Pubblicazioni
Autori:
Maarten. H. van Es, Martijn van Riel, Tom Duivenvoorde, Hamed Sadeghian
Pubblicato in:
3rd ERP 3D Nanomanufacturing Dissemination Event Proceedings, Numero 06-11-2017, 2017
Editore:
TNO
Autori:
Maarten. H. van Es, Hamed Sadeghian
Pubblicato in:
3rd ERP 3D Nanomanufacturing Dissemination Event Proceedings, Numero 06-11-2017, 2017
Editore:
TNO
Autori:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numero 2018, 2018, Pagina/e 13, ISBN 9781-510616592
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Autori:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numero 2018, 2018, Pagina/e 23, ISBN 9781-510616592
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Autori:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numero 2017, 2017, Pagina/e 2, ISBN 9781-510613751
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Autori:
Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numero 2018, 2018, Pagina/e 34, ISBN 9781-510622142
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502149
Autori:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numero 2019, 2019, Pagina/e 5, ISBN 9781-510625624
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514952
Autori:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Pubblicato in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numero 2019, 2019, Pagina/e 3, ISBN 9781-510625624
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515205
Autori:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numero 2018, 2018, Pagina/e 33, ISBN 9781-510622142
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502894
Autori:
Boris Menchtchikov, Robert Socha, Chumeng Zheng, Sudharshanan Raghunathan, Leendertjan Karssemeijer, Irina Lyulina, Jonathan Lee, Igor Aarts, Krishanu Shome, Chris de Ruiter, Manouk Rijpstra, Henry Megens, Ralph Brinkhof, Floris Teeuwisse, Chung-Tien Li, Jan Hermans, Philippe Leray
Pubblicato in:
Optical Microlithography XXXI, Numero 2018, 2018, Pagina/e 11, ISBN 9781-510616677
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297493
Autori:
Ting-Ju Yueh, Miao-Chi Chen, Hsueh-Hung Wu, Shin-Rung Peng, Chun-Kuang Chen, L. J. Chen, John Lin, Kevin Cheng, Alexander Padi, Cathy Wang, Jean Phillippe van Damme, Theo Thijssen, Marcel Beckers, Albert Mollema, Leon Levasier, Jason Hung, Amy Chen, Floris Teeuwisse, Robin Tijssen, Marcel Mastenbroek, Harald Vos, Wilson Tzeng, Laurens van Bokhoven, Niels Lammers
Pubblicato in:
Optical Microlithography XXXI, Numero 2018, 2018, Pagina/e 8, ISBN 9781-510616677
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297387
Autori:
Henry Megens, Ralph Brinkhof, Igor Aarts, Haico Kok, Leendertjan Karssemeijer, Gijs ten Haaf, Shawn Lee, Daan Slotboom, Chris de Ruiter, Irina Lyulina, Simon Huisman, Stefan Keij, Evert Mos, Wim Tel, Manouk Rijpstra, Emil Schmitt-Weaver, Kaustuve Bhattacharyya, Robert Socha, Boris Menchtchikov, Michael Kubis, Jan Mulkens
Pubblicato in:
Optical Microlithography XXXII, Numero 2019, 2019, Pagina/e 18, ISBN 9781-510625709
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515449
Autori:
Laurent Fillinger, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Marco v.d.Lans
Pubblicato in:
Semicon Innovation Day 2019, Numero 21-05-2019, 2019
Editore:
TNO Optomechatronics
Autori:
Aliasghar Keyvani, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Marco v.d.Lans
Pubblicato in:
Semicon Innovation Day 2019, Numero 21-05-2019, 2019
Editore:
TNO Optomechatronics
Autori:
Maarten H. van Es, Laurent Fillinger, Mehmet S. Tamer, Marco van der Lans
Pubblicato in:
Semicon Innovation Day 2019, Numero 21-05-2019, 2019
Editore:
TNO Optomechatronics
Autori:
Maarten E. v. Reijzen, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Martijn v. Riel, Tom Duivenvoorde
Aliasghar Keyvani, Hamed Sadeghian, Marco v.d. Lans
Pubblicato in:
Semicon Innovation Day 2019, Numero 21-05-2019, 2019
Editore:
TNO Optomechatronics
Autori:
Maarten H. van Es, Laurent Fillinger, Hamed Sadeghian
Pubblicato in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Pagina/e 20, ISBN 9781-510625662
