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Pubblicazioni
Autori:
Mark van de Kerkhof, Hans Jasper, Leon Levasier, Rudy Peeters, Roderik van Es, Jan-Willem Bosker, Alexander Zdravkov, Egbert Lenderink, Fabrizio Evangelista, Par Broman, Bartosz Bilski, Thorsten Last
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numero 2017, 2017, Pagina/e 101430D
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2258025
Autori:
Elizabeth Buitrago, Marieke Meeuwissen, Oktay Yildirim, Rolf Custers, Rik Hoefnagels, Gijsbert Rispens, Michaela Vockenhuber, Iacopo Mochi, Roberto Fallica, Zuhal Tasdemir, Yasin Ekinci
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numero 2017, 2017, Pagina/e 101430T
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2260153
Autori:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numero 2017, 2017, Pagina/e 2, ISBN 9781-510613751
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Autori:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numero 2018, 2018, Pagina/e 13, ISBN 9781-510616592
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Autori:
Alberto Pirati, Jan van Schoot, Kars Troost, Rob van Ballegoij, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Niclas Mika, Jeannot Dredonx, Uwe Stamm, Bernhard Kneer, Bernd Thuering, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numero 2017, 2017, Pagina/e 101430G
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2261079
Autori:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Laurens de Winter, Jan Lubkoll, John McNamara, Paul Rusu, Gijsbert Rispens, Jan van Schoot, Jens Timo Neumann, Matthias Roesch, Bernhard Kneer
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numero 2017, 2017, Pagina/e 32, ISBN 9781-510613751
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280624
Autori:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numero 2019, 2019, Pagina/e 5, ISBN 9781-510625624
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514952
Autori:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numero 2018, 2018, Pagina/e 23, ISBN 9781-510616592
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Autori:
Mark A. van de Kerkhof, Uwe Zeitner, Torsten Feigl, Stefan Bäumer, Robbert Jan Voogd, Ad Schasfoort, Evert Westerhuis, Wouter Engelen, Manfred Dikkers, Yassin Chowdhury, Michael D. Kriese
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numero 2018, 2018, Pagina/e 24, ISBN 9781-510616592
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297433
Autori:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos P. Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura, Peter Kuerz, Jens Timo Neumann
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numero 2017, 2017, Pagina/e 30, ISBN 9781-510613751
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280592
Autori:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numero 2018, 2018, Pagina/e 33, ISBN 9781-510622142
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502894
Autori:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numero 2019, 2019, Pagina/e 3, ISBN 9781-510625624
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515205
Autori:
Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numero 2018, 2018, Pagina/e 34, ISBN 9781-510622142
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502149
Autori:
Aurelie Juncker, William Clark, Benjamin Vincent, Joern-Holger Franke, Sandip Halder, Frederic Lazzarino, Gayle Murdoch
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Pagina/e 29, ISBN 9781-510616592
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2298761
Autori:
Sylvain Baudot, Assawer Soussou, Alexey P. Milenin, Toby Hopf, Shouhua Wang, Pieter Wecks, Benjamin Vincent, Joseph Ervin, Steven Demuynck
Pubblicato in:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI, 2019, Pagina/e 22, ISBN 9781-510625686
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514927
Autori:
Mohamed Saib, Alain Moussa, Anne-Laure Charley, Philippe Leray, Joey Hung, Roy Koret, Igor Turovets, Avron Ger, Shaoren Deng, Andrea Illiberi, Jan Willem Maes, Gabriel Woodworth, Michael Strauss
Pubblicato in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Pagina/e 57, ISBN 9781-510625662
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515177
Autori:
Tal Itzkovich; Aner Avakrat; Shimon Levi; Omri Baum; Noam Amit; Kevin Houchens
Pubblicato in:
SPIE 10959, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 109591S (7 May 2019), Numero 2019, 2019
Editore:
SPIE
Autori:
S. Guissi, W. F. Clark, A. Junker, J. Ervin, K. Greiner, D. Fried, B. Briggs, K. Devriendt, F. Sebaai, A. Charley, C. J. Wilson, J. Boemmels, Z. Tőkei
Pubblicato in:
Proceedings of IEEE IITC INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE, 2017
Editore:
IEEE
Autori:
Vivek Bakshi, Hakaru Mizoguchi, Ted Liang, Andrew Grenville, Jos Benschop
Pubblicato in:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Numero 16/04, 2017, Pagina/e 1, ISSN 1932-5150
Editore:
S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI:
10.1117/1.jmm.16.4.041001
Autori:
Sascha Migura, Winfried Kaiser, Jens Timo Neumann, Hartmut Enkisch, and Dirk Hellweg
Pubblicato in:
Chapter 5: Optics for EUVL, 2018, Pagina/e 225-333, ISBN 9781-510616783
Editore:
SPIE Publications
DOI:
10.1117/3.2305675
Diritti di proprietà intellettuale
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2018219569 A1
Data:
2018-05-01
Candidato/i:
ASML NETHERLANDS B.V.
Numero candidatura/pubblicazione:
DE
DE102018214223A1
Data:
2018-08-23
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
DE
102018211015A1
Data:
2018-07-04
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2018188859 A1
Data:
2018-03-08
Candidato/i:
ASML NETHERLANDS B.V.
Numero candidatura/pubblicazione:
DE
102018212195A1
Data:
2018-07-23
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2018091189 A2
Data:
2017-02-10
Candidato/i:
ASML NETHERLANDS B.V.
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2018041599 A1
Data:
2017-08-11
Candidato/i:
ASML NETHERLANDS B.V.
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2017025374
Data:
2016-08-01
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
US
9726624
Data:
2017-08-08
Candidato/i:
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2019001922 A1
Data:
2018-06-07
Candidato/i:
ASML NETHERLANDS B.V.
Numero candidatura/pubblicazione:
PCT
IL2016/051350
Data:
2016-12-15
Candidato/i:
NOVA LTD
Numero candidatura/pubblicazione:
US
9551677
Data:
2017-01-24
Candidato/i:
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Numero candidatura/pubblicazione:
DE
102018207384A1
Data:
2018-05-14
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
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