Automated Maskless Laser Lithography Platform for First Time Right Mixed Scale Patterning

Projektinformationen

OPTIMAL

ID Finanzhilfevereinbarung: 101057029

DOI

10.3030/101057029

EK-Unterschriftsdatum 24 Mai 2022

Startdatum 1 Oktober 2022

Enddatum 31 März 2027

Finanziert unter

• Digital, Industry and Space

Gesamtkosten

€ 5 616 876,00

EU-Beitrag

€ 5 616 875,00

Koordiniert durch

JOANNEUM RESEARCH FORSCHUNGSGESELLSCHAFT MBH
Austria

CORDIS bietet Links zu öffentlichen Ergebnissen und Veröffentlichungen von HORIZONT-Projekten.

Links zu Ergebnissen und Veröffentlichungen von RP7-Projekten sowie Links zu einigen Typen spezifischer Ergebnisse wie Datensätzen und Software werden dynamisch von OpenAIRE abgerufen.

Leistungen

Documents, reports (4)

Lithographic patterning properties

Properties of lithographic patterning for a positive & a negative tone resist series to generate binary (2D), grayscale 2.5D and 3D patterns by using 1) a mask aligner process, 2) one photon laser & a two/ multi photon process and 3) interference lithography process, Summary of chemical, optical, mechanical, and thermal properties of resist patterns.

Updated plan for Dissemination and Communication

The updated Plan for Dissemination and Communication is a working document where the dissemination strategy and tools to be used during the life of the project are described.

Plan for Dissemination and Communication

The Plan for Dissemination and Communication is a working document where the dissemination strategy and tools to be used during the life of the project are described.

Environmental impacts of photoresist material

Report describing the environmental impacts of the photoresist materials using the methodology LCA.

Veröffentlichungen

Conference proceedings (3)

Pushing deep greyscale lithography beyond 100 µm pattern depth with a novel photoresist

Autoren: Christine Schuster, Gerda Ekindorf, Anja Voigt, Arne Schleunitz, Gabi Grützner
Veröffentlicht in: Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies, Ausgabe Volume 12497, 2023
Herausgeber: SPIE - Proceedings Volume 12497, Novel Patterning Technologies 2023; 124970P (2023)
DOI: 10.1117/12.2661526

Challenges of photomask-based greyscale lithography with a highly-sensitive positive photoresist designed for>100µm deep greyscale patterns

Autoren: Christine Schuster, Marina Heinrich, Anja Voigt, Andy Zanzal, Patrick Reynolds, Stephen DeMoor, Gerda Ekindorf, Arne Schleunitz, Gabi Gruetzner
Veröffentlicht in: Novel Patterning Technologies 2024, 2024
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3010852

Design and fabrication of hierarchical microstructures for advanced optical applications

Autoren: Daniel Mrena, Daniel Jandura, Matej Goraus, Dušan Pudiš, Christine Schuster, Anja Voigt, David Kuhness, Christine Prietl, Ladislav Kuna, Markus Postl
Veröffentlicht in: Holography: Advances and Modern Trends IX, 2025
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3056720

Peer reviewed articles (2)

Data-driven optimization of maskless grayscale laser lithography

Autoren: Adrian H. A. Lutey, David Kuhness, Seyyedhossein Mckee, Vincenzo Ferraro, Marco Negozio, Walter Belardi, Luca Romoli, Markus Postl, Barbara Stadlober
Veröffentlicht in: Scientific Reports, Ausgabe 15, 2025, ISSN 2045-2322
Herausgeber: Springer Science and Business Media LLC
DOI: 10.1038/S41598-025-24652-X

Combining laser interference lithography and direct write lithography for hierarchical structures fabrication

Autoren: D. Mrena, D. Pudis, M. Goraus, Ch. Schuster, A. Voigt, D. Kuhness, Ch. Prietl, L. Kuna, M. Postl
Veröffentlicht in: 2024 15th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems (ASDAM), 2025, ISSN 2474-9737
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/ASDAM63148.2024.10844637