Veröffentlichungen
Autoren:
Mark van de Kerkhof, Hans Jasper, Leon Levasier, Rudy Peeters, Roderik van Es, Jan-Willem Bosker, Alexander Zdravkov, Egbert Lenderink, Fabrizio Evangelista, Par Broman, Bartosz Bilski, Thorsten Last
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Ausgabe 2017, 2017, Seite(n) 101430D
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2258025
Autoren:
Elizabeth Buitrago, Marieke Meeuwissen, Oktay Yildirim, Rolf Custers, Rik Hoefnagels, Gijsbert Rispens, Michaela Vockenhuber, Iacopo Mochi, Roberto Fallica, Zuhal Tasdemir, Yasin Ekinci
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Ausgabe 2017, 2017, Seite(n) 101430T
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2260153
Autoren:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Ausgabe 2017, 2017, Seite(n) 2, ISBN 9781-510613751
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Autoren:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 13, ISBN 9781-510616592
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Autoren:
Alberto Pirati, Jan van Schoot, Kars Troost, Rob van Ballegoij, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Niclas Mika, Jeannot Dredonx, Uwe Stamm, Bernhard Kneer, Bernd Thuering, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Ausgabe 2017, 2017, Seite(n) 101430G
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2261079
Autoren:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Laurens de Winter, Jan Lubkoll, John McNamara, Paul Rusu, Gijsbert Rispens, Jan van Schoot, Jens Timo Neumann, Matthias Roesch, Bernhard Kneer
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Ausgabe 2017, 2017, Seite(n) 32, ISBN 9781-510613751
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280624
Autoren:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 5, ISBN 9781-510625624
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514952
Autoren:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 23, ISBN 9781-510616592
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Autoren:
Mark A. van de Kerkhof, Uwe Zeitner, Torsten Feigl, Stefan Bäumer, Robbert Jan Voogd, Ad Schasfoort, Evert Westerhuis, Wouter Engelen, Manfred Dikkers, Yassin Chowdhury, Michael D. Kriese
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 24, ISBN 9781-510616592
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297433
Autoren:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos P. Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura, Peter Kuerz, Jens Timo Neumann
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Ausgabe 2017, 2017, Seite(n) 30, ISBN 9781-510613751
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280592
Autoren:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 33, ISBN 9781-510622142
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502894
Autoren:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 3, ISBN 9781-510625624
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515205
Autoren:
Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 34, ISBN 9781-510622142
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502149
Autoren:
Aurelie Juncker, William Clark, Benjamin Vincent, Joern-Holger Franke, Sandip Halder, Frederic Lazzarino, Gayle Murdoch
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Seite(n) 29, ISBN 9781-510616592
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2298761
Autoren:
Sylvain Baudot, Assawer Soussou, Alexey P. Milenin, Toby Hopf, Shouhua Wang, Pieter Wecks, Benjamin Vincent, Joseph Ervin, Steven Demuynck
Veröffentlicht in:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI, 2019, Seite(n) 22, ISBN 9781-510625686
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514927
Autoren:
Mohamed Saib, Alain Moussa, Anne-Laure Charley, Philippe Leray, Joey Hung, Roy Koret, Igor Turovets, Avron Ger, Shaoren Deng, Andrea Illiberi, Jan Willem Maes, Gabriel Woodworth, Michael Strauss
Veröffentlicht in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Seite(n) 57, ISBN 9781-510625662
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515177
Autoren:
Tal Itzkovich; Aner Avakrat; Shimon Levi; Omri Baum; Noam Amit; Kevin Houchens
Veröffentlicht in:
SPIE 10959, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 109591S (7 May 2019), Ausgabe 2019, 2019
Herausgeber:
SPIE
Autoren:
S. Guissi, W. F. Clark, A. Junker, J. Ervin, K. Greiner, D. Fried, B. Briggs, K. Devriendt, F. Sebaai, A. Charley, C. J. Wilson, J. Boemmels, Z. Tőkei
Veröffentlicht in:
Proceedings of IEEE IITC INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE, 2017
Herausgeber:
IEEE
Autoren:
Vivek Bakshi, Hakaru Mizoguchi, Ted Liang, Andrew Grenville, Jos Benschop
Veröffentlicht in:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Ausgabe 16/04, 2017, Seite(n) 1, ISSN 1932-5150
Herausgeber:
S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI:
10.1117/1.jmm.16.4.041001
Autoren:
Sascha Migura, Winfried Kaiser, Jens Timo Neumann, Hartmut Enkisch, and Dirk Hellweg
Veröffentlicht in:
Chapter 5: Optics for EUVL, 2018, Seite(n) 225-333, ISBN 9781-510616783
Herausgeber:
SPIE Publications
DOI:
10.1117/3.2305675
Rechte des geistigen Eigentums
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2018219569 A1
Datum:
2018-05-01
Antrags-/Publikationsnummer:
DE
102018207384A1
Datum:
2018-05-14
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2017060259
Datum:
2016-10-05
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2017025374
Datum:
2016-08-01
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2018041599 A1
Datum:
2017-08-11
Antrags-/Publikationsnummer:
DE
DE102018214223A1
Datum:
2018-08-23
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2016169758 A1
Datum:
2016-04-04
Antrags-/Publikationsnummer:
US
9726624
Datum:
2017-08-08
Antragsteller:
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2018188859 A1
Datum:
2018-03-08
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2019001922 A1
Datum:
2018-06-07
Antrags-/Publikationsnummer:
US
9551677
Datum:
2017-01-24
Antragsteller:
BRUKER TECHNOLOGIES LTD
Antrags-/Publikationsnummer:
PCT
IL2016/051350
Datum:
2016-12-15
Antragsteller:
NOVA LTD
Antrags-/Publikationsnummer:
DE
102018212195A1
Datum:
2018-07-23
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2018041599 A1
Datum:
2017-08-11
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2018091189 A2
Datum:
2017-02-10
Antrags-/Publikationsnummer:
DE
102018211015A1
Datum:
2018-07-04
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
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