Diritti di proprietà intellettuale Trademark (4) EpiNex Numero candidatura/pubblicazione: DE 1535171 Data: 2020-03-16 EpiNex Numero candidatura/pubblicazione: DE 1535171 Data: 2020-03-16 NexWafe Numero candidatura/pubblicazione: DE 1269430 Data: 2015-07-24 NexWafe Numero candidatura/pubblicazione: DE 1269430 Data: 2015-07-24 Patent (18) METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES Numero candidatura/pubblicazione: 17 761219 Data: 2017-08-24 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER Numero candidatura/pubblicazione: 17 717389 Data: 2016-09-27 PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION Numero candidatura/pubblicazione: 18 712202 Data: 2018-03-19 METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER Numero candidatura/pubblicazione: 20 20079032 Data: 2020-10-15 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE Numero candidatura/pubblicazione: 19 723738 Data: 2019-05-06 METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES Numero candidatura/pubblicazione: 18 793404 Data: 2018-10-25 PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES Numero candidatura/pubblicazione: 18 792913 Data: 2018-10-19 METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES Numero candidatura/pubblicazione: 17 761219 Data: 2017-08-24 SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF Numero candidatura/pubblicazione: 17 717389 Data: 2017-04-11 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE Numero candidatura/pubblicazione: 16 819015 Data: 2016-12-08 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE Numero candidatura/pubblicazione: 19 723738 Data: 2019-05-06 METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER Numero candidatura/pubblicazione: 20 20079032 Data: 2020-10-15 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE Numero candidatura/pubblicazione: 16 819015 Data: 2016-12-08 METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES Numero candidatura/pubblicazione: 18 793404 Data: 2018-10-25 PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION Numero candidatura/pubblicazione: 18 712202 Data: 2018-03-19 SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF Numero candidatura/pubblicazione: 17 717389 Data: 2017-04-11 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER Numero candidatura/pubblicazione: 17 717389 Data: 2016-09-27 PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES Numero candidatura/pubblicazione: 18 792913 Data: 2018-10-19 È in corso la ricerca di dati su OpenAIRE... Si è verificato un errore durante la ricerca dei dati su OpenAIRE Nessun risultato disponibile
