The ultimate solar power revolution: a technology that maximises solar wafer efficiency whilst drastically cutting manufacturing costs

Projektinformationen

EpiNex

ID Finanzhilfevereinbarung: 967987

DOI

10.3030/967987

Projekt abgeschlossen

EK-Unterschriftsdatum 25 Januar 2021

Startdatum 1 Februar 2021

Enddatum 30 November 2023

Finanziert unter

• INDUSTRIAL LEADERSHIP - Innovation In SMEs

Gesamtkosten

€ 3 485 573,75

EU-Beitrag

€ 2 439 901,63

Koordiniert durch

NEXWAFE GMBH
Germany

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Links zu Ergebnissen und Veröffentlichungen von RP7-Projekten sowie Links zu einigen Typen spezifischer Ergebnisse wie Datensätzen und Software werden dynamisch von OpenAIRE abgerufen.

Rechte des geistigen Eigentums

Patent (9)

PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION

Antrags-/Publikationsnummer: 18 712202
Datum: 2018-03-19
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER

Antrags-/Publikationsnummer: 17 717389
Datum: 2016-09-27
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES

Antrags-/Publikationsnummer: 18 792913
Datum: 2018-10-19
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF

Antrags-/Publikationsnummer: 17 717389
Datum: 2017-04-11
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER

Antrags-/Publikationsnummer: 20 20079032
Datum: 2020-10-15
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES

Antrags-/Publikationsnummer: 17 761219
Datum: 2017-08-24
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE

Antrags-/Publikationsnummer: 19 723738
Datum: 2019-05-06
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

Antrags-/Publikationsnummer: 16 819015
Datum: 2016-12-08
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES

Antrags-/Publikationsnummer: 18 793404
Datum: 2018-10-25
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

Trademark (2)

EpiNex

Antrags-/Publikationsnummer: DE 1535171
Datum: 2020-03-16
Antragsteller: NEXWAFE GMBH

NexWafe

Antrags-/Publikationsnummer: DE 1269430
Datum: 2015-07-24
Antragsteller: NEXWAFE GMBH