Atomic layer deposition applied to synthetic carburant production and low temperature microthermal imaging. New sputtering process applied to control oxygen stoechiometry and diffusion in oxide films

Informations projet

ALD-SPUTTERING-OXIDE

N° de convention de subvention: 249243

Projet clôturé

Date de début 1 Octobre 2009

Date de fin 30 Septembre 2012

Financé au titre de

• Specific programme "People" implementing the Seventh Framework Programme of the European Community for research, technological development and demonstration activities (2007 to 2013)

Coût total € 45 000,00

Contribution de l’UE € 45 000,00

Coordonné par

UNIVERSITETET I OSLO
Norway