Zero damage Ultra-Low-K etch using the precursor CONDensation technique

Información del proyecto

ULKCOND

Identificador del acuerdo de subvención: 708106

DOI

10.3030/708106

Proyecto cerrado

Fecha de la firma de la CE 11 Marzo 2016

Fecha de inicio 1 Abril 2016

Fecha de finalización 31 Marzo 2018

Financiado con arreglo a

• EXCELLENT SCIENCE - Marie Skłodowska-Curie Actions

Coste total

€ 160 800,00

Aportación de la UE

€ 160 800,00

Coordinado por

INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM
Belgium

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Publicaciones

Conference proceedings (7)

Low damage ULK etching by means of high boiling point organic condensation

Autores: R. Chanson, N. Holtzer, P. Lefaucheux, R. Dussart, P. Shen, K. Urabe, C. Dussarat, K. Maekawa, K. Yatsuda, S. Tahara and J.-F. de Marneffe
Publicado en: 2017
Editor: MRS

Cryo-etching: fundamental mechanisms

Autores: R. CHANSON, S. Tahara, K. Sasa, C. Dussarat, R. Dussart, T. Thillocher, P. Lefaucheux, J-F demarneff
Publicado en: 2017
Editor: PTW

Cryo-etching for integration in micro-electronic : Silicon deep etch for contact and low-k integration in Back end of line (BEOL)

Autores: Romain Chanson, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Tillocher Thomas, Peng Shen, Keiichiro Urabe, Christian Dussarat, Kaoru Maekawa, Koichi Yatsuda, Shigeru Tahara, Jean-Francois de Marneffe
Publicado en: 2017
Editor: iPlasmaNano-VIII

Cryo-etching for low-k integration : Phenomenon screening from condensation to damages propagation a 0 damage process is reached

Autores: R. Chanson, J-F. De Marneffe, R. Dussart, T. Thomas, L. Philippe
Publicado en: 2016
Editor: PESM

Option for low damage processing during FSAV : GPPS and alternative plug

Autores: R. Chanson, J.F. de Marneffe, K. Babaei Gavan, F. Lazzarino, T. Yamaguchi, K. Yatsuda
Publicado en: 2017
Editor: PTW

Comparison of C4F8 and Higher boiling point organic for low-k cryo-etching

Autores: F.Leroy, N. Brochu, R. Chanson, R.Dussart, T. Tillocher, J.‑F. de Marneffe, L Zhang, K. Maekawa, K. Yatsuda, S. Tahara, C. Dussarrat
Publicado en: 2016
Editor: PESM

Low-k cryo-etching : Comparison of four different High Boiling Point Organic (HBPO)

Autores: R. CHANSON, S. Tahara, K. Sasa, C. Dussarrat, R. Dussart, T. Tillocher, P. Lefaucheux, J-F de marneffe
Publicado en: 2017
Editor: AVS