Obiettivo
The primary aim is the development of atom lithography nanotechnologies based on the deposition of atoms focused by laser light. Final goal is the production of nanostructures in the 10 nm range. Crucial steps are:
1) Development of 10 nm depositions on the basis of a common atomic species, caesium;
2) Realisation of a flux-enhanced nanopencil;
3) Test of laser sources for group III atoms, indium and gallium;
4) Deposition of indium and gallium;
5) In-situ diagnostics;
6) Characterization of the surface processes defining the deposition limit size;
7) Fabrication of nanotechnology based devices, e.g; nanometer scale photo-detectors and electron-sources, nano-islands, 3-D photonic crystals. The primary aim is the development of atom lithography nanotechnologies based on the deposition of atoms focused by laser light. Final goal is the production of nanostructures in the 10 nm range. Crucial steps are:
1) Development of 10 nm depositions on the basis of a common atomic species, caesium;
2) Realisation of a flux-enhanced nanopencil;
3) Test of laser sources for group III atoms, indium and gallium;
4) Deposition of indium and gallium;
5) In-situ diagnostics;
6) Characterization of the surface processes defining the deposition limit size;
7) Fabrication of nanotechnology based devices, e.g; nanometer scale photo-detectors and electron-sources, nano-islands, 3-D photonic crystals.
OBJECTIVES
Main objective is the development, assessment and exploitation of the atom lithography technique for the fabrication of nanostructures in the ten nanometres range, for applications in information technology. Major theme is atom lithography of group III materials, as In and Ga, which will open an innovative approach based on the integration with well established deposition methods. Growth control at the atomic scale, regular spatial ordering, superior spatial definition, parallel operation, will be exploited in the fabrication of basic building blocks for innovative devices, to be used in space resolved photoemission, single electron devices, photonic crystals. Detailed experimental and theoretical analyses will be carried out in order to define advantages and limits of our process in view of industrial applications.
DESCRIPTION OF WORK
The primary goal is the development of nanotechnologies based on the deposition of atoms focused by laser light. The main objective to make progress towards the fabrication of basic elements relevant for electronics, optoelectronics and information technology applications. One major theme is the atom lithography of indium and gallium, two elements playing a major role in many technological applications. The structure and time-table of our Workplan reflects both the basic steps required to develop nanotechnologies in the 10 nm range and the application of these nanotechnologies to the production of devices.
The crucial steps in the proposed development of the technology are:
(i) development of 10 nm atom lithography on the basis of a common atomic species, caesium;
(ii) test of laser sources for group III atoms, indium and gallium;
(iii) atom lithography of indium and gallium;
(iv) characterisation of surface processes affecting the limit lateral size;
(v) fabrication of nanotechnology based devices.
The main structure of the Workplan, divided into 6 workpackages and 12 deliverables, follows the following scheme:
(i) In the first part of the project, research actions will be undertaken by the each partner in order to synergistically amplify the scientific and technological components needed for the project objectives. The consortium will push to the limit the atom lithography process of caesium atoms, while developing the required tools for handling different atomic species;
(ii) On the basis of the results achieved participants will define the optical mask configuration required for obtaining the narrowest nanostructures;
(iii) The technologically relevant materials will be used to fabricate several devices, and at the same time devices based on the caesium nanodeposition will be produced.
Campo scientifico (EuroSciVoc)
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
- scienze naturali scienze fisiche elettromagnetismo ed elettronica optoelettronica
- ingegneria e tecnologia ingegneria elettrica, ingegneria elettronica, ingegneria informatica ingegneria elettronica sensori sensori ottici
- ingegneria e tecnologia nanotecnologia
- scienze naturali scienze chimiche chimica inorganica metalli di post-transizione
- scienze naturali scienze fisiche ottica fisica dei laser
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Parole chiave
Parole chiave del progetto, indicate dal coordinatore del progetto. Da non confondere con la tassonomia EuroSciVoc (campo scientifico).
Parole chiave del progetto, indicate dal coordinatore del progetto. Da non confondere con la tassonomia EuroSciVoc (campo scientifico).
Programma(i)
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Argomento(i)
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Invito a presentare proposte
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Dati non disponibili
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Meccanismo di finanziamento
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Coordinatore
16152 GENOVA
Italia
I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.