Prawa własności intelektualnej Trademark (4) EpiNex Numer wniosku/publikacji: DE 1535171 Data: 2020-03-16 EpiNex Numer wniosku/publikacji: DE 1535171 Data: 2020-03-16 NexWafe Numer wniosku/publikacji: DE 1269430 Data: 2015-07-24 NexWafe Numer wniosku/publikacji: DE 1269430 Data: 2015-07-24 Patent (18) METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES Numer wniosku/publikacji: 17 761219 Data: 2017-08-24 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER Numer wniosku/publikacji: 17 717389 Data: 2016-09-27 PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION Numer wniosku/publikacji: 18 712202 Data: 2018-03-19 METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER Numer wniosku/publikacji: 20 20079032 Data: 2020-10-15 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE Numer wniosku/publikacji: 19 723738 Data: 2019-05-06 METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES Numer wniosku/publikacji: 18 793404 Data: 2018-10-25 PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES Numer wniosku/publikacji: 18 792913 Data: 2018-10-19 METHOD FOR ARRANGING A PLURALITY OF SEED SUBSTRATES ON A CARRIER ELEMENT AND CARRIER ELEMENT HAVING SEED SUBSTRATES Numer wniosku/publikacji: 17 761219 Data: 2017-08-24 SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF Numer wniosku/publikacji: 17 717389 Data: 2017-04-11 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE Numer wniosku/publikacji: 16 819015 Data: 2016-12-08 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR LAYER OF A WORKPIECE Numer wniosku/publikacji: 19 723738 Data: 2019-05-06 METHOD AND CARRIER ELEMENT FOR PRODUCING A WAFER LAYER Numer wniosku/publikacji: 20 20079032 Data: 2020-10-15 APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING ONE SIDE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE Numer wniosku/publikacji: 16 819015 Data: 2016-12-08 METHOD AND APPARATUS FOR THE CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION OF SILICON ON SUBSTRATES Numer wniosku/publikacji: 18 793404 Data: 2018-10-25 PROCESS CHAMBER GUIDE, PROCESS CHAMBER, AND METHOD FOR GUIDING A SUBSTRATE CARRIER IN A PROCESS POSITION Numer wniosku/publikacji: 18 712202 Data: 2018-03-19 SILICON WAFER FOR AN ELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF Numer wniosku/publikacji: 17 717389 Data: 2017-04-11 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER Numer wniosku/publikacji: 17 717389 Data: 2016-09-27 PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF IMPURITIES FROM CHLOROSILANES Numer wniosku/publikacji: 18 792913 Data: 2018-10-19 Wyszukiwanie danych OpenAIRE... Podczas wyszukiwania danych OpenAIRE wystąpił błąd Brak wyników
