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Metrology Advances for Digitized ECS industry 4.0

Descripción del proyecto

Unas nuevas tecnologías metrológicas revolucionarán la industria europea de semiconductores

La metrología actúa como los ojos y los oídos de numerosas industrias, incluida la de semiconductores. Cualquier sistema electrónico de medición se basa en un equilibrio entre sensibilidad, precisión y fiabilidad. El proyecto MADEin4, financiado con fondos europeos, desarrollará nuevas soluciones de la Industria 4.0 que ayuden al sector europeo de fabricación de semiconductores a superar este obstáculo. El proyecto, que pondrá en contacto a cerca de cincuenta fabricantes y organizaciones de investigación y tecnología, está trabajando con sistemas ciberfísicos avanzados y altamente conectados mediante un novedoso enfoque de la Industria 4.0 que combina el diseño y análisis de datos metrológicos con metodologías de aprendizaje automático y hermanamiento digital. Diseñado para impulsar el crecimiento del sector europeo de la automoción y los semiconductores, MADEin4 facilitará el acceso de los fabricantes a muestras de las pruebas incluso antes de la comercialización, poniéndoles en contacto con grandes organizaciones de investigación y tecnología.

Objetivo

The metrology domain (which could be considered as the ‘eyes and ears’ for both R&D&I and production) is a key enabler for productivity enhancements in many industries across the electronic components and system (ECS) value chain and have to be an integral part of any Cyber Physical Systems (CPS) which consist of metrology equipment, virtual metrology or Industrial internet of things (IIoT) sensors, edge and high-performance computing (HPC). The requirements from the metrology is to support ALL process steps toward the final product. However, for any given ECS technology, there is a significant trade-off between the metrology sensitivity, precision and accuracy to its productivity. MADEin4 address this deficiency by focusing on two productivity boosters which are independent from the sensitivity, precision and accuracy requirements: • Productivity booster 1: High throughput, next generation metrology and inspection tools development for the nanoelectronics industry (all nodes down to 5nm). This booster will be developed by the metrology equipment’s manufacturers and demonstrated in an industry 4.0 pilot line at imec and address the ECS equipment, materials and manufacturing major challenges (MASP Chapter 15, major challenges 1 – 3). • Productivity booster 2: CPS development which combines Machine Learning (ML) of design (EDA) and metrology data for predictive diagnostics of the process and tools performances predictive diagnostics of the process and tools performances (predictive yield and tools performance). This booster will be developed and demonstrated in an industry 4.0 pilot line at imec, for the 5nm node, by the EDA, computing and metrology partners (MASP Chapter 15, major challenge 4). The same CPS concept will be demonstrated for the ‘digital industries’ two major challenges of the nanoelectronics (all nodes down to 5nm) and automotive end user’s partners (MASP Chapter 9, major challenges 1and 3).

Régimen de financiación

IA - Innovation action

Coordinador

APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD
Aportación neta de la UEn
€ 2 608 045,90
Dirección
OPPENHEIMER STREET 9
76705 Rehovot
Israel

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Tipo de actividad
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Enlaces
Coste total
€ 13 040 229,50

Participantes (48)