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Automated Maskless Laser Lithography Platform for First Time Right Mixed Scale Patterning

Publicaciones

Pushing deep greyscale lithography beyond 100 µm pattern depth with a novel photoresist

Autores: Christine Schuster, Gerda Ekindorf, Anja Voigt, Arne Schleunitz, Gabi Grützner
Publicado en: Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies, Edición Volume 12497, 2023
Editor: SPIE - Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies 2023; 124970P (2023)
DOI: 10.1117/12.2661526

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