The ultimate solar power revolution: a technology that maximises solar wafer efficiency whilst drastically cutting manufacturing costs

Informacje na temat projektu

EpiNex

Identyfikator umowy o grant: 967987

DOI

10.3030/967987

Projekt został zamknięty

Data podpisania przez KE 25 Stycznia 2021

Data rozpoczęcia 1 Lutego 2021

Data zakończenia 30 Listopada 2023

Finansowanie w ramach

• INDUSTRIAL LEADERSHIP - Innovation In SMEs

Koszt całkowity

€ 3 485 573,75

Wkład UE

€ 2 439 901,63

Koordynowany przez

NEXWAFE GMBH
Germany

CORDIS oferuje możliwość skorzystania z odnośników do publicznie dostępnych publikacji i rezultatów projektów realizowanych w ramach programów ramowych HORYZONT.

Odnośniki do rezultatów i publikacji związanych z poszczególnymi projektami 7PR, a także odnośniki do niektórych konkretnych kategorii wyników, takich jak zbiory danych i oprogramowanie, są dynamicznie pobierane z systemu OpenAIRE .

Prawa własności intelektualnej

Patent (9)

PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION

Numer wniosku/publikacji: 18 712202
Data: 2018-03-19
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER

Numer wniosku/publikacji: 17 717389
Data: 2016-09-27
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES

Numer wniosku/publikacji: 18 792913
Data: 2018-10-19
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF

Numer wniosku/publikacji: 17 717389
Data: 2017-04-11
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER

Numer wniosku/publikacji: 20 20079032
Data: 2020-10-15
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES

Numer wniosku/publikacji: 17 761219
Data: 2017-08-24
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE

Numer wniosku/publikacji: 19 723738
Data: 2019-05-06
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

Numer wniosku/publikacji: 16 819015
Data: 2016-12-08
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES

Numer wniosku/publikacji: 18 793404
Data: 2018-10-25
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

Trademark (2)

EpiNex

Numer wniosku/publikacji: DE 1535171
Data: 2020-03-16
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH

NexWafe

Numer wniosku/publikacji: DE 1269430
Data: 2015-07-24
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NEXWAFE GMBH