Objetivo
Rapid progress of the physics research on Extreme Ultraviolet Lithography, the high-resolution imaging technique operating at 13 nm wavelength, has enabled several successful proof-of-principle demonstrations in the past years. Major results achieved by the proposers through national and former INTAS projects (i.e. INTAS 94-4341) include a record source power of 0.25 W (1% BW at 13 nm), novel debris mitigation schemes allowing long (108 shots) service intervals of the source, optics reflectivities of 64 %, and fabrication of repairable EUV reflection masks. EUVL is now seriously being evaluated by industrial parties as the lithographic technique to be used after the Deep UV technology used for chip manufacture. Especially in Europe great prospects exist due to the infrastructure of relevant hi-tech industries such as stepper - (ASM Lithography) and optics (Carl Zeiss) manufacturers, and a network of institutions carrying out supportive scientific research. A direct linkage exists of the proposers to the industry involved. Despite of this industrial interest, a number of unanswered research questions jeopardizes the further step of EUVL from the physics research into the engineering phase.
This project addresses the following research issues:
Advanced EUV source concepts, involving fast rotating and gas jet targets Analysis and design of optimal mask illumination schemes Study of EUV source and MLM optics for the 11 nm spectral range Advanced multilayer-strate interplay phenomena Investigation of alternative EUV resist formulae Development of EUV mask repair methods The project proposed is expected to link highly relevant Russian expertise to the pre-competitive European development of strategic semiconductor equipment.
Programa(s)
Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.
Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.
Tema(s)
Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.
Datos no disponibles
Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.
Convocatoria de propuestas
Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.
Datos no disponibles
Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.
Régimen de financiación
Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.
Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.
Datos no disponibles
Coordinador
3430 BE Nieuwegein
Países Bajos
Los costes totales en que ha incurrido esta organización para participar en el proyecto, incluidos los costes directos e indirectos. Este importe es un subconjunto del presupuesto total del proyecto.