European pilot line for beyond 2nm leading edge System-on-Chip leadership

Projektinformationen

NanoIC

ID Finanzhilfevereinbarung: 101183277

DOI

10.3030/101183277

EK-Unterschriftsdatum 10 Dezember 2024

Startdatum 1 Januar 2024

Enddatum 31 Dezember 2028

Finanziert unter

• Digital, Industry and Space

Gesamtkosten

€ 551 778 479,00

EU-Beitrag

€ 448 006 739,89

Koordiniert durch

INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM
Belgium

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Veröffentlichungen

Conference proceedings (43)

Half-Height Double-Row CFET Standard Cells for Area Optimized Placement in A7 CMOS Node

Autoren: Kukner, Halil; Lin, Ji-Yung; Yang, Sheng; Verschueren, Lynn; Boemmels, Juergen; Farokhnejad, Anita; Van de Put, Maarten; Zografos, Odysseas; Horiguchi, Naoto; Hellings, Geert; Garcia Bardon, Marie; Ryckaert, Julien
Veröffentlicht in: 2025 IEEE/ACM International Conference On Computer Aided Design (ICCAD), 2025, ISSN 1558-2434
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18449699

mCFET inner spacer cavity etch: process development and challenges

Autoren: Pallavi Puttarame Gowda, Steven Demuynck, Mohamed Saib, Ann Feyen, Ali Abdelgawad, Naveen Reddy, Alina Arslanova, Alexis Franquet, Rita Tilmann, XiuMei Xu, Beatriz Escorcia Ramirez, Camila Toledo de Carvalho Cavalcante, Andy Peng, Dmitry Batuk, Reda Boufa
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13429, Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XIV, Ausgabe 134290D , 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3055311

Alternative EUV multilayer mirror mask for reduced mask 3D effects evaluated at NA0.33

Autoren: Tatiana Kovalevich, Nick Pellens, Guillaume Libeert, Lieve Van Look, Andreas Frommhold, Vicky Philipsen, Tsukasa Abe, Yukihiro Fujimura, Izumi Hotei, Mei Ebisawa, Masataka Yamaji, Shosuke Tomizuka, Shingo Yoshikawa
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13687, Photomask Technology 2025, Ausgabe 1368711, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3071379

Performance Improvement in Sub-2nm Node Nanosheet-FETs Through Optimization of Spacer Interface and Dopant Activation

Autoren: Pondini, Andrea; Eyben, Pierre; Arimura, Hiroaki; Matagne, Philippe; Chiarella, Thomas; Ganguly, Jishnu; Porret, Clement; Rosseel, Erik; Mertens, Hans; Mitard, Jerome; Verhulst, Anne
Veröffentlicht in: 2025 IEEE European Solid-State Electronics Research Conference (ESSERC), 2025, ISSN 2643-1319
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/ESSERC66193.2025.11213994

Tuning, modelling, and verifying effects of intermixing on EUV multilayer mirror performance via a combined simulation and experimental approach

Autoren: Kevin M. Dorney, Eva Nerke, Katrina Rook, Antonio Checco, Vitaly Krasnov, Ankit Nalin Mehta, Andrea Impagnatiello, Ulrich Klostermann, Andy Dawes, Ulrich Welling, Wolfgang Hoppe, Meng Lee, Vicky Philipsen
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13687, Photomask Technology 2025, Ausgabe 136870Z, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3071890

Novel Low Temperature SiO2 Formation Process by Oxygen and Hydrogen Radicals for Core and I/O RMG Stacks: Achieving the Ultimate NBTI Reliability with a Charge-Free IL

Autoren: J. Franco, H. Arimura, J. P. Bastos, V. Afanas’ev, J.-F. de Marneffe, M.-S. Kim, B. Kaczer, N. Horiguchi
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2026, ISSN 2156-017X
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/IEDM50572.2025.11353598

Understanding the impact of the EUV photon absorption distribution in a patterned EUV resist and its lithographic performance

Autoren: Danilo De Simone, Vicky Philipsen, Alessandro Vaglio Pret, Anatoly Burov
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13686, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025, Ausgabe 136860D, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3072194

Depth-of-focus enhancement in high-numerical aperture EUV lithography by source and mask optimization

