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Leistungen
Properties of lithographic patterning for a positive & a negative tone resist series to generate binary (2D), grayscale 2.5D and 3D patterns by using 1) a mask aligner process, 2) one photon laser & a two/ multi photon process and 3) interference lithography process, Summary of chemical, optical, mechanical, and thermal properties of resist patterns.
Plan for Dissemination and Communication (öffnet in neuem Fenster)The Plan for Dissemination and Communication is a working document where the dissemination strategy and tools to be used during the life of the project are described.
Veröffentlichungen
Autoren:
Christine Schuster, Gerda Ekindorf, Anja Voigt, Arne Schleunitz, Gabi Grützner
Veröffentlicht in:
Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies, Ausgabe Volume 12497, 2023
Herausgeber:
SPIE - Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies 2023; 124970P (2023)
DOI:
10.1117/12.2661526
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