CORDIS fornisce collegamenti ai risultati finali pubblici e alle pubblicazioni dei progetti ORIZZONTE.
I link ai risultati e alle pubblicazioni dei progetti del 7° PQ, così come i link ad alcuni tipi di risultati specifici come dataset e software, sono recuperati dinamicamente da .OpenAIRE .
Pubblicazioni
Autori:
Jan van Schoot
Pubblicato in:
Photomask Japan, Numero 2023, 2023
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.3012436
Autori:
Greet Storms, Sjoerd Lok, Rob van Ballegoij, Jan van Schoot, Rudy Peeters, Diederik de Bruin, Kars Troost, Teun van Gogh
Pubblicato in:
SPIE Advanced Lithography + Patterning, 2022, San Jose, California, United States, 2022
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2617240
Autori:
Jörg Zimmermann, Jens Timo Neumann, Dirk Jürgens, Paul Gräupner
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023, 2023, Pagina/e 47
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2687658
Autori:
Joachim Kalden, Jens Timo Neumann, Dirk Juergens, Paul Gräupner, Wolfgang Seitz, Peter Kuerz
Pubblicato in:
Optical and EUV Nanolithography XXXVII, 2024, Pagina/e 36
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.3010847
Autori:
Rudy Peeters
Pubblicato in:
SPIE Advanced Lithography + Patterning, Numero 23 April 2023, 2023
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2658381
Autori:
Jan van Schoot
Pubblicato in:
Photomask Japan 2022, 2022, Online Only, 2022
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2656140
Autori:
Görsel Yetik, Herman Bekman, Jacqueline van Veldhoven, Shriparna Mukherjee, Karima Tabakkouht, and Henk Lensen
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2024, Numero Proc. SPIE PC13215,, 2024
Editore:
SPIE
Autori:
Cederik Meekes, Dagmar A. Wismeijer, Jurjen Emmelkamp, Henk A. Lensen
Pubblicato in:
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2023, Numero Proceedings Volume PC12750, 2023
Editore:
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography
DOI:
10.1117/12.2686732
Autori:
Olaf Conradi et al.
Pubblicato in:
SPIE International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2024, 2024
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.3034698
Autori:
Kaustuve Bhattacharyya, Diederik de Bruin, Rudy Peeters, Jara Garcia Santaclara, Herman Heijmerikx, Rob van Ballegoij, Eelco van Setten, Jan van Schoot, Sjoerd Lok, Greet Storms, Peter Vanoppen
Pubblicato in:
EUVL Conference 2023, 2023
Editore:
SPIE
Autori:
Naor Alfassi, Einat Hauzer, Nina Zeng, Dolev Raiz, Gilad Reut
Pubblicato in:
SEMICON WEST 2024, Numero July 2024, 2024
Editore:
SEMICON WEST 2024
Autori:
Kleopatra Papamichou, Thomas Mechielsen, Aneta Stodólna, Erik Schuring, Henk Lensen
Pubblicato in:
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2023, Numero Proceedings Volume PC12750, 2023
Editore:
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography
DOI:
10.1117/12.2686862
Autori:
Jara Garcia Santaclara
Pubblicato in:
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography, 2023
Editore:
SPIE
Autori:
Heiko Feldmann
Pubblicato in:
Semicon Korea, 2023
Editore:
Semicon Korea
Autori:
A. Erdmann
Pubblicato in:
Keynote Talk EUVL Symposium, 2023
Editore:
EUVL Symposium
Autori:
Molkenboer, F.T. Kerkhof, P.J. Burema, A. Haasnoot, H. Velthuis, J.F.M. Hooftman, T. Kerkhof, P.J. Lensen, H.A
Pubblicato in:
IVC22, 2022
Editore:
IVC22, 22nd International Vacuum Congress (https://ivc22.org/)
Autori:
H. Mesilhy, P. Evanschitzky, A. Erdmann
Pubblicato in:
Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop, 2023
Editore:
Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
Autori:
Richard Quintanilha
Pubblicato in:
IMEKO TC 10 Conference, 2023
Editore:
IMEKO
Autori:
A. Erdmann, H. Mesilhy, P. Evanschitzky, G. Bottiglieri, T. Brunner, E. van Setten, C. van Lare, M- van de Kerkhof
Pubblicato in:
Photomask Japan, 2023
Editore:
Photomask Japan
Autori:
Martin Kaumanns
Pubblicato in:
2024 EUVL Wokrshop and Supplier Showcase, 2024
Editore:
EUV Litho Inc.