Autoren: Guillaume Libeert, Joern-Holger Franke, Sofia Leitao, Natalia Davydova, Praniesh Ayyanar Ramachandran, Susan Sherin Kadeparambil Varghese, Vicky Philipsen
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13687, Photomask Technology 2025, Ausgabe 136870P, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3072478

Energy-efficient EUV lithography using PFAS-free, light-curable underlayers for advanced nodes

Autoren: Seonggil Heo, Jelle Vandereyken, Min Seong Jeong, Elke Caron, Wesley Zanders, Seungjoo Baek, Andreia Santos, Douglas J. Guerrero, Veerle Van Driessche, Masahiko Harumoto
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13686, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025, Ausgabe 136860P, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3072177

Hybrid Channel monolithic-CFET with Si (110) pMOS and (100) nMOS

Autoren: A. Vandooren, S. Iacovo, V. Brissonneau, T. Chiarella, C. Cullen, D. Casey, G. Rengo, R. Khazaka, P. Eyben, V. S. Kumar Channam, J. Ganguly, K. Stiers, C. Sheng, C. Cavalcante, M. Hosseini, D. Batuk, A. Peng, X. Zhou, R. Sarkar, A. Veloso, A. Mingardi, S. K. Sarkar, R. Kumar Saroj, R. Chukka, V. Georgieva, R. Loo, C. Porret, T. Dursap, A. Akula, S. Choudhury, E. Dupuy, A. Peter, N. Jourdan, K. Vandersmissen, D. Montero, E. Vrancken, F. Sebaai, P. Puttarame Gowda, J.-G. Lai, B. T. Chan, A. Sepulveda Marquez, R. Langer, S. Brems, I. Gyo Koo, E. Altamirano Sanchez, K. Devriendt, J. Mitard, L.P.B. Lima, S. Subramanian, N. Horiguchi, S. Demuynck, S. Biesemans
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2026, ISSN 2156-017X
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/IEDM50572.2025.11353866

Thermal conductivity of underlayers for EUV lithography and its effect on sensitivity of metal oxide resist

Autoren: Roberto Fallica, Danilo De Simone, Patrick E. Hopkins, Andrew Jones, John Gaskins
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13424, Optical and EUV Nanolithography XXXVIII, Ausgabe 1342416 , 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051713

Patterning optimization for single exposure BLP and SNLP DRAM layers with 0.33NA and 0.55NA EUV lithography

Autoren: Van Tuong Pham, Victor Blanco, Jeonghoon Lee, Werner Gillijns, Soobin Hwang, Ardavan Niroomand, Sara Paolillo, Annaelle Demaude, Won Chan Lee, Yannick Feurprier, Kathleen Nafus, Nobuyuki Fukui, Nayoung Bae, Yuhei Kuwahara, Peter De Schepper, Dhruv Tyagi,
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13428, Advances in Patterning Materials and Processes XLII, Ausgabe 1365507, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051494

e-beam Metrology for High-NA: Revisiting the imec Protocol

Autoren: Gian Francesco Lorusso, Alain Moussa, Sahel Habashieh, Dieter Van Den Heuvel, Diziana Vangoidsenhoven, Mihir Gupta, Hyo Seon Suh, Ying-Lin Chen, Danilo De Simone, Chris Mack, Wei Sun, Masaki Sugie, Philippe Foubert, Miki Isawa, Anne-Laure Charley
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 134260L , 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3052366

BEFORCE: An advanced, versatile platform for unravelling and quantifying EUV photoresist chemistry during exposure, processing, and interaction with the environment

Autoren: Ivan Pollentier, Kevin Dorney, Lorenzo Piatti, Fabian Holzmeier, Hyo Seon Suh
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13428, Advances in Patterning Materials and Processes XLII, Ausgabe 134282G, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051268

3D metrology and inspection to enable the rise of stacked transistors, wafers and chips

Autoren: J. Bogdanowicz, A.-L. Charley, P. Leray, R. G. Liu
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 1342604, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3052399

IGZO Based eDRAM: Bitcell and Array Optimization Enabling Denser Last Level Caches

