Une méthode de nanoimpression précise
La formation de schémas sur les substrats comme ceux requis pour les circuits imprimés s'est principalement basée sur l'impression lithographique. Dans ce processus, un masque polymérique est utilisé pour transférer une image à un substrat revêtu d'émulsion photo-sensible (photo-résistant). La résolution et la précision peuvent être limitées par la distorsion du masque et du substrat pendant le traitement. La nouvelle technologie est requise pour les structures nanométriques actuelles. La lithographie sans masque emploie la radiation ciblée pour former directement une image à l'agent photorésistant. Elle a de nombreux avantages y compris la suppression du besoin de produire des masques pour chaque procédé, assurer une résolution renforcée et un débit élevé. Le développement de nouvelles technologies de fabrication exploitant ces concepts a été l'attention du projet financé par l'UE LASERNAMI («Laser nanoscale manufacturing»). Les scientifiques ont apporté des technologies avec de nombreux avantages en comparaison aux autres techniques avancées dont les faisceaux d'ions, les faisceaux d'électrons, les sondes à balayage et la lithographie par nanoimpression. La nouvelle approche est simple, abordable et versatile. Elle associe une distance de travail longue et est compatible avec différents substrats pour des applications bidimensionnelles et tridimensionnelles. Deux systèmes de lithographie d'interférence ont été développés pour son exploitation. Un système fonctionne avec quatre faisceaux et l'autre fonctionne grâce à un laser à plusieurs longueurs d'ondes innovant (cinq longueurs d'ondes différentes) avec des faisceaux entre deux et six. Les scientifiques ont accompli une super-résolution de niveau record au-delà de la limite de diffraction de lumière (jusqu'à 50 nanomètres). L'équipe a utilisé la nouvelle technologie pour fabriquer une variété de dispositifs y compris les nanogrillages, les marqueurs de sécurité contre la contrefaçon et les nanocapteurs. La nanofabrication repousse les limites du développement du produit et continuera à être utile dans la miniaturisation et la fonctionnalisation de dispositifs dans pratiquement tous les domaines. La technologie de l'UE devrait jouer un rôle important.
Mots‑clés
Nanofabrication, nanocapteur, impression lithographique, masque, photorésistance, substrat, nanoéchelle, sans masque, interférence, nanogrillage