Autori:
Hartmut Enkisch
Pubblicato in:
322. PTB Seminar 2023 VUV and EUV Metrology, 2023
Editore:
PTB
Autori:
Alexey Ponomarev
Pubblicato in:
21st Workshop Beams & More IMS Stuttgart, 2024
Editore:
IMS Chips Stuttbart
Autori:
Han Velthuis
Pubblicato in:
AVS 68, Numero Paper Id: 74843; Session: VT TuM : Vac Technology for Large Vac Systems, 2022
Editore:
AVS 68th International Symposium & Exhibition
Autori:
Philip Mueller et al.
Pubblicato in:
20th Workshop Beams & More Institut für Mikroelektronik Stuttgart, 2023
Editore:
IMS Chips Stuttgart
Autori:
H. Mesilhy, Z. Belete, P. Evanschitzky, A. Erdmann
Pubblicato in:
EMLC Conference, 2023
Editore:
EMLC Conference
Autori:
Bert Pollefliet, Clement Porret, Jean-Luc Everaert, Kiroubanand Sankaran, Xiaoyu Piao, Erik Rosseel, Thierry Conard, Andrea Impagnatiello, Yosuke Shimura, Naoto Horiguchi, Roger Loo, André Vantomme and Clement Merckling
Pubblicato in:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, Numero 63, 2024, Pagina/e 02SP97, ISSN 0021-4922
Editore:
The Japan Society of Applied Physics
DOI:
10.35848/1347-4065/ad1f0d
Autori:
Vincent Wiaux, Natalia Davydova, Lieve Van Look, Nick Pellens, Ataklti Weldeslassie, Guillaume Libeert, Tatiana Kovalevich, Joost Bekaert, Frank Timmermans, Cyrus Tabery, Laura Huddleston
Pubblicato in:
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology, Numero 24, 2025, ISSN 2708-8340
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/1.jmm.24.1.011012
Autori:
Mark van de Kerkhof, Andrei M. Yakunin, Vladimir Kvon, Andrey Nikipelov, Dmitry Astakhov, Pavel Krainov, Vadim Banine
Pubblicato in:
Radiation Effects and Defects in Solids, Numero 177, 2022, Pagina/e 486-512, ISSN 1042-0150
Editore:
Taylor & Francis
DOI:
10.1080/10420150.2022.2048657
Autori:
R. Loo, A. Akula, Y. Shimura, C. Porret, E. Rosseel, T. Dursap, A. Y. Hikavyy, M. Beggiato, J. Bogdanowicz, A. Merkulov, M. Ayyad, H. Han, O. Richard, A. Impagnatiello, D. Wang, K. Yamamoto, T. Sipőcz, Á. Kerekes, H. Mertens, N. Horiguchi, R. Langer
Pubblicato in:
ECS Journal of Solid State Science and Technology, Numero 14, 2025, Pagina/e 015003, ISSN 2162-8769
Editore:
Electrochemical Society, Inc.
DOI:
10.1149/2162-8777/ada79f
Autori:
Winfried Kaiser
Pubblicato in:
IEEE Electron Devices Magazine, Numero 2, 2024, Pagina/e 23-34, ISSN 2832-7691
Editore:
IEEE
DOI:
10.1109/med.2023.3343627
Autori:
Marina Perea-Trigo, Enrique J. López-Ortiz, Jose L. Salazar-González, Juan A. Álvarez-García, J. J. Vegas Olmos
Pubblicato in:
Electronics, Numero 12, 2024, Pagina/e 146, ISSN 2079-9292
Editore:
Multidisciplinary Digital Publishing Institute
DOI:
10.3390/electronics12010146
Autori:
Faris Alhamed, Davide Scano, Piero Castoldi, Juan Jose Vegas Olmos, Ilya Vershkov, Francesco Paolucci, Filippo Cugini
Pubblicato in:
Computer Networks, Numero 227, 2023, Pagina/e 109727, ISSN 1389-1286
Editore:
Elsevier BV
DOI:
10.1016/j.comnet.2023.109727
Autori:
E. J. López-Ortiz, M. Perea-Trigo, L. M. Soria-Morillo, J. A. Álvarez-García, J. J. Vegas-Olmos
Pubblicato in:
Sensors, Numero 24, 2024, Pagina/e 3640, ISSN 1424-8220
Editore:
Multidisciplinary Digital Publishing Institute (MDPI)
DOI:
10.3390/s24113640
Autori:
E. J. López-Ortiz, M. Perea-Trigo, L. M. Soria-Morillo, F. Sancho-Caparrini, J. J. Vegas-Olmos
Pubblicato in:
Neural Computing and Applications, Numero 36, 2024, Pagina/e 11901-11918, ISSN 0941-0643
Editore:
Springer Verlag
DOI:
10.1007/s00521-024-09656-4
È in corso la ricerca di dati su OpenAIRE...
Si è verificato un errore durante la ricerca dei dati su OpenAIRE
Nessun risultato disponibile