Technology Advances and Key Enablers for 5 nm

Informacje na temat projektu

TAKE5

Identyfikator umowy o grant: 692522

DOI

10.3030/692522

Projekt został zamknięty

Data podpisania przez KE 4 Maja 2016

Data rozpoczęcia 1 Kwietnia 2016

Data zakończenia 31 Marca 2019

Finansowanie w ramach

• INDUSTRIAL LEADERSHIP - Leadership in enabling and industrial technologies - Information and Communication Technologies (ICT)

Koszt całkowity

€ 149 882 181,00

Wkład UE

€ 28 364 017,53

Koordynowany przez

ASML NETHERLANDS B.V.
Netherlands

CORDIS oferuje możliwość skorzystania z odnośników do publicznie dostępnych publikacji i rezultatów projektów realizowanych w ramach programów ramowych HORYZONT.

Odnośniki do rezultatów i publikacji związanych z poszczególnymi projektami 7PR, a także odnośniki do niektórych konkretnych kategorii wyników, takich jak zbiory danych i oprogramowanie, są dynamicznie pobierane z systemu OpenAIRE .

Publikacje

Conference proceedings (18)

Enabling sub-10nm node lithography: presenting the NXE:3400B EUV scanner

Autorzy: Mark van de Kerkhof, Hans Jasper, Leon Levasier, Rudy Peeters, Roderik van Es, Jan-Willem Bosker, Alexander Zdravkov, Egbert Lenderink, Fabrizio Evangelista, Par Broman, Bartosz Bilski, Thorsten Last
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 101430D
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2258025

State-of-the-art EUV materials and processes for the 7nm node and beyond

Autorzy: Elizabeth Buitrago, Marieke Meeuwissen, Oktay Yildirim, Rolf Custers, Rik Hoefnagels, Gijsbert Rispens, Michaela Vockenhuber, Iacopo Mochi, Roberto Fallica, Zuhal Tasdemir, Yasin Ekinci
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 101430T
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2260153

EUV lithography industrialization progress

Autorzy: Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Opublikowane w: International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 2, ISBN 9781-510613751
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2281184

EUV for HVM: towards an industrialized scanner for HVM NXE3400B performance update

Autorzy: Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 13, ISBN 9781-510616592
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2299503

The future of EUV lithography: enabling Moore's Law in the next decade

Autorzy: Alberto Pirati, Jan van Schoot, Kars Troost, Rob van Ballegoij, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Niclas Mika, Jeannot Dredonx, Uwe Stamm, Bernhard Kneer, Bernd Thuering, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 101430G
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2261079

Edge placement error control and Mask3D effects in High-NA anamorphic EUV lithography

Autorzy: Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Laurens de Winter, Jan Lubkoll, John McNamara, Paul Rusu, Gijsbert Rispens, Jan van Schoot, Jens Timo Neumann, Matthias Roesch, Bernhard Kneer
Opublikowane w: International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 32, ISBN 9781-510613751
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2280624

High NA EUV lithography: Next step in EUV imaging

Autorzy: Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 5, ISBN 9781-510625624
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2514952

The future of EUV lithography: continuing Moore's Law into the next decade

Autorzy: Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 23, ISBN 9781-510616592
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2295800

Diffuser concepts for in-situ wavefront measurements of EUV projection optics

Autorzy: Mark A. van de Kerkhof, Uwe Zeitner, Torsten Feigl, Stefan Bäumer, Robbert Jan Voogd, Ad Schasfoort, Evert Westerhuis, Wouter Engelen, Manfred Dikkers, Yassin Chowdhury, Michael D. Kriese
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 24, ISBN 9781-510616592
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2297433

High-NA EUV lithography enabling Moore’s law in the next decade

Autorzy: Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos P. Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura, Peter Kuerz, Jens Timo Neumann
Opublikowane w: International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 30, ISBN 9781-510613751
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2280592

High-NA EUV lithography exposure tool progress (Conference Presentation)

Autorzy: Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Opublikowane w: International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 33, ISBN 9781-510622142
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2502894

High-NA EUV lithography exposure tool progress

Autorzy: Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 3, ISBN 9781-510625624
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2515205

High-NA EUV lithography: The next step in EUV imaging (Conference Presentation)

Autorzy: Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Opublikowane w: International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 34, ISBN 9781-510622142
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2502149

Self-aligned block and fully self-aligned via for iN5 metal 2 self-aligned quadruple patterning

Autorzy: Aurelie Juncker, William Clark, Benjamin Vincent, Joern-Holger Franke, Sandip Halder, Frederic Lazzarino, Gayle Murdoch
Opublikowane w: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Strona(/y) 29, ISBN 9781-510616592
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2298761

Self-aligned fin cut last patterning scheme for fin arrays of 24nm pitch and beyond

Autorzy: Sylvain Baudot, Assawer Soussou, Alexey P. Milenin, Toby Hopf, Shouhua Wang, Pieter Wecks, Benjamin Vincent, Joseph Ervin, Steven Demuynck
Opublikowane w: Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI, 2019, Strona(/y) 22, ISBN 9781-510625686
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2514927

