Fotoincisione perfettamente precisa
La formazione di incisioni su substrati come quelli necessari per le schede di circuito stampate da sempre si basa sull'impressione litografica. In questo processo, si utilizza una maschera in polimero per trasferire un'immagine su un supporto fotoresistente (rivestito da emulsione fotosensibile). La risoluzione e la precisione possono essere limitate dalla distorsione sia della maschera che del substrato nel corso dell'elaborazione. Per le strutture odierne su nanoscala è necessaria una nuova tecnologia. La litografia senza maschera utilizza un'irradiazione mirata per incidere direttamente un'immagine sul supporto fotoresistente. Questo presenta numerosi vantaggi, incluse l'eliminazione della necessità di produrre maschere per ogni processo, una maggiore risoluzione e una produzione superiore. Lo sviluppo di nuove tecniche di produzione che sfruttano questi concetti è stato al centro del progetto LASERNAMI ("Laser nanoscale manufacturing"), finanziato dall'UE. Gli scienziati hanno progettato tecnologie con numerosi vantaggi rispetto ad altre tecnologie avanzate, inclusi raggio ionico, fascio di elettroni, sonda di scansione e nano impressione litografica. Il nuovo approccio è semplice, economico e versatile. Consente il lavoro a lunghe distanze ed è compatibile con vari substrati per applicazioni sia bidimensionali che tridimensionali. Sfruttando tale sistema sono stati sviluppati due sistemi di litografia a interferenza. Un sistema presenta quattro raggi e l'altro include un innovativo laser con lunghezze d'onda multiple (cinque diverse) con un numero di raggi da due a sei. I ricercatori hanno ottenuto un'altissima risoluzione record oltre il limite di diffrazione della luce (fino a 50 nanometri). Il team ha utilizzato la nuova tecnologia per fabbricare una serie di dispositivi, inclusi nanoreticoli, marker per la sicurezza anti contraffazione e nano sensori. La nanofabbricazione sta allargando le frontiere dello sviluppo dei prodotti e continuerà a essere importante nella miniaturizzazione e nella funzionalizzazione dei dispositivi praticamente in ogni campo. La tecnologia europea avrà un ruolo di leader in questo sviluppo.
Parole chiave
Nanofabbricazione, nano sensore, impressione litografica, maschera, fotoresistente, substrato, nanoscala, senza maschera, interferenza, nanoreticolo
