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Metrology Advances for Digitized ECS industry 4.0

Description du projet

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De nouvelles technologies de métrologie pour révolutionner le secteur des semi-conducteurs en Europe

La métrologie constitue les yeux et les oreilles de nombreuses industries, dont celle des semi-conducteurs. Dans chaque système de mesure électronique, un compromis doit être fait entre sensibilité, précision et exactitude. Le projet MADEin4, financé par l’UE, mettra au point de nouvelles solutions de l’industrie 4.0 pour le secteur européen de la fabrication de semi-conducteurs afin de surmonter cet écueil. Ce projet, qui met en contact près de 50 fabricants et organisations de recherche et de technologie en Europe, s’emploie à concevoir des systèmes cyberphysiques avancés et hautement connectés. Ces systèmes utilisent une nouvelle approche de l’industrie 4.0 qui combine l’analyse et la conception de données métrologiques avec des méthodes d’apprentissage machine et de jumelage numérique. Conçu pour doper la croissance du secteur européen des semi-conducteurs et de l’automobile, MADEin4 facilitera l’accès précommercial des fabricants aux échantillons d’essai en les mettant en contact avec de grandes organisations de recherche et de technologie.

Objectif

The metrology domain (which could be considered as the ‘eyes and ears’ for both R&D&I and production) is a key enabler for productivity enhancements in many industries across the electronic components and system (ECS) value chain and have to be an integral part of any Cyber Physical Systems (CPS) which consist of metrology equipment, virtual metrology or Industrial internet of things (IIoT) sensors, edge and high-performance computing (HPC). The requirements from the metrology is to support ALL process steps toward the final product. However, for any given ECS technology, there is a significant trade-off between the metrology sensitivity, precision and accuracy to its productivity. MADEin4 address this deficiency by focusing on two productivity boosters which are independent from the sensitivity, precision and accuracy requirements: • Productivity booster 1: High throughput, next generation metrology and inspection tools development for the nanoelectronics industry (all nodes down to 5nm). This booster will be developed by the metrology equipment’s manufacturers and demonstrated in an industry 4.0 pilot line at imec and address the ECS equipment, materials and manufacturing major challenges (MASP Chapter 15, major challenges 1 – 3). • Productivity booster 2: CPS development which combines Machine Learning (ML) of design (EDA) and metrology data for predictive diagnostics of the process and tools performances predictive diagnostics of the process and tools performances (predictive yield and tools performance). This booster will be developed and demonstrated in an industry 4.0 pilot line at imec, for the 5nm node, by the EDA, computing and metrology partners (MASP Chapter 15, major challenge 4). The same CPS concept will be demonstrated for the ‘digital industries’ two major challenges of the nanoelectronics (all nodes down to 5nm) and automotive end user’s partners (MASP Chapter 9, major challenges 1and 3).

Champ scientifique

Mots‑clés

Programme(s)

Thème(s)

Appel à propositions

H2020-ECSEL-2018-1-IA-two-stage

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Régime de financement

IA - Innovation action

Coordinateur

APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD
Contribution nette de l'UE
€ 2 608 045,90
Adresse
OPPENHEIMER STREET 9
76705 Rehovot
Israël

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Type d’activité
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Liens
Coût total
€ 13 040 229,50

Participants (48)

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Dernière mise à jour: 6 Mars 2024

Mon livret

Permalink: https://cordis.europa.eu/project/id/826589/fr

European Union, 2024