Autoren: Sharma, Arvind Kumar; Oh, Hyungrock; Verschueren, Lynn; Subhechha, Subhali; rassoul, Nouredine; Garcia Bardon, Marie; Belmonte, Attilio; Kar, Gouri Sankar; Hellings, Geert; Biswas, Dwaipayan; Garcia Redondo, Fernando
Veröffentlicht in: 2025 IEEE European Solid-State Electronics Research Conference (ESSERC), 2025, ISSN 2643-1319
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18392702

Defectivity-aware EUV process window characterization for monolithic complementary FET HAR and 3D patterning

Autoren: Hongcheon Yang, Min-Soo Kim, Xiuju Zhou, Christophe Beral, Anne-Laure Charley, Balakumar Baskaran, Kaushik Sah, Loemba Bouckou, Luca Barbisan, Ganesha Durbha, Nikil Paithankar, Zhijin Chen, Roel Gronheid
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13686, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025, Ausgabe 136860S, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3071887

Optimization toward Non-Zero Offset Stability in Overlay Control: Trends and Prospects

Autoren: Nadav Gutman, Bart Baudemprez, Hongcheon Yang, Christophe Beral, Anne-Laure Charley, Loemba Bouckou, Roel Gronheid, Yaniv Weiss, Sofia Napso, Linoy Nagar-shaul, Chufan Zhang, Dana Klein, Yuval Lamhot, Yuval Lubashevsky, Renan Milo, Efi Megged
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 134260I, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051073

Multi-node scaling potential of monolithic CFET

Autoren: Yang, Sheng; Verschueren, Lynn; Boemmels, Juergen; Kukner, Halil; Lin, Ji-Yung; Bufler, Fabian; Sankatali, V.; Farokhnejad, Anita; Van de Put, Maarten; Hellings, Geert
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2026, ISSN 2156-017X
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18451566

Inline X-ray metrology for Complementary Field-Effect Transistors (CFET)

Autoren: J. Bogdanowicz, A. Mingardi, V. Brissonneau, R. Loo, Y. Shimura, A. Akula, P. P. Gowda, D. Zhou, N. Horiguchi, S. Biesemans, M. Kuhn, S. Murakami, Y. Ito, A. Higuchi, P. Leray, A.-L. Charley
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 134261G, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3050810

First Demonstration of Field Free Switching Perpendicular SOT-MRAM 4kb Array Using Z-Spin

Autoren: Gama Monteiro Junior, Maxwel; Kumar, Ankit; Kateel, Vaishnavi; Vermeulen, Bob; Coester, Birte; Chatterjee, Jyotirmoy; Talmelli, Giacomo; Palomino, Alvaro; Urrestarazu-Larrañaga, Joseba; Van Beek, Simon; Wostyn, Kurt; Rao, Siddharth; NGUYEN, Van Dai; Kar, Gouri Sankar
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2026, ISSN 2156-017X
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18451467

Impact of MOR anomalies on lithography and OPC: challenges and solutions

Autoren: Pervaiz Kareem, Werner Gillijns, Kevin Dorney
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13686, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025, Ausgabe 1368609, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3071885

Hexagonal Contact Holes patterning at 32 nm pitch: influence of the stack and of the etching process on AEI performances

Autoren: S. Paolillo, D. Van Den Heuvel, P. Bezard, C. Beral, B. Chowrira, A. Demaude, R. Vallat, L. Souriau, A. Moussa, M. Beggiato, P. Foubert
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13429, Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XIV, Ausgabe 13429, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3052173

Energy-efficient optical crosslinking system and PFAS-free underlayers in ArFi lithography: key enablers for sustainable semiconductor technologies and systems

Autoren: Min Seong Jeong, Seonggil Heo, Jelle Vandereyken, Elke Caron, Wesley Zanders, Seungjoo Baek, Andreia Santos, Douglas J. Guerrero, and Masahiko Harumoto
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13686, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025, Ausgabe 1368621, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3073131

High NA EUV defectivity inspection: overview and challenges

Autoren: C. Beral, D. Van Den Heuvel, M. Beggiato, B. Chowrira, S. Paolillo, A. Moussa, P. Foubert, D. Cerbu, A. Demaude, P. Leray, A. L. Charley
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 134261H, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051293

Unraveling the role of environment on the lithographic performance of metal oxide resists: key role of oxygen during post-exposure bake

Autoren: Ivan Pollentier, Fabian Holzmeier, Hyo Seon Suh, Kevin Dorney
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13686, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025, Ausgabe 1368616, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3072102

