Derechos de propiedad intelectual Trademark (4) EpiNex Número de solicitud/publicación: DE 1535171 Fecha: 2020-03-16 EpiNex Número de solicitud/publicación: DE 1535171 Fecha: 2020-03-16 NexWafe Número de solicitud/publicación: DE 1269430 Fecha: 2015-07-24 NexWafe Número de solicitud/publicación: DE 1269430 Fecha: 2015-07-24 Patent (18) METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES Número de solicitud/publicación: 17 761219 Fecha: 2017-08-24 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER Número de solicitud/publicación: 17 717389 Fecha: 2016-09-27 PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION Número de solicitud/publicación: 18 712202 Fecha: 2018-03-19 METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER Número de solicitud/publicación: 20 20079032 Fecha: 2020-10-15 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE Número de solicitud/publicación: 19 723738 Fecha: 2019-05-06 METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES Número de solicitud/publicación: 18 793404 Fecha: 2018-10-25 PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES Número de solicitud/publicación: 18 792913 Fecha: 2018-10-19 METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES Número de solicitud/publicación: 17 761219 Fecha: 2017-08-24 SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF Número de solicitud/publicación: 17 717389 Fecha: 2017-04-11 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE Número de solicitud/publicación: 16 819015 Fecha: 2016-12-08 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE Número de solicitud/publicación: 19 723738 Fecha: 2019-05-06 METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER Número de solicitud/publicación: 20 20079032 Fecha: 2020-10-15 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE Número de solicitud/publicación: 16 819015 Fecha: 2016-12-08 METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES Número de solicitud/publicación: 18 793404 Fecha: 2018-10-25 PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION Número de solicitud/publicación: 18 712202 Fecha: 2018-03-19 SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF Número de solicitud/publicación: 17 717389 Fecha: 2017-04-11 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER Número de solicitud/publicación: 17 717389 Fecha: 2016-09-27 PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES Número de solicitud/publicación: 18 792913 Fecha: 2018-10-19 Buscando datos de OpenAIRE... Se ha producido un error en la búsqueda de datos de OpenAIRE No hay resultados disponibles
