Publications
Auteurs:
Mark van de Kerkhof, Hans Jasper, Leon Levasier, Rudy Peeters, Roderik van Es, Jan-Willem Bosker, Alexander Zdravkov, Egbert Lenderink, Fabrizio Evangelista, Par Broman, Bartosz Bilski, Thorsten Last
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numéro 2017, 2017, Page(s) 101430D
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2258025
Auteurs:
Elizabeth Buitrago, Marieke Meeuwissen, Oktay Yildirim, Rolf Custers, Rik Hoefnagels, Gijsbert Rispens, Michaela Vockenhuber, Iacopo Mochi, Roberto Fallica, Zuhal Tasdemir, Yasin Ekinci
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numéro 2017, 2017, Page(s) 101430T
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2260153
Auteurs:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numéro 2017, 2017, Page(s) 2, ISBN 9781-510613751
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Auteurs:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numéro 2018, 2018, Page(s) 13, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Auteurs:
Alberto Pirati, Jan van Schoot, Kars Troost, Rob van Ballegoij, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Niclas Mika, Jeannot Dredonx, Uwe Stamm, Bernhard Kneer, Bernd Thuering, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numéro 2017, 2017, Page(s) 101430G
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2261079
Auteurs:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Laurens de Winter, Jan Lubkoll, John McNamara, Paul Rusu, Gijsbert Rispens, Jan van Schoot, Jens Timo Neumann, Matthias Roesch, Bernhard Kneer
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numéro 2017, 2017, Page(s) 32, ISBN 9781-510613751
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280624
Auteurs:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numéro 2019, 2019, Page(s) 5, ISBN 9781-510625624
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514952
Auteurs:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numéro 2018, 2018, Page(s) 23, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Auteurs:
Mark A. van de Kerkhof, Uwe Zeitner, Torsten Feigl, Stefan Bäumer, Robbert Jan Voogd, Ad Schasfoort, Evert Westerhuis, Wouter Engelen, Manfred Dikkers, Yassin Chowdhury, Michael D. Kriese
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numéro 2018, 2018, Page(s) 24, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297433
Auteurs:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos P. Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura, Peter Kuerz, Jens Timo Neumann
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numéro 2017, 2017, Page(s) 30, ISBN 9781-510613751
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280592
Auteurs:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numéro 2018, 2018, Page(s) 33, ISBN 9781-510622142
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502894
Auteurs:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numéro 2019, 2019, Page(s) 3, ISBN 9781-510625624
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515205
Auteurs:
Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numéro 2018, 2018, Page(s) 34, ISBN 9781-510622142
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502149
Auteurs:
Aurelie Juncker, William Clark, Benjamin Vincent, Joern-Holger Franke, Sandip Halder, Frederic Lazzarino, Gayle Murdoch
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Page(s) 29, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2298761
Auteurs:
Sylvain Baudot, Assawer Soussou, Alexey P. Milenin, Toby Hopf, Shouhua Wang, Pieter Wecks, Benjamin Vincent, Joseph Ervin, Steven Demuynck
Publié dans:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI, 2019, Page(s) 22, ISBN 9781-510625686
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514927
Auteurs:
Mohamed Saib, Alain Moussa, Anne-Laure Charley, Philippe Leray, Joey Hung, Roy Koret, Igor Turovets, Avron Ger, Shaoren Deng, Andrea Illiberi, Jan Willem Maes, Gabriel Woodworth, Michael Strauss
Publié dans:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Page(s) 57, ISBN 9781-510625662
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515177
Auteurs:
Tal Itzkovich; Aner Avakrat; Shimon Levi; Omri Baum; Noam Amit; Kevin Houchens
Publié dans:
SPIE 10959, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 109591S (7 May 2019), Numéro 2019, 2019
Éditeur:
SPIE
Auteurs:
S. Guissi, W. F. Clark, A. Junker, J. Ervin, K. Greiner, D. Fried, B. Briggs, K. Devriendt, F. Sebaai, A. Charley, C. J. Wilson, J. Boemmels, Z. Tőkei
Publié dans:
Proceedings of IEEE IITC INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE, 2017
Éditeur:
IEEE
Auteurs:
Vivek Bakshi, Hakaru Mizoguchi, Ted Liang, Andrew Grenville, Jos Benschop
Publié dans:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Numéro 16/04, 2017, Page(s) 1, ISSN 1932-5150
Éditeur:
S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI:
10.1117/1.jmm.16.4.041001
Auteurs:
Sascha Migura, Winfried Kaiser, Jens Timo Neumann, Hartmut Enkisch, and Dirk Hellweg
Publié dans:
Chapter 5: Optics for EUVL, 2018, Page(s) 225-333, ISBN 9781-510616783
Éditeur:
SPIE Publications
DOI:
10.1117/3.2305675
Droits de propriété intellectuelle
Numéro de demande/publication:
WO
2018219569 A1
Date:
2018-05-01
Numéro de demande/publication:
DE
102018207384A1
Date:
2018-05-14
Demandeur(s):
CARL ZEISS SMT GMBH
Numéro de demande/publication:
WO
2017060259
Date:
2016-10-05
Numéro de demande/publication:
WO
2017025374
Date:
2016-08-01
Demandeur(s):
CARL ZEISS SMT GMBH
Numéro de demande/publication:
WO
2018041599 A1
Date:
2017-08-11
Numéro de demande/publication:
DE
DE102018214223A1
Date:
2018-08-23
Demandeur(s):
CARL ZEISS SMT GMBH
Numéro de demande/publication:
WO
2016169758 A1
Date:
2016-04-04
Numéro de demande/publication:
US
9726624
Date:
2017-08-08
Demandeur(s):
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Numéro de demande/publication:
WO
2018188859 A1
Date:
2018-03-08
Numéro de demande/publication:
WO
2019001922 A1
Date:
2018-06-07
Numéro de demande/publication:
US
9551677
Date:
2017-01-24
Demandeur(s):
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Numéro de demande/publication:
PCT
IL2016/051350
Date:
2016-12-15
Demandeur(s):
NOVA LTD
Numéro de demande/publication:
DE
102018212195A1
Date:
2018-07-23
Demandeur(s):
CARL ZEISS SMT GMBH
Numéro de demande/publication:
WO
2018041599 A1
Date:
2017-08-11
Numéro de demande/publication:
WO
2018091189 A2
Date:
2017-02-10
Numéro de demande/publication:
DE
102018211015A1
Date:
2018-07-04
Demandeur(s):
CARL ZEISS SMT GMBH
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