3.5T CFET Block-Level DTCO for Superior PPA in A7 Node by Split Power, hDR Cells, Optimized Pins and BEOL

Autoren: Lin, Ji-Yung; Kukner, Halil; Yang, Sheng; Verschueren, Lien; Boemmels, Juergen; Dell'Atti, Francesco; Farokhnejad, Anita; Van de Put, Maarten; Zografos, Odysseas; Horiguchi, Naoto; Garcia Bardon, Marie; Hellings, Geert; Ryckaert, Julien
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2026, ISSN 2156-017X
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18451341

Moore's Law meets High-NA EUV: Random via patterning for next-generation nodes

Autoren: B. Chowrira, V. M. Blanco Carballo, M. Dusa, L. E. Tan, H. Vats, W. Gillijns, S. Decoster, A. Niroomand, V. D. Rutigliani, S. Halder, M. Sangghaleh, D. Tyagi, A. Kamali, M. Newman, M. Demand, Y. Wako, A. Negreira, R. Clark, K. Nafus, M. O'Toole, J. Hsia
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13424, Optical and EUV Nanolithography XXXVIII, Ausgabe 1342412, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3050453

Dry etch challenges for patterning middle-of-line (MOL) dual damascene contact trench and via in monolithic CFET (complementary FET)

Autoren: T. Sarkar, A. Vandooren, K. Stiers, C. Sheng, V. Vega Gonzalez, H. Jenkins, M. Demand, P. Wang, F. Lazzarino, S. Demuynck, N. Horiguchi, S. Biesemans
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13429, Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XIV, Ausgabe 134290A, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3052052

Extending the Gate-All-Around (GAA) Era to the A10 Node: Outer Wall Forksheet Enabling Full Channel Strain and Superior Gate Control

Autoren: Lynn Verschueren; Geert Eneman; Sheng Yang; Jürgen Bömmels; Philippe Matagne; Katty Beltrán Cahueñas, Arvind Sharma, Dawit Abdi, Hans Mertens, Gioele Mirabelli, Geert Hellings
Veröffentlicht in: 2025 Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits), 2025, ISSN 2158-9682
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.23919/VLSITECHNOLOGYANDCIR65189.2025.11075021

Stitching at high-NA EUV: a first experimental study

Autoren: Vincent Wiaux, Natalia Davydova, Nick Pellens, Ataklti Weldeslassie, Jad Haddad, Tatiana Kovalevich, Vito Daniele Rutigliani, Marcus Newman, Mahtab Sangghaleh, Dhruv Tyagi, Airat Galiullin, Jeremy Chen, Adam Lyons, Frank Timmermans, Cyrus Tabery
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13686, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025, Ausgabe 1368606, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3073385

Via to line-end contact failures: the role of stochastics

Autoren: Balakumar Baskaran, Dorin Cerbu, Matteo Beggiato, Victor Blanco, Gian Lorusso, Danilo De Simone, Michael E. Adel, Chris A. Mack
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 134260N, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3050970

Stochastic-Aware Compact OPC Model Validation for Reducing Failure Probability

Autoren: Renyang Meng, Xuelong Shi, Joost Bekaert, Werner Gillijns, Ryoung-han Kim
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13655, Photomask Japan 2025: XXXI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology, Ausgabe 134280T, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3072074

Critical in-line OCD metrology for CFET manufacturing

Autoren: Hyukyun Kwon, Joey Hung, Adam M. Urbanowicz, Ronen Urenski, Igor Turovets, Avron Ger, Szu-Wei Tseng, Mohamed Saib, Janusz Bogdanowicz, Stephanie Melhem, Daisy Zhou, Yong Kong Siew, Debashish Basu, Anne-Laure Charley, Jason Reifsnider, Naoto Horiguchi, Philippe Leray
Veröffentlicht in: Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051718

Characterization of FOWLP Process Using Temporary Bonding Materials on Carrier with Very Low Die Shift

Autoren: Tang, Tiffany; Guerrero, Alice; Cuypers, Dieter H.; Macours, Maarten; VAQUILAR, ALDRIN; Bex, Pieter; Kennes, Koen; Phommahaxay, Alain; Beyer, Gerald; Beyne, Eric
Veröffentlicht in: 2025 IEEE 75th Electronic Components and Technology Conference (ECTC), 2025, ISSN 2377-5726
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18394580

