Obiettivo
Rapid progress of the physics research on Extreme Ultraviolet Lithography, the high-resolution imaging technique operating at 13 nm wavelength, has enabled several successful proof-of-principle demonstrations in the past years. Major results achieved by the proposers through national and former INTAS projects (i.e. INTAS 94-4341) include a record source power of 0.25 W (1% BW at 13 nm), novel debris mitigation schemes allowing long (108 shots) service intervals of the source, optics reflectivities of 64 %, and fabrication of repairable EUV reflection masks. EUVL is now seriously being evaluated by industrial parties as the lithographic technique to be used after the Deep UV technology used for chip manufacture. Especially in Europe great prospects exist due to the infrastructure of relevant hi-tech industries such as stepper - (ASM Lithography) and optics (Carl Zeiss) manufacturers, and a network of institutions carrying out supportive scientific research. A direct linkage exists of the proposers to the industry involved. Despite of this industrial interest, a number of unanswered research questions jeopardizes the further step of EUVL from the physics research into the engineering phase.
This project addresses the following research issues:
Advanced EUV source concepts, involving fast rotating and gas jet targets Analysis and design of optimal mask illumination schemes Study of EUV source and MLM optics for the 11 nm spectral range Advanced multilayer-strate interplay phenomena Investigation of alternative EUV resist formulae Development of EUV mask repair methods The project proposed is expected to link highly relevant Russian expertise to the pre-competitive European development of strategic semiconductor equipment.
Programma(i)
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Argomento(i)
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Dati non disponibili
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Invito a presentare proposte
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Dati non disponibili
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Meccanismo di finanziamento
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Dati non disponibili
Coordinatore
3430 BE Nieuwegein
Paesi Bassi
I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.