Descrizione del progetto
Nanoelectronics Technology
SQWIRE develops industry compatible CMOS technology based on novel Si nanowire transistor structures.
The aim of the SQWIRE project is to develop a disruptive, industry-compatible CMOS technology based on novel silicon nanowire transistor structures. As has been demonstrated both theoretically and experimentally, nanowire MOS transistors can be fabricated at wafer level using silicon-on-insulator (SOI) substrates and these novel devices have shown electrical properties that are comparable or even superior to those of regular transistors. Two such novel devices are the Gated Resistor (a junctionless transistor simulated, prototype fabricated and patented) and the variable-barrier tunnel transistor (VBT, simulated and patented). To obtain industrial validation, fabrication routes will be developed for these devices on novel 300 mm SOI wafers with silicon film thicknesses of only 10 nm. These routes will be underpinned by process development targeting atom-scale control of the silicon film thickness across the wafer. Device performance will be characterised at die-level and evaluated in a statistically meaningful manner at wafer level. The extracted parameters will serve as the basis for the development of a compact model of the Gated Resistor devices, which can be used for further circuit design and the validation of advanced numerical simulations. The fabrication process for the first device (Gated Resistor) is less complex and more flexible than that of regular transistors. It has the potential of increasing yield and reducing the price of integrated circuits. Furthermore, the Gated Resistor offers the promise of superior scaling to sub-22 nm dimensions compared to regular transistors. In addition, the process can easily be implemented in semiconductor materials other than silicon. The second device (Variable Barrier Transistor) is capable of providing subthreshold slopes sharper than any conventional transistor. This permits one to reduce the supply voltage of integrated circuits, and hence their energy consumption.
The aim of the SQWIRE project is to develop a disruptive, industry-compatible CMOS technology based on novel silicon nanowire transistor structures. The co-ordinator has demonstrated both theoretically and experimentally that nanowire MOS transistors can be fabricated at wafer level using silicon-on-insulator (SOI) substrates. These novel devices have shown electrical properties that are comparable or even superior to those of regular transistors.Two such novel devices are the Gated Resistor (a junctionless transistor simulated, prototype fabricated and patented) and the variable-barrier tunnel transistor (VBT, simulated and patented). To obtain industrial validation, fabrication routes will be developed for these devices on novel 300 mm SOI wafers with silicon film thicknesses of only 10 nm. These routes will be underpinned by process development targeting atom-scale control of the silicon film thickness across the wafer.Device performance will be characterised at die-level and evaluated in a statistically meaningful manner at wafer level. The extracted parameters will serve as the basis for the development of a compact model of the Gated Resistor devices, which can be used for further circuit design and the validation of advanced numerical simulations.The fabrication process for the first device (Gated Resistor) is less complex and more flexible than that of regular transistors. It has the potential of increasing yield and reducing the price of integrated circuits. Furthermore, the Gated Resistor offers the promise of superior scaling to sub-22 nm dimensions compared to regular transistors. In addition, the process can easily be implemented in semiconductor materials other than silicon. The second device (Variable Barrier Transistor) is capable of providing subthreshold slopes sharper than any conventional transistor. This permits one to reduce the supply voltage of integrated circuits, and hence their energy consumption.
Campo scientifico (EuroSciVoc)
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
- scienze naturali scienze fisiche elettromagnetismo ed elettronica semiconduttività
- scienze naturali scienze chimiche chimica inorganica metalloidi
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Programma(i)
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Argomento(i)
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Invito a presentare proposte
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
FP7-ICT-2009-5
Vedi altri progetti per questo bando
Meccanismo di finanziamento
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Coordinatore
T12 YN60 Cork
Irlanda
I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.