Publikacje
Autorzy:
Mark van de Kerkhof, Hans Jasper, Leon Levasier, Rudy Peeters, Roderik van Es, Jan-Willem Bosker, Alexander Zdravkov, Egbert Lenderink, Fabrizio Evangelista, Par Broman, Bartosz Bilski, Thorsten Last
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 101430D
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2258025
Autorzy:
Elizabeth Buitrago, Marieke Meeuwissen, Oktay Yildirim, Rolf Custers, Rik Hoefnagels, Gijsbert Rispens, Michaela Vockenhuber, Iacopo Mochi, Roberto Fallica, Zuhal Tasdemir, Yasin Ekinci
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 101430T
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2260153
Autorzy:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 2, ISBN 9781-510613751
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Autorzy:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 13, ISBN 9781-510616592
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Autorzy:
Alberto Pirati, Jan van Schoot, Kars Troost, Rob van Ballegoij, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Niclas Mika, Jeannot Dredonx, Uwe Stamm, Bernhard Kneer, Bernd Thuering, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 101430G
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2261079
Autorzy:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Laurens de Winter, Jan Lubkoll, John McNamara, Paul Rusu, Gijsbert Rispens, Jan van Schoot, Jens Timo Neumann, Matthias Roesch, Bernhard Kneer
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 32, ISBN 9781-510613751
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280624
Autorzy:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 5, ISBN 9781-510625624
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514952
Autorzy:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 23, ISBN 9781-510616592
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Autorzy:
Mark A. van de Kerkhof, Uwe Zeitner, Torsten Feigl, Stefan Bäumer, Robbert Jan Voogd, Ad Schasfoort, Evert Westerhuis, Wouter Engelen, Manfred Dikkers, Yassin Chowdhury, Michael D. Kriese
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 24, ISBN 9781-510616592
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297433
Autorzy:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos P. Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura, Peter Kuerz, Jens Timo Neumann
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 30, ISBN 9781-510613751
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280592
Autorzy:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 33, ISBN 9781-510622142
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502894
Autorzy:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 3, ISBN 9781-510625624
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515205
Autorzy:
Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 34, ISBN 9781-510622142
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502149
Autorzy:
Aurelie Juncker, William Clark, Benjamin Vincent, Joern-Holger Franke, Sandip Halder, Frederic Lazzarino, Gayle Murdoch
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Strona(/y) 29, ISBN 9781-510616592
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2298761
Autorzy:
Sylvain Baudot, Assawer Soussou, Alexey P. Milenin, Toby Hopf, Shouhua Wang, Pieter Wecks, Benjamin Vincent, Joseph Ervin, Steven Demuynck
Opublikowane w:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI, 2019, Strona(/y) 22, ISBN 9781-510625686
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514927
Autorzy:
Mohamed Saib, Alain Moussa, Anne-Laure Charley, Philippe Leray, Joey Hung, Roy Koret, Igor Turovets, Avron Ger, Shaoren Deng, Andrea Illiberi, Jan Willem Maes, Gabriel Woodworth, Michael Strauss
Opublikowane w:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Strona(/y) 57, ISBN 9781-510625662
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515177
Autorzy:
Tal Itzkovich; Aner Avakrat; Shimon Levi; Omri Baum; Noam Amit; Kevin Houchens
Opublikowane w:
SPIE 10959, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 109591S (7 May 2019), Numer 2019, 2019
Wydawca:
SPIE
Autorzy:
S. Guissi, W. F. Clark, A. Junker, J. Ervin, K. Greiner, D. Fried, B. Briggs, K. Devriendt, F. Sebaai, A. Charley, C. J. Wilson, J. Boemmels, Z. Tőkei
Opublikowane w:
Proceedings of IEEE IITC INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE, 2017
Wydawca:
IEEE
Autorzy:
Vivek Bakshi, Hakaru Mizoguchi, Ted Liang, Andrew Grenville, Jos Benschop
Opublikowane w:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Numer 16/04, 2017, Strona(/y) 1, ISSN 1932-5150
Wydawca:
S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI:
10.1117/1.jmm.16.4.041001
Autorzy:
Sascha Migura, Winfried Kaiser, Jens Timo Neumann, Hartmut Enkisch, and Dirk Hellweg
Opublikowane w:
Chapter 5: Optics for EUVL, 2018, Strona(/y) 225-333, ISBN 9781-510616783
Wydawca:
SPIE Publications
DOI:
10.1117/3.2305675
Prawa własności intelektualnej
Numer wniosku/publikacji:
WO
2018219569 A1
Data:
2018-05-01
Numer wniosku/publikacji:
DE
102018207384A1
Data:
2018-05-14
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
WO
2017060259
Data:
2016-10-05
Numer wniosku/publikacji:
WO
2017025374
Data:
2016-08-01
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
WO
2018041599 A1
Data:
2017-08-11
Numer wniosku/publikacji:
DE
DE102018214223A1
Data:
2018-08-23
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
WO
2016169758 A1
Data:
2016-04-04
Numer wniosku/publikacji:
US
9726624
Data:
2017-08-08
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Numer wniosku/publikacji:
WO
2018188859 A1
Data:
2018-03-08
Numer wniosku/publikacji:
WO
2019001922 A1
Data:
2018-06-07
Numer wniosku/publikacji:
US
9551677
Data:
2017-01-24
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Numer wniosku/publikacji:
PCT
IL2016/051350
Data:
2016-12-15
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
NOVA LTD
Numer wniosku/publikacji:
DE
102018212195A1
Data:
2018-07-23
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
WO
2018041599 A1
Data:
2017-08-11
Numer wniosku/publikacji:
WO
2018091189 A2
Data:
2017-02-10
Numer wniosku/publikacji:
DE
102018211015A1
Data:
2018-07-04
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Wyszukiwanie danych OpenAIRE...
Podczas wyszukiwania danych OpenAIRE wystąpił błąd
Brak wyników