Obiettivo
EUV lithography offers considerable potential as a method to image ultra-fine structures with dimensions well below 100 nm. In this method short wavelength radiation in the 5 to 20 nm interval is employed to produce diffraction-limited images by special EUV optical systems. Before this technique can be utilized in, for example, semiconductor fabrication, vigorous development of fundamental physical processes is required. These are primarily in the area of the source and the optics, the principal elements which will operate at substantially shorter wavelengths than current imaging systems.
Development of a laser plasma source with high power in the EUV spectral range has proved to be a promising approach. This room-scale and economical source is attractive for basic research in general and for lithography in particular. However, the contamination produced by the source requires additional understanding and the application of mitigation methods before delicate optics can be used safely.
The aim in this project is to combine the source with a high-transmission system of curved multilayer EUV mirrors which will enable the demonstration of diffraction limited resolution of below 100 nm. This goal is now attainable for two main reasons: the recent progress in the development of laser drivers (the use of compact subkilowatt excimer lasers is part of this proposal) and multilayer coating facilities (with the capability to produce coatings on substrates with strong curvature or large dimensions); and the combination of experience, technologies and equipment of the laboratories participating, covering the major physics themes involved. These include spectrally selective enhancement of source intensity, suppression of contamination of optics exposed to the source, multilayer fabrication and analysis methods for a large area and strongly curved mirrors, and optimization of EUV optical systems with high numerical apertures.
In the framework of the project the following work will be done: specification and optimisation of source parameters and of optical components; fabrication of thin windows; effects of temperature on multilayer optics; spectroscopic determination of physical parameters of the laser plasma EUV source; development and manufacture of elements for UV and EUV optical systems; fabrication of reflection and transmission EUV masks; investigation and optimization of laser plasma source radiation parameters for EUVL; theoretical development of a gas-dynamical technique for debris suppression; development of techniques for fabrication and characterization of spherical multilayer mirrors for EUVL; and manufacture of experimental samples.
Campo scientifico (EuroSciVoc)
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
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Programma(i)
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Argomento(i)
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Invito a presentare proposte
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Dati non disponibili
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Meccanismo di finanziamento
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Dati non disponibili
Coordinatore
3439 MN Nieuwegein
Paesi Bassi
I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.