Automated Maskless Laser Lithography Platform for First Time Right Mixed Scale Patterning

Información del proyecto

OPTIMAL

Identificador del acuerdo de subvención: 101057029

DOI

10.3030/101057029

Fecha de la firma de la CE 24 Mayo 2022

Fecha de inicio 1 Octubre 2022

Fecha de finalización 30 Septiembre 2026

Financiado con arreglo a

• Digital, Industry and Space

Coste total

€ 5 616 876,00

Aportación de la UE

€ 5 616 875,00

Coordinado por

JOANNEUM RESEARCH FORSCHUNGSGESELLSCHAFT MBH
Austria

CORDIS proporciona enlaces a los documentos públicos y las publicaciones de los proyectos de los programas marco HORIZONTE.

Los enlaces a los documentos y las publicaciones de los proyectos del Séptimo Programa Marco, así como los enlaces a algunos tipos de resultados específicos, como conjuntos de datos y «software», se obtienen dinámicamente de OpenAIRE .

Resultado final

Documents, reports (2)

Lithographic patterning properties

Properties of lithographic patterning for a positive & a negative tone resist series to generate binary (2D), grayscale 2.5D and 3D patterns by using 1) a mask aligner process, 2) one photon laser & a two/ multi photon process and 3) interference lithography process, Summary of chemical, optical, mechanical, and thermal properties of resist patterns.

Plan for Dissemination and Communication

The Plan for Dissemination and Communication is a working document where the dissemination strategy and tools to be used during the life of the project are described.

Publicaciones

Conference proceedings (3)

Pushing deep greyscale lithography beyond 100 µm pattern depth with a novel photoresist

Autores: Christine Schuster, Gerda Ekindorf, Anja Voigt, Arne Schleunitz, Gabi Grützner
Publicado en: Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies, Edición Volume 12497, 2023
Editor: SPIE - Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies 2023; 124970P (2023)
DOI: 10.1117/12.2661526

Challenges of photomask-based greyscale lithography with a highly-sensitive positive photoresist designed for>100µm deep greyscale patterns

Autores: Christine Schuster, Marina Heinrich, Anja Voigt, Andy Zanzal, Patrick Reynolds, Stephen DeMoor, Gerda Ekindorf, Arne Schleunitz, Gabi Gruetzner
Publicado en: Novel Patterning Technologies 2024, 2024
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3010852

Design and fabrication of hierarchical microstructures for advanced optical applications

Autores: Daniel Mrena, Daniel Jandura, Matej Goraus, Dušan Pudiš, Christine Schuster, Anja Voigt, David Kuhness, Christine Prietl, Ladislav Kuna, Markus Postl
Publicado en: Holography: Advances and Modern Trends IX, 2025
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3056720

Peer reviewed articles (2)

Data-driven optimization of maskless grayscale laser lithography

Autores: Adrian H. A. Lutey, David Kuhness, Seyyedhossein Mckee, Vincenzo Ferraro, Marco Negozio, Walter Belardi, Luca Romoli, Markus Postl, Barbara Stadlober
Publicado en: Scientific Reports, Edición 15, 2025, ISSN 2045-2322
Editor: Springer Science and Business Media LLC
DOI: 10.1038/S41598-025-24652-X

Combining laser interference lithography and direct write lithography for hierarchical structures fabrication

Autores: D. Mrena, D. Pudis, M. Goraus, Ch. Schuster, A. Voigt, D. Kuhness, Ch. Prietl, L. Kuna, M. Postl
Publicado en: 2024 15th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems (ASDAM), 2025, ISSN 2474-9737
Editor: IEEE
DOI: 10.1109/ASDAM63148.2024.10844637