Cel
Rapid progress of the physics research on Extreme Ultraviolet Lithography, the high-resolution imaging technique operating at 13 nm wavelength, has enabled several successful proof-of-principle demonstrations in the past years. Major results achieved by the proposers through national and former INTAS projects (i.e. INTAS 94-4341) include a record source power of 0.25 W (1% BW at 13 nm), novel debris mitigation schemes allowing long (108 shots) service intervals of the source, optics reflectivities of 64 %, and fabrication of repairable EUV reflection masks. EUVL is now seriously being evaluated by industrial parties as the lithographic technique to be used after the Deep UV technology used for chip manufacture. Especially in Europe great prospects exist due to the infrastructure of relevant hi-tech industries such as stepper - (ASM Lithography) and optics (Carl Zeiss) manufacturers, and a network of institutions carrying out supportive scientific research. A direct linkage exists of the proposers to the industry involved. Despite of this industrial interest, a number of unanswered research questions jeopardizes the further step of EUVL from the physics research into the engineering phase.
This project addresses the following research issues:
Advanced EUV source concepts, involving fast rotating and gas jet targets Analysis and design of optimal mask illumination schemes Study of EUV source and MLM optics for the 11 nm spectral range Advanced multilayer-strate interplay phenomena Investigation of alternative EUV resist formulae Development of EUV mask repair methods The project proposed is expected to link highly relevant Russian expertise to the pre-competitive European development of strategic semiconductor equipment.
Program(-y)
Wieloletnie programy finansowania, które określają priorytety Unii Europejskiej w obszarach badań naukowych i innowacji.
Wieloletnie programy finansowania, które określają priorytety Unii Europejskiej w obszarach badań naukowych i innowacji.
Temat(-y)
Zaproszenia do składania wniosków dzielą się na tematy. Każdy temat określa wybrany obszar lub wybrane zagadnienie, których powinny dotyczyć wnioski składane przez wnioskodawców. Opis tematu obejmuje jego szczegółowy zakres i oczekiwane oddziaływanie finansowanego projektu.
Brak dostępnych danych
Zaproszenia do składania wniosków dzielą się na tematy. Każdy temat określa wybrany obszar lub wybrane zagadnienie, których powinny dotyczyć wnioski składane przez wnioskodawców. Opis tematu obejmuje jego szczegółowy zakres i oczekiwane oddziaływanie finansowanego projektu.
Zaproszenie do składania wniosków
Procedura zapraszania wnioskodawców do składania wniosków projektowych w celu uzyskania finansowania ze środków Unii Europejskiej.
Brak dostępnych danych
Procedura zapraszania wnioskodawców do składania wniosków projektowych w celu uzyskania finansowania ze środków Unii Europejskiej.
System finansowania
Program finansowania (lub „rodzaj działania”) realizowany w ramach programu o wspólnych cechach. Określa zakres finansowania, stawkę zwrotu kosztów, szczegółowe kryteria oceny kwalifikowalności kosztów w celu ich finansowania oraz stosowanie uproszczonych form rozliczania kosztów, takich jak rozliczanie ryczałtowe.
Program finansowania (lub „rodzaj działania”) realizowany w ramach programu o wspólnych cechach. Określa zakres finansowania, stawkę zwrotu kosztów, szczegółowe kryteria oceny kwalifikowalności kosztów w celu ich finansowania oraz stosowanie uproszczonych form rozliczania kosztów, takich jak rozliczanie ryczałtowe.
Brak dostępnych danych
Koordynator
3430 BE Nieuwegein
Niderlandy
Ogół kosztów poniesionych przez organizację w związku z uczestnictwem w projekcie. Obejmuje koszty bezpośrednie i pośrednie. Kwota stanowi część całkowitego budżetu projektu.