Obiettivo
The aim of this project is t o overcome all the disadvantages of the present CVD and PVD techniques. To achieve this result combinations of Physical Vapour Deposition (PVD) or Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (PACVD) enhanced by high energy ion beam bombardment will be studied. These studies will also of course, be combined with the necessary robotics to allow the treatment of complex geometrical shapes and to solve real industrial applications by producing new materials with high degree of reproducibility through total automation. In order to achieve thicker modified layers and higher implanted concentrations new processes involving both film deposition and ion implantation will be developed. The ion beam will play an important role in increasing the adhesion and uniformity of hte deposited film, and eventually in converting it into a chemically different material, e.g. a carbide or a nitride.
The aim of this project is to overcome all the disadvantages of the present chemical vapour deposition (CVD) and physical vapour deposition (PVD) techniques. To achieve this combinations of PVD or plasma assisted chemical vapour deposition (PACVD) enhanced by high energy ion beam bombardment are studied.
The results of this research are shown:
Titanium nitride can be synthesised by numerous methods including CVD, PVD, PACVD, and ion beam assisted deposition (IBAD). The aim of this phase was to demonstrate the utility of ion assistance in low temperature deposition process for increasing the film quality and performance.
By comparison of different properties, mainly morphology, chemical composition, mechanical properties and chemical resistance, it has been shown that it is possible to obtain titanium nitrate (TiN) at low temperature (250 C) with an acceptable growth rate; the stoichiometry can be adjusted in a large range of composition; the coatings are crystalline to X-ray diffraction (XRD) with a preferential orientation linked to the incident ion energy.
High energy bombardment leads to columnar structure:
Ion beam assisted deposition leads to film densification. The mechanism of the densification may be the related atomic displacement in the collision cascades, enhanced surface and bulk diffusion, recoil implantation and ion mixing mechanisms. One consequence of IBAD is void elimination.
Because of the line of sight nature of conventional IBAD a manipulator stage is required to rotate and translate the target in the beam to bombard all sides of the target.
To avoid this manipulator a new process is developed. In PSIAD (plasma source ion assisted deposition) the target is placed directly in the plasma source and is pulse biased to negative potential relative to the chamber wall. Ions are accelerated towards the target surface, across the plasma sheath, eliminating the line of sight problems of conventional IBAD and thus all the exposed areas are bom barded simultaneously. The elimination of target manipulation is a particular advantage of PSIAD, especially for heavy and large targets.
The next stage will be the design and construction of a prototype machine.
Campo scientifico (EuroSciVoc)
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
- scienze naturali scienze chimiche chimica inorganica composti inorganici
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Programma(i)
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Argomento(i)
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Dati non disponibili
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Invito a presentare proposte
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Dati non disponibili
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Meccanismo di finanziamento
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Dati non disponibili
Coordinatore
42000 Saint-Étienne
Francia
I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.