Scatterometry and AFM measurement combination for area selective deposition process characterization

Autorzy: Mohamed Saib, Alain Moussa, Anne-Laure Charley, Philippe Leray, Joey Hung, Roy Koret, Igor Turovets, Avron Ger, Shaoren Deng, Andrea Illiberi, Jan Willem Maes, Gabriel Woodworth, Michael Strauss
Opublikowane w: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Strona(/y) 57, ISBN 9781-510625662
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2515177

SEM inspection and review method for addressing EUV stochastic defects

Autorzy: Tal Itzkovich; Aner Avakrat; Shimon Levi; Omri Baum; Noam Amit; Kevin Houchens
Opublikowane w: SPIE 10959, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 109591S (7 May 2019), Numer 2019, 2019
Wydawca: SPIE

Modeling of Tone Inversion Process Flow for N5 Interconnect to Characterize Block Tip to Tip

Autorzy: S. Guissi, W. F. Clark, A. Junker, J. Ervin, K. Greiner, D. Fried, B. Briggs, K. Devriendt, F. Sebaai, A. Charley, C. J. Wilson, J. Boemmels, Z. Tőkei
Opublikowane w: Proceedings of IEEE IITC INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE, 2017
Wydawca: IEEE

Non-peer reviewed articles (1)

Special Section Guest Editorial: EUV Lithography for the 3-nm Node and Beyond

Autorzy: Vivek Bakshi, Hakaru Mizoguchi, Ted Liang, Andrew Grenville, Jos Benschop
Opublikowane w: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Numer 16/04, 2017, Strona(/y) 1, ISSN 1932-5150
Wydawca: S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI: 10.1117/1.jmm.16.4.041001

Monographic books (1)

EUV Lithography, Second Edition

Autorzy: Sascha Migura, Winfried Kaiser, Jens Timo Neumann, Hartmut Enkisch, and Dirk Hellweg
Opublikowane w: Chapter 5: Optics for EUVL, 2018, Strona(/y) 225-333, ISBN 9781-510616783
Wydawca: SPIE Publications
DOI: 10.1117/3.2305675

Prawa własności intelektualnej

Patent (13)

Lithographic apparatus

Numer wniosku/publikacji: WO 2018219569 A1
Data: 2018-05-01
Wnioskodawca/wnioskodawcy: ASML NETHERLANDS B.V.

Pupillenfacettenspiegel

Numer wniosku/publikacji: DE DE102018214223A1
Data: 2018-08-23
Wnioskodawca/wnioskodawcy: CARL ZEISS SMT GMBH

OPTISCHES SYSTEM UND LITHOGRAPHIEANLAGE

Numer wniosku/publikacji: DE 102018211015A1
Data: 2018-07-04
Wnioskodawca/wnioskodawcy: CARL ZEISS SMT GMBH

Mirror array

Numer wniosku/publikacji: WO 2018188859 A1
Data: 2018-03-08
Wnioskodawca/wnioskodawcy: ASML NETHERLANDS B.V.

Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Bauteilen für die EUV-Mikrolithographie

Numer wniosku/publikacji: DE 102018212195A1
Data: 2018-07-23
Wnioskodawca/wnioskodawcy: CARL ZEISS SMT GMBH

Radiation analysis system

Numer wniosku/publikacji: WO 2018091189 A2
Data: 2017-02-10
Wnioskodawca/wnioskodawcy: ASML NETHERLANDS B.V.

Lithographic apparatus

Numer wniosku/publikacji: WO 2018041599 A1
Data: 2017-08-11
Wnioskodawca/wnioskodawcy: ASML NETHERLANDS B.V.

EUV LITHOGRAPHY SYSTEM

Numer wniosku/publikacji: WO 2017025374
Data: 2016-08-01
Wnioskodawca/wnioskodawcy: CARL ZEISS SMT GMBH

Using Multiple Sources/Detectors for High-Throughput X-Ray Topography Measurement

Numer wniosku/publikacji: US 9726624
Data: 2017-08-08
Wnioskodawca/wnioskodawcy: BRUKER TECHNOLOGIES LTD

COOLING APPARATUS AND PLASMA-CLEANING STATION FOR COOLING APPARATUS

Numer wniosku/publikacji: WO 2019001922 A1
Data: 2018-06-07
Wnioskodawca/wnioskodawcy: ASML NETHERLANDS B.V.

PCT/IL2016/051350

Numer wniosku/publikacji: PCT IL2016/051350
Data: 2016-12-15
Wnioskodawca/wnioskodawcy: NOVA LTD

Angle calibration for GIXRF

Numer wniosku/publikacji: US 9551677
Data: 2017-01-24
Wnioskodawca/wnioskodawcy: BRUKER TECHNOLOGIES LTD

Verfahren zum Vermessen eines Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Numer wniosku/publikacji: DE 102018207384A1
Data: 2018-05-14
Wnioskodawca/wnioskodawcy: CARL ZEISS SMT GMBH