Automated Maskless Laser Lithography Platform for First Time Right Mixed Scale Patterning

Informacje na temat projektu

OPTIMAL

Identyfikator umowy o grant: 101057029

DOI

10.3030/101057029

Data podpisania przez KE 24 Maja 2022

Data rozpoczęcia 1 Października 2022

Data zakończenia 30 Września 2026

Finansowanie w ramach

• Digital, Industry and Space

Koszt całkowity

€ 5 616 876,00

Wkład UE

€ 5 616 875,00

Koordynowany przez

JOANNEUM RESEARCH FORSCHUNGSGESELLSCHAFT MBH
Austria

CORDIS oferuje możliwość skorzystania z odnośników do publicznie dostępnych publikacji i rezultatów projektów realizowanych w ramach programów ramowych HORYZONT.

Odnośniki do rezultatów i publikacji związanych z poszczególnymi projektami 7PR, a także odnośniki do niektórych konkretnych kategorii wyników, takich jak zbiory danych i oprogramowanie, są dynamicznie pobierane z systemu OpenAIRE .

Rezultaty

Documents, reports (2)

Lithographic patterning properties

Properties of lithographic patterning for a positive & a negative tone resist series to generate binary (2D), grayscale 2.5D and 3D patterns by using 1) a mask aligner process, 2) one photon laser & a two/ multi photon process and 3) interference lithography process, Summary of chemical, optical, mechanical, and thermal properties of resist patterns.

Plan for Dissemination and Communication

The Plan for Dissemination and Communication is a working document where the dissemination strategy and tools to be used during the life of the project are described.

Publikacje

Conference proceedings (3)

Pushing deep greyscale lithography beyond 100 µm pattern depth with a novel photoresist

Autorzy: Christine Schuster, Gerda Ekindorf, Anja Voigt, Arne Schleunitz, Gabi Grützner
Opublikowane w: Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies, Numer Volume 12497, 2023
Wydawca: SPIE - Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies 2023; 124970P (2023)
DOI: 10.1117/12.2661526

Challenges of photomask-based greyscale lithography with a highly-sensitive positive photoresist designed for>100µm deep greyscale patterns

Autorzy: Christine Schuster, Marina Heinrich, Anja Voigt, Andy Zanzal, Patrick Reynolds, Stephen DeMoor, Gerda Ekindorf, Arne Schleunitz, Gabi Gruetzner
Opublikowane w: Novel Patterning Technologies 2024, 2024
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.3010852

Design and fabrication of hierarchical microstructures for advanced optical applications

Autorzy: Daniel Mrena, Daniel Jandura, Matej Goraus, Dušan Pudiš, Christine Schuster, Anja Voigt, David Kuhness, Christine Prietl, Ladislav Kuna, Markus Postl
Opublikowane w: Holography: Advances and Modern Trends IX, 2025
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.3056720

Peer reviewed articles (2)

Data-driven optimization of maskless grayscale laser lithography

Autorzy: Adrian H. A. Lutey, David Kuhness, Seyyedhossein Mckee, Vincenzo Ferraro, Marco Negozio, Walter Belardi, Luca Romoli, Markus Postl, Barbara Stadlober
Opublikowane w: Scientific Reports, Numer 15, 2025, ISSN 2045-2322
Wydawca: Springer Science and Business Media LLC
DOI: 10.1038/S41598-025-24652-X

Combining laser interference lithography and direct write lithography for hierarchical structures fabrication

Autorzy: D. Mrena, D. Pudis, M. Goraus, Ch. Schuster, A. Voigt, D. Kuhness, Ch. Prietl, L. Kuna, M. Postl
Opublikowane w: 2024 15th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems (ASDAM), 2025, ISSN 2474-9737
Wydawca: IEEE
DOI: 10.1109/ASDAM63148.2024.10844637