Atomic Force Microscopy: From research lab to High-Volume Manufacturing

Autoren: A. Moussa, A.-L. Charley, P. Leray
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 134260X, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051414

First Systematic Characterization of Floating Body Effects in GAA Nanosheet 3D DRAM Access Transistors

Autoren: Garbin, Daniele; Eneman, Geert; Ritzenthaler, Romain; Rassoul, Nouredine; Eyben, Pierre; Canga, Eren; Matsubayashi, Daisuke; Fantini, Andrea; O'Sullivan, Barry; Labbate, L.A.; Loyo Prado, Jana; Loo, Roger; Devulder, Wouter; Dupuy, Emmanuel; Peissker, Tobias; Pacco, Antoine; RAUT, HEMANT; Milenin, Alexey; Wouters, Lennaert; Vrancken, Evi; Beggiato, Matteo; Rosseel, Erik; Kar, Gouri Sankar; Belmonte, Attilio
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2026, ISSN 2156-017X
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18449577

Fundamental Understanding of Exposure and Process Chemistry for Enhanced Lithography and Stability of Metal Oxide Resists

Autoren: Dorney, Kevin M.; Pollentier, Ivan; Holzmeier, Fabian; Fallica, Roberto; Chen, Ying-Lin; Piatti, Lorenzo; Singh, Dhirendra; Galleni, Laura; Van Setten, Michiel J.; Suh, Hyo Seon; De Simone, Danilo; Pourtois, Geoffrey; Van der Heide, Paul; Petersen, John
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13428, Advances in Patterning Materials and Processes XLII, Ausgabe 134281C, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051260

Impact of Mechanical Stress on IGZO TFTs: Enhancing PBTI Degradation

Autoren: Vishwakarma, Kavita; Lee, Kookjin; Kruv, Anastasiia; Chasin, Adrian; van Setten, Michiel J.; Pashartis, Christopher; Orkut Okudur, Oguzhan; Gonzalez, Mario; Rassoul, Nouredine; Belmonte, Attilio; Kaczer, Ben
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS), 2025, ISSN 1938-1891
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.48550/ARXIV.2506.15193

Junction-engineered Scaled High-performance GAA Nanosheet FETs with Ultra-low Temperature (< 350 °C) SiGe: B Source/Drain

Autoren: R. Sarkar, D. Casey, A. Dutta, P. Eyben, A. Pondini, H. Mertens, T. Dursap, C. Porret, A. Veloso, J. Ganguly, R. Duflou, C. Cullen, P.A. Rathi, M-S. Kim, R. Khazaka, J. Mitard, L. P. B. Lima, S. Biesemans, N. Horiguchi
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2026, ISSN 2156-017X
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/IEDM50572.2025.11353791

Using Programmed defect vehicle to understand printability of defect/2D structures and characterize it through EUV process impact

Autoren: Bojja Aditya Reddy, Balakumar Baskaran, Mohamed Saib, Joern-Holger Franke, Christophe Beral, Murat Pak, Sandip Halder, Mircea Dusa
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13426, Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX, Ausgabe 134261X, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3052510

Shifter Materials and Stack Explorations for $V_{t}$ Fine-Tunable Dual Dipole Multi-$V_{t}$ Gate Stacks Compatible with Low Thermal Budget CFET

Autoren: Arimura, Hiroaki; Lukose, Leo; Ganguly, Jishnu; Franco, Jacopo; Mertens, Hans; Stiers, Jimmy; Lai, J. G.; Nalin Mehta, Ankit; Bejide, M.; Kim, Min-Soo; Horiguchi, Naoto
Veröffentlicht in: 2025 Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits), 2025, ISSN 2158-9682
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18448440

Resolution improvement and dose reduction in logic and memory applications from low NA to high NA

Autoren: Shubhankar Das, Victor Blanco, Van Tuong Pham, Shruti Jambaldinni, Anuja De Silva, Joern-Holger Franke, Marcus Newman, Ali Haider, Matt Gallagher, Jeonghoon Lee, Kaushik Sah, Zhijin Chen, Bobo Cheng, Chenwei Gong, Vidya Ramanathan, Andrew Cross, Werner Gi
Veröffentlicht in: Proc. SPIE 13424, Optical and EUV Nanolithography XXXVIII, Ausgabe 1342413, 2025, ISSN 1996-756X
Herausgeber: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051512