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515048
Autori:
Maarten E. van Reijzen, Mehmet S. Tamer, Maarten H. van Es, Martijn M. C. J. M. van Riel, Sasan Keyvani, Hamed Sadeghian, Marco van der Lans
Pubblicato in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, Numero 2 July 2019, 2019, Pagina/e 19, ISBN 9781-510625662
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515441
Autori:
Bartosz Bilski, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Jack Liddle, Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Jan van Schoot
Pubblicato in:
35th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2019), Numero 2019, 2019, Pagina/e 42, ISBN 9781-510630680
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2536329
Autori:
Jan Van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Rudy Peeters, Jos Benschop, Joerg Zimmermann, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019, Numero 2019, 2019, Pagina/e 34, ISBN 9781-510629981
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2538325
Autori:
Claus Zahlten, P. Gräupner, Jan van Schoot, Peter Kuerz, J. Stoeldraijer, Winfried Kaiser
Pubblicato in:
35th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2019), Numero 2019, 2019, Pagina/e 43, ISBN 9781-510630680
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2536469
Autori:
Heiko Feldmann, Olaf Conradi, Paul Graeupner, Jan van Schoot, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Pubblicato in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019, Numero 2019, 2019, Pagina/e 2, ISBN 9781-510629981
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2538927
Autori:
Heiko Feldmann, Paul Graupner, Peter Kurz, Winfried Kaiser
Pubblicato in:
ESSDERC 2019 - 49th European Solid-State Device Research Conference (ESSDERC), Numero 2019, 2019, Pagina/e 61-63, ISBN 978-1-7281-1539-9
Editore:
IEEE
DOI:
10.1109/essderc.2019.8901696
Autori:
Lars Wischmeier
Pubblicato in:
"17th Workshop ""Beams and More"", Suttgart, 2019", Numero 2019, 2019
Editore:
ims chips, Stuttgart, Germany
Autori:
Sandip Halder, Dieter Van den Heuvel, Stephane Lariviere, Philippe Leray, Kaushik Sah, Andrew Cross, Antonio Mani
Pubblicato in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, Numero 2019, 2019, Pagina/e 65, ISBN 9781-510625662
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515805
Autori:
L. Wischmeier, P. Gräupner, P. Kürz, W. Kaiser (ZEISS) , J. v. Schoot, J. Mallmann, J. d. Pee, J. Stoeldraijer (ASML)
Pubblicato in:
2020
Editore:
SPIE
Autori:
Kateřina Rubešová, Jan Havlíček, Vít Jakeš, Ladislav Nádherný, Jakub Cajzl, Dalibor Pánek, Tomáš Parkman, Alena Beitlerova, Romana Kučerková, František Hájek, Martin Nikl
Pubblicato in:
CrystEngComm, Numero 21/34, 2019, Pagina/e 5115-5123, ISSN 1466-8033
Editore:
Royal Society of Chemistry
DOI:
10.1039/c9ce00842j
Autori:
Kaushik Sah, Sandip Halder, Andrew Cross, Philippe Leray
Pubblicato in:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 2020, Pagina/e 1-1, ISSN 0894-6507
Editore:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI:
10.1109/tsm.2019.2963483
Autori:
S. Migura, W. Kaiser, J.T. Neumann, H. Enkisch, D. Hellweg
Pubblicato in:
EUV Lithography, 2nd Edition, Numero 2018, 2018, Pagina/e 225-333, ISBN 9781-510616783
Editore:
SPIE Press
Diritti di proprietà intellettuale
Numero candidatura/pubblicazione:
10
2018219375
Data:
2018-11-13
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2018046280 A1
Data:
2017-08-18
Numero candidatura/pubblicazione:
10
2018218162
Data:
2018-10-24
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
10
2018206967
Data:
2018-05-04
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2019020449 A1
Data:
2018-07-18
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2018041491 A1
Data:
2017-07-28
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2019020450 A1
Data:
2018-07-18
Numero candidatura/pubblicazione:
10
2018219595
Data:
2018-11-15
Candidato/i:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numero candidatura/pubblicazione:
WO
2019020445 A1
Data:
2018-07-18
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