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Inhalt archiviert am 2024-04-16

Dry Develop Optical Lithography for ULSI

Ziel

The work covered by the DRYDEL project aimed to develop a deep-UV sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the DESIRE (Diffusion-Enhanced Silylating Resist) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single-layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and anisotropic dry development.
The work covered by the dry develop optical lithography (DRYDEL) project aimed to develop a deep ultraviolet (UV) sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the diffusion enhanced silylating resist (DESIRE) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and and anisotropic dry development. The work was distributed over 4 work packages. In the first, the resist materials were developed. Variations of the various components of the resist (photoactive compound, resin composition and solvents) have been investigated. This has led to an optimization of the i-line version of the resist (for exposure at 365 nm) and to the fabrication of first samples of the deep UV version (for exposure at 248 nm).
In the second work package resist processing, such as silylation, dry development and pattern transfer, has been studied. Besides an optimization of each processing step, some more fundamental studies were carried out on silylation kinetics and swelling behaviour. Several new pieces of equipment were evaluated for silylation and dry development (including magnetically enhanced reactors and electron cyclotron resonance (ECR). Using the optimized resist materials and processes, lithographic resolution down to 0.25 micron (lines/spaces) has been demonstrated with perfect line width control over highly reflective topography (on deep-UV stepper, lambda = 248 nm, numerical operture (NA) = 0.42). The process was demonstrated in the third work package. A final work package showed the feasibility of the DESIRE process for application in gallium arsenide processing. The lift off capabilities of the process were demonstrated by the fabrication of appropriate test circuits.

Wissenschaftliches Gebiet (EuroSciVoc)

CORDIS klassifiziert Projekte mit EuroSciVoc, einer mehrsprachigen Taxonomie der Wissenschaftsbereiche, durch einen halbautomatischen Prozess, der auf Verfahren der Verarbeitung natürlicher Sprache beruht. Siehe: Das European Science Vocabulary.

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Programm/Programme

Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.

Thema/Themen

Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.

Daten nicht verfügbar

Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.

Daten nicht verfügbar

Finanzierungsplan

Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.

Daten nicht verfügbar

Koordinator

Interuniversitair Mikroelektronica Centrum
EU-Beitrag
Keine Daten
Adresse
Kapeldreef 75
3030 Heverlee
Belgien

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Gesamtkosten

Die Gesamtkosten, die dieser Organisation durch die Beteiligung am Projekt entstanden sind, einschließlich der direkten und indirekten Kosten. Dieser Betrag ist Teil des Gesamtbudgets des Projekts.

Keine Daten

Beteiligte (6)

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