Objectif
EUV lithography offers considerable potential as a method to image ultra-fine structures with dimensions well below 100 nm. In this method short wavelength radiation in the 5 to 20 nm interval is employed to produce diffraction-limited images by special EUV optical systems. Before this technique can be utilized in, for example, semiconductor fabrication, vigorous development of fundamental physical processes is required. These are primarily in the area of the source and the optics, the principal elements which will operate at substantially shorter wavelengths than current imaging systems.
Development of a laser plasma source with high power in the EUV spectral range has proved to be a promising approach. This room-scale and economical source is attractive for basic research in general and for lithography in particular. However, the contamination produced by the source requires additional understanding and the application of mitigation methods before delicate optics can be used safely.
The aim in this project is to combine the source with a high-transmission system of curved multilayer EUV mirrors which will enable the demonstration of diffraction limited resolution of below 100 nm. This goal is now attainable for two main reasons: the recent progress in the development of laser drivers (the use of compact subkilowatt excimer lasers is part of this proposal) and multilayer coating facilities (with the capability to produce coatings on substrates with strong curvature or large dimensions); and the combination of experience, technologies and equipment of the laboratories participating, covering the major physics themes involved. These include spectrally selective enhancement of source intensity, suppression of contamination of optics exposed to the source, multilayer fabrication and analysis methods for a large area and strongly curved mirrors, and optimization of EUV optical systems with high numerical apertures.
In the framework of the project the following work will be done: specification and optimisation of source parameters and of optical components; fabrication of thin windows; effects of temperature on multilayer optics; spectroscopic determination of physical parameters of the laser plasma EUV source; development and manufacture of elements for UV and EUV optical systems; fabrication of reflection and transmission EUV masks; investigation and optimization of laser plasma source radiation parameters for EUVL; theoretical development of a gas-dynamical technique for debris suppression; development of techniques for fabrication and characterization of spherical multilayer mirrors for EUVL; and manufacture of experimental samples.
Champ scientifique (EuroSciVoc)
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Programme(s)
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
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Thème(s)
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Appel à propositions
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Données non disponibles
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Régime de financement
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Données non disponibles
Coordinateur
3439 MN Nieuwegein
Pays-Bas
Les coûts totaux encourus par l’organisation concernée pour participer au projet, y compris les coûts directs et indirects. Ce montant est un sous-ensemble du budget global du projet.