Ziel
As microelectronic device dimensions continue to shrink, system performance is becoming limited by the interconnect delay. A major component of this delay arises from intra-level capacitance. The dielectric must therefore have a low dielectric constant in order to minimize the capacitance between the lines and maximize performance at reduced dimensions. Silicon oxycarbides with dielectric constant of 2.7-3.0 are already being used in advanced production processes. In order to reduce the dielectric constant further, porosity has to be introduced into the film. Initial research, performed on spin-on dielectrics, already revealed many integration issues related to the porosity of these materials. In order to achieve production-worthy processes, chemical vapour deposition is the preferred way to fabricate these films.
In this project, plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) is used to develop processes for ultra-low K deposition. This research project makes use of the most advanced production-compatible equipment on 300mm Si wafers. Through selection of the optimum precursors and process conditions, suitable films will be developed. The project will investigate the impact of the plasma parameters on film properties, such as uniformity, composition, dielectric constant, pore size and pore distribution, elastic modulus and strength. The films will be integrated in IMEC's back-end of line processes to investigate etch behaviour, CMP compatibility and reliability properties. Specific plasma characterization of the deposition and clean recipes will be performed to optimise both.
Wissenschaftliches Gebiet (EuroSciVoc)
CORDIS klassifiziert Projekte mit EuroSciVoc, einer mehrsprachigen Taxonomie der Wissenschaftsbereiche, durch einen halbautomatischen Prozess, der auf Verfahren der Verarbeitung natürlicher Sprache beruht. Siehe: Das European Science Vocabulary.
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- Naturwissenschaften Naturwissenschaften Physik der kondensierten Materie Quasipartikel
- Naturwissenschaften Chemiewissenschaften anorganische Chemie Metalloide
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Programm/Programme
Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.
Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.
Thema/Themen
Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.
Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.
Aufforderung zur Vorschlagseinreichung
Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.
Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.
FP6-2004-MOBILITY-12
Andere Projekte für diesen Aufruf anzeigen
Finanzierungsplan
Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.
Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.
IRG - Marie Curie actions-International re-integration grants
Koordinator
LEUVEN
Belgien
Die Gesamtkosten, die dieser Organisation durch die Beteiligung am Projekt entstanden sind, einschließlich der direkten und indirekten Kosten. Dieser Betrag ist Teil des Gesamtbudgets des Projekts.