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Metrology Advances for Digitized ECS industry 4.0

Projektbeschreibung

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Neuartige Messtechnik revolutioniert europäische Halbleiterindustrie

Die Messtechnik ist das Auge und Ohr vieler Industriesektoren. Auch in der Halbleiterindustrie ist das nicht anders. Bei jedem elektronischen Messsystem muss ein Kompromiss zwischen Empfindlichkeit, Genauigkeit und Fehlerfreiheit eingegangen werden. Um diese Barriere zu überwinden, wird das EU-finanzierte Projekt MADEin4 Innovationen für Industrie 4.0-Lösungen für die europäische Halbleiterindustrie entwickeln. Das Projekt, an dem fast fünfzig europäische Hersteller sowie Forschungs- und Technologieorganisationen beteiligt sind, arbeitet an zukunftsweisenden und stark vernetzten cyber-physischen Systemen. Dabei wird ein neuartiger Industrie 4.0-Ansatz verfolgt, der Messtechnik-Datenanalyse und -Design mit Methoden des maschinellen Lernens und der Bildung digitaler Zwillinge kombiniert. MADEin4 hat das Ziel, das Wachstum der europäischen Halbleiter- und Automobilindustrie voranzubringen. Es wird den Herstellern den vorkommerziellen Zugang zu Prüfmustern ermöglichen, indem Verbindungen zu großen Forschungs- und Technologieorganisationen geknüpft werden.

Ziel

The metrology domain (which could be considered as the ‘eyes and ears’ for both R&D&I and production) is a key enabler for productivity enhancements in many industries across the electronic components and system (ECS) value chain and have to be an integral part of any Cyber Physical Systems (CPS) which consist of metrology equipment, virtual metrology or Industrial internet of things (IIoT) sensors, edge and high-performance computing (HPC). The requirements from the metrology is to support ALL process steps toward the final product. However, for any given ECS technology, there is a significant trade-off between the metrology sensitivity, precision and accuracy to its productivity. MADEin4 address this deficiency by focusing on two productivity boosters which are independent from the sensitivity, precision and accuracy requirements: • Productivity booster 1: High throughput, next generation metrology and inspection tools development for the nanoelectronics industry (all nodes down to 5nm). This booster will be developed by the metrology equipment’s manufacturers and demonstrated in an industry 4.0 pilot line at imec and address the ECS equipment, materials and manufacturing major challenges (MASP Chapter 15, major challenges 1 – 3). • Productivity booster 2: CPS development which combines Machine Learning (ML) of design (EDA) and metrology data for predictive diagnostics of the process and tools performances predictive diagnostics of the process and tools performances (predictive yield and tools performance). This booster will be developed and demonstrated in an industry 4.0 pilot line at imec, for the 5nm node, by the EDA, computing and metrology partners (MASP Chapter 15, major challenge 4). The same CPS concept will be demonstrated for the ‘digital industries’ two major challenges of the nanoelectronics (all nodes down to 5nm) and automotive end user’s partners (MASP Chapter 9, major challenges 1and 3).

Wissenschaftliches Gebiet

Schlüsselbegriffe

Programm/Programme

Thema/Themen

Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

H2020-ECSEL-2018-1-IA-two-stage

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Finanzierungsplan

IA - Innovation action

Koordinator

APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD
Netto-EU-Beitrag
€ 2 608 045,90
Adresse
OPPENHEIMER STREET 9
76705 Rehovot
Israel

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Aktivitätstyp
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Links
Gesamtkosten
€ 13 040 229,50

Beteiligte (48)

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Letzte Aktualisierung: 6 März 2024

Mein Booklet

Permalink: https://cordis.europa.eu/project/id/826589/de

European Union, 2024