Atomic layer deposition applied to synthetic carburant production and low temperature microthermal imaging. New sputtering process applied to control oxygen stoechiometry and diffusion in oxide films

Informazioni relative al progetto

ALD-SPUTTERING-OXIDE

ID dell’accordo di sovvenzione: 249243

Progetto chiuso

Data di avvio 1 Ottobre 2009

Data di completamento 30 Settembre 2012

Finanziato da

• Specific programme "People" implementing the Seventh Framework Programme of the European Community for research, technological development and demonstration activities (2007 to 2013)

Costo totale € 45 000,00

Contributo UE € 45 000,00

Coordinato da

UNIVERSITETET I OSLO
Norway