Ziel
EUV lithography offers considerable potential as a method to image ultra-fine structures with dimensions well below 100 nm. In this method short wavelength radiation in the 5 to 20 nm interval is employed to produce diffraction-limited images by special EUV optical systems. Before this technique can be utilized in, for example, semiconductor fabrication, vigorous development of fundamental physical processes is required. These are primarily in the area of the source and the optics, the principal elements which will operate at substantially shorter wavelengths than current imaging systems.
Development of a laser plasma source with high power in the EUV spectral range has proved to be a promising approach. This room-scale and economical source is attractive for basic research in general and for lithography in particular. However, the contamination produced by the source requires additional understanding and the application of mitigation methods before delicate optics can be used safely.
The aim in this project is to combine the source with a high-transmission system of curved multilayer EUV mirrors which will enable the demonstration of diffraction limited resolution of below 100 nm. This goal is now attainable for two main reasons: the recent progress in the development of laser drivers (the use of compact subkilowatt excimer lasers is part of this proposal) and multilayer coating facilities (with the capability to produce coatings on substrates with strong curvature or large dimensions); and the combination of experience, technologies and equipment of the laboratories participating, covering the major physics themes involved. These include spectrally selective enhancement of source intensity, suppression of contamination of optics exposed to the source, multilayer fabrication and analysis methods for a large area and strongly curved mirrors, and optimization of EUV optical systems with high numerical apertures.
In the framework of the project the following work will be done: specification and optimisation of source parameters and of optical components; fabrication of thin windows; effects of temperature on multilayer optics; spectroscopic determination of physical parameters of the laser plasma EUV source; development and manufacture of elements for UV and EUV optical systems; fabrication of reflection and transmission EUV masks; investigation and optimization of laser plasma source radiation parameters for EUVL; theoretical development of a gas-dynamical technique for debris suppression; development of techniques for fabrication and characterization of spherical multilayer mirrors for EUVL; and manufacture of experimental samples.
Wissenschaftliches Gebiet (EuroSciVoc)
CORDIS klassifiziert Projekte mit EuroSciVoc, einer mehrsprachigen Taxonomie der Wissenschaftsbereiche, durch einen halbautomatischen Prozess, der auf Verfahren der Verarbeitung natürlicher Sprache beruht. Siehe: Das European Science Vocabulary.
CORDIS klassifiziert Projekte mit EuroSciVoc, einer mehrsprachigen Taxonomie der Wissenschaftsbereiche, durch einen halbautomatischen Prozess, der auf Verfahren der Verarbeitung natürlicher Sprache beruht. Siehe: Das European Science Vocabulary.
Dieses Projekt wurde noch nicht bei EuroSciVoc klassifiziert.
Schlagen Sie die Wissenschaftsbereiche vor, die Ihrer Einschätzung nach besonders relevant sind, und helfen Sie uns, unseren Klassifizierungsdienst zu verbessern.
Sie müssen sich anmelden oder registrieren, um diese Funktion zu nutzen
Programm/Programme
Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.
Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.
Thema/Themen
Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.
Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.
Aufforderung zur Vorschlagseinreichung
Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.
Daten nicht verfügbar
Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.
Finanzierungsplan
Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.
Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.
Daten nicht verfügbar
Koordinator
3439 MN Nieuwegein
Niederlande
Die Gesamtkosten, die dieser Organisation durch die Beteiligung am Projekt entstanden sind, einschließlich der direkten und indirekten Kosten. Dieser Betrag ist Teil des Gesamtbudgets des Projekts.