipanti (6)

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