Publications
Auteurs:
Jan van Schoot
Publié dans:
Photomask Japan, Numéro 2023, 2023
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.3012436
Auteurs:
Greet Storms, Sjoerd Lok, Rob van Ballegoij, Jan van Schoot, Rudy Peeters, Diederik de Bruin, Kars Troost, Teun van Gogh
Publié dans:
SPIE Advanced Lithography + Patterning, 2022, San Jose, California, United States, 2022
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2617240
Auteurs:
Rudy Peeters
Publié dans:
SPIE Advanced Lithography + Patterning, Numéro 23 April 2023, 2023
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2658381
Auteurs:
Jan van Schoot
Publié dans:
Photomask Japan 2022, 2022, Online Only, 2022
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2656140
Auteurs:
Kaustuve Bhattacharyya, Diederik de Bruin, Rudy Peeters, Jara Garcia Santaclara, Herman Heijmerikx, Rob van Ballegoij, Eelco van Setten, Jan van Schoot, Sjoerd Lok, Greet Storms, Peter Vanoppen
Publié dans:
EUVL Conference 2023, 2023
Éditeur:
SPIE
Auteurs:
Jara Garcia Santaclara
Publié dans:
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography, 2023
Éditeur:
SPIE
Auteurs:
A. Erdmann
Publié dans:
Keynote Talk EUVL Symposium, 2023
Éditeur:
EUVL Symposium
Auteurs:
Molkenboer, F.T.
Kerkhof, P.J.
Burema, A.
Haasnoot, H.
Velthuis, J.F.M.
Hooftman, T.
Kerkhof, P.J.
Lensen, H.A
Publié dans:
2022
Éditeur:
IVC22, 22nd International Vacuum Congress (https://ivc22.org/)
Auteurs:
H. Mesilhy, P. Evanschitzky, A. Erdmann
Publié dans:
Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop, 2023
Éditeur:
Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
Auteurs:
A. Erdmann, H. Mesilhy, P. Evanschitzky, G. Bottiglieri, T. Brunner, E. van Setten, C. van Lare, M- van de Kerkhof
Publié dans:
Photomask Japan, 2023
Éditeur:
Photomask Japan
Auteurs:
H. Mesilhy, Z. Belete, P. Evanschitzky, A. Erdmann
Publié dans:
EMLC Conference, 2023
Éditeur:
EMLC Conference
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