Automated Maskless Laser Lithography Platform for First Time Right Mixed Scale Patterning

Informations projet

OPTIMAL

N° de convention de subvention: 101057029

DOI 10.3030/101057029

Date de signature de la CE 24 Mai 2022

Date de début 1 Octobre 2022

Date de fin 30 Septembre 2026

Financé au titre de

• Digital, Industry and Space

Coût total € 5 616 876,00

Contribution de l’UE € 5 616 875,00

Coordonné par

JOANNEUM RESEARCH FORSCHUNGSGESELLSCHAFT MBH
Austria

Publications

Conference proceedings (1)

Pushing deep greyscale lithography beyond 100 µm pattern depth with a novel photoresist

Auteurs: Christine Schuster, Gerda Ekindorf, Anja Voigt, Arne Schleunitz, Gabi Grützner
Publié dans: Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies, Numéro Volume 12497, 2023
Éditeur: SPIE - Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies 2023; 124970P (2023)
DOI: 10.1117/12.2661526