Atomic layer deposition applied to synthetic carburant production and low temperature microthermal imaging. New sputtering process applied to control oxygen stoechiometry and diffusion in oxide films

Informacje na temat projektu

ALD-SPUTTERING-OXIDE

Identyfikator umowy o grant: 249243

Projekt został zamknięty

Data rozpoczęcia 1 Października 2009

Data zakończenia 30 Września 2012

Finansowanie w ramach

• Specific programme "People" implementing the Seventh Framework Programme of the European Community for research, technological development and demonstration activities (2007 to 2013)

Koszt całkowity € 45 000,00

Wkład UE € 45 000,00

Koordynowany przez

UNIVERSITETET I OSLO
Norway