Peer reviewed articles (16)

Carrier Mapping in Sub‐2nm Node Nanosheet Transistors with Scanning Spreading Resistance Microscopy

Autoren: Andrea Pondini, Pierre Eyben, Lennaert Wouters, Albert Minj, Thomas Hantschel, Philippe Matagne, Jérôme Mitard, Anne Verhulst
Veröffentlicht in: Small Methods, 2026, ISSN 1520-8559
Herausgeber: Wiley
DOI: 10.1002/SMTD.202502279

2 μm Pitch Direct Die-to-Wafer Hybrid Bonding Using Surface Protection During Wafer Thinning and Die Singulation

Autoren: Lin, Ye; Bex, Pieter; Suhard, Samuel; Zhang, Boyao; Ulu Okudur, Fulya; Diaz De Zerio, Amaia; Reddy, Naveen K; Altamirano-Sanchez, Efrain; Li, Yanan; Jourdain, Anne; Beyer, Gerald; Beyne, Eric
Veröffentlicht in: 2025 IEEE 75th Electronic Components and Technology Conference (ECTC), 2025, ISSN 2377-5726
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18403972

Low Temperature Site‐Specific Pulsed Laser Annealing of MoS ₂

Autoren: Nazar Farid, Aashi Gupta, Pavlina Metaxa, A Arifutzzaman, Hariprasad Kuduvan, Rahil Haria, Michele Conroy, Ian Campbell, Ageeth A Bol, James Connolly, Jun Lin, Ian Povey, Ray Duffy, Gerard M O'Connor
Veröffentlicht in: Small, 2026, ISSN 1613-6810
Herausgeber: Wiley
DOI: 10.1002/SMLL.202510617

Journal of Materials Science: Materials in Electronics

Autoren: Dekkers, Hendrik; Dialameh, Masoud; Agati, Marta; van Setten, Michiel J.; Belmonte, Attilio
Veröffentlicht in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics, 2025, ISSN 0957-4522
Herausgeber: Springer Nature
DOI: 10.5281/ZENODO.18428147

Smart Diagnostics for 3D CFET: A Machine Learning Approach to Failure Analysis

Autoren: Mitard, Jerome; Koçak, Hüsnü Murat; Chiarella, Thomas; Sheng, Cassie (Jiazhen); Demuyck, Steven; Horiguchi, Naoto
Veröffentlicht in: 2025 IEEE 37th International Conference on Microelectronic Test Structures (ICMTS), 2025, ISSN 2158-1029
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18405295

Dielectric Breakdown Analysis on Bottom and Top-Gated IGZO-TFT

Autoren: Van Beek, Simon; Chasin, Adrian; Subhechha, Subhali; Dekkers, Hendrik; Rassoul, Nouredine; Wan, Yiqun; Tang, Hongwei; Bastos, Joao; Belmonte, Attilio; Kar, Gouri Sankar
Veröffentlicht in: 2025 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS), 2025, ISSN 1938-1891
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18401224

Deposition of spinel IGZO thin films with increased indium contents on textured GZO templates

Autoren: Evangelos Agiannis, Hendrik F. W. Dekkers, Marta Agati, Annelies Delabie
Veröffentlicht in: Journal of Applied Physics, Ausgabe 138, 2025, ISSN 1089-7550
Herausgeber: AIP Publishing
DOI: 10.1063/5.0276210

IEEE Electron Device Letters

Autoren: Tang, HW; Lin, D; Subhechha, S; Chasin, A; Matsubayashi, D; van Setten, M; Wan, YQ; Dekkers, H; Li, J; Subramanian, S; Chen, Z; Rassoul, N; Jiang, YC; Van Houdt, J; Afanas'ev, V; Kar, GS; Belmonte, A
Veröffentlicht in: IEEE Electron Device Letters, 2025, ISSN 0741-3106
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/LED.2025.3549865

Active Sampling of Electrical Characterization Parameters for Efficient Measurement

Autoren: Koçak, Hüsnü Murat; Mitard, Jerome; Naskali, Ahmet Teoman; Davis, Jesse
Veröffentlicht in: 2025 IEEE 37th International Conference on Microelectronic Test Structures (ICMTS), 2025, ISSN 1071-9032
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18400848

Disrupting the DRAM roadmap with capacitor-less IGZO-DRAM technology

Autoren: Attilio Belmonte; Gouri Sankar Kar
Veröffentlicht in: Nature Reviews Electrical Engineering, 2025, ISSN 2948-1201
Herausgeber: Nature
DOI: 10.1038/S44287-025-00162-W

Subthreshold swing behavior in amorphous indium-gallium-zinc-oxide transistors from room to cryogenic temperatures

Autoren: Tang, Hongwei; Belmonte, Attilio; Lin, Dennis; Zhao, Ying(Candice); Beckers, Arnout; Verdonck, Patrick; Dekkers, Hendrik; Subhechha, Subhali; van Setten, Michiel J.; Chen, Zhuo; Kar, Gouri Sankar; Van Houdt, Jan; Afanasiev, Valeri
Veröffentlicht in: Applied Physics Letters, 2025, ISSN 1077-3118
Herausgeber: AIP Publishing
DOI: 10.48550/ARXIV.2506.15238

In-Poor IGZO: Superior Resilience to Hydrogen in Forming Gas Anneal and PBTI

Autoren: Kruv, Anastasiia; van Setten, Michiel J.; Chasin, Adrian; Matsubayashi, Daisuke; Dekkers, Hendrik; Pavel, Alexandru; Wan, Yiqun; Trivedi, Kruti; Rassoul, Nouredine; Li, Jie; Jiang, Yuchao; Subhechha, Subhali; Pourtois, Geoffrey; Belmonte, Attilio; Sankar Kar, Gouri
Veröffentlicht in: ACS Applied Electronic Materials, 2025, ISSN 2637-6113
Herausgeber: American Chemical Society
DOI: 10.48550/ARXIV.2412.07362

Understanding and mitigating oxidation-induced electrical instability in sputtered Sc thin films

Autoren: Jeonho Kim, Indira Kiladze, Clement Porret, Bert Pollefliet, Johan Swerts
Veröffentlicht in: Journal of Vacuum Science & Technology A, Ausgabe 44, 2026, ISSN 1520-8559
Herausgeber: American Institute of Physics
DOI: 10.1116/6.0004952

SOT-MRAM Bitcell Scaling With BEOL Read Selectors: A DTCO Study

Autoren: Xiang, Yang; Garcia Redondo, Fernando; Sharma, Arvind Kumar; Nguyen, Van Dai; Fantini, Andrea; Matagne, Philippe; Rao, Siddharth; Subbhechha, Subhali; Verschueren, Lynn; Baig, Mohammed Aftab; Garcia Bardon, Marie; Hellings, Geert
Veröffentlicht in: IEEE Transactions on Electron Devices, 2025, ISSN 1557-9646
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.48550/ARXIV.2508.18250

IEEE Electron Device Letters

Autoren: Izukashi, K.; Matsubayashi, Daisuke; Belmonte, Attilio; Kundu, Shreya; Wan, Yiqun; García-Redondo, Fernando; Oh, Hyungrock; Sharma, Arvind Kumar; Subhechha, Subhali; Puliyalil, Harinarayanan; Chasin, Adrian; Dekkers, Hendrik; Pavel, Alexandru; Rassoul, Nouredine; Kar, Gouri Sankar
Veröffentlicht in: IEEE Electron Device Letters, 2025, ISSN 0741-3106
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.5281/ZENODO.18403459

Novel concept-oriented synthetic data approach for training generative AI-Driven crystal grain analysis using diffusion model

Autoren: A.S. Saleh, K. Croes, H. Ceric, I. De Wolf, H. Zahedmanesh
Veröffentlicht in: Computational Materials Science, Ausgabe 251, 2025, ISSN 0927-0256
Herausgeber: Elsevier BV
DOI: 10.1016/J.COMMATSCI.2025.113723

Other (1)

Europes pilot line to enable future compute systems

Autoren: Srikanth B. Samavedam & Jo De Boeck
Veröffentlicht in: Nature reviews electrical engineering, Ausgabe 1, 2024
Herausgeber: Springer Nature