Publikacje
Autorzy:
Maarten. H. van Es, Martijn van Riel, Tom Duivenvoorde, Hamed Sadeghian
Opublikowane w:
3rd ERP 3D Nanomanufacturing Dissemination Event Proceedings, Numer 06-11-2017, 2017
Wydawca:
TNO
Autorzy:
Maarten. H. van Es, Hamed Sadeghian
Opublikowane w:
3rd ERP 3D Nanomanufacturing Dissemination Event Proceedings, Numer 06-11-2017, 2017
Wydawca:
TNO
Autorzy:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 13, ISBN 9781-510616592
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Autorzy:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 23, ISBN 9781-510616592
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Autorzy:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Numer 2017, 2017, Strona(/y) 2, ISBN 9781-510613751
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Autorzy:
Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 34, ISBN 9781-510622142
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502149
Autorzy:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 5, ISBN 9781-510625624
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514952
Autorzy:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 3, ISBN 9781-510625624
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515205
Autorzy:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 33, ISBN 9781-510622142
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502894
Autorzy:
Boris Menchtchikov, Robert Socha, Chumeng Zheng, Sudharshanan Raghunathan, Leendertjan Karssemeijer, Irina Lyulina, Jonathan Lee, Igor Aarts, Krishanu Shome, Chris de Ruiter, Manouk Rijpstra, Henry Megens, Ralph Brinkhof, Floris Teeuwisse, Chung-Tien Li, Jan Hermans, Philippe Leray
Opublikowane w:
Optical Microlithography XXXI, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 11, ISBN 9781-510616677
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297493
Autorzy:
Ting-Ju Yueh, Miao-Chi Chen, Hsueh-Hung Wu, Shin-Rung Peng, Chun-Kuang Chen, L. J. Chen, John Lin, Kevin Cheng, Alexander Padi, Cathy Wang, Jean Phillippe van Damme, Theo Thijssen, Marcel Beckers, Albert Mollema, Leon Levasier, Jason Hung, Amy Chen, Floris Teeuwisse, Robin Tijssen, Marcel Mastenbroek, Harald Vos, Wilson Tzeng, Laurens van Bokhoven, Niels Lammers
Opublikowane w:
Optical Microlithography XXXI, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 8, ISBN 9781-510616677
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297387
Autorzy:
Henry Megens, Ralph Brinkhof, Igor Aarts, Haico Kok, Leendertjan Karssemeijer, Gijs ten Haaf, Shawn Lee, Daan Slotboom, Chris de Ruiter, Irina Lyulina, Simon Huisman, Stefan Keij, Evert Mos, Wim Tel, Manouk Rijpstra, Emil Schmitt-Weaver, Kaustuve Bhattacharyya, Robert Socha, Boris Menchtchikov, Michael Kubis, Jan Mulkens
Opublikowane w:
Optical Microlithography XXXII, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 18, ISBN 9781-510625709
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515449
Autorzy:
Laurent Fillinger, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Marco v.d.Lans
Opublikowane w:
Semicon Innovation Day 2019, Numer 21-05-2019, 2019
Wydawca:
TNO Optomechatronics
Autorzy:
Aliasghar Keyvani, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Marco v.d.Lans
Opublikowane w:
Semicon Innovation Day 2019, Numer 21-05-2019, 2019
Wydawca:
TNO Optomechatronics
Autorzy:
Maarten H. van Es, Laurent Fillinger, Mehmet S. Tamer, Marco van der Lans
Opublikowane w:
Semicon Innovation Day 2019, Numer 21-05-2019, 2019
Wydawca:
TNO Optomechatronics
Autorzy:
Maarten E. v. Reijzen, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Martijn v. Riel, Tom Duivenvoorde
Aliasghar Keyvani, Hamed Sadeghian, Marco v.d. Lans
Opublikowane w:
Semicon Innovation Day 2019, Numer 21-05-2019, 2019
Wydawca:
TNO Optomechatronics
Autorzy:
Maarten H. van Es, Laurent Fillinger, Hamed Sadeghian
Opublikowane w:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Strona(/y) 20, ISBN 9781-510625662
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515048
Autorzy:
Maarten E. van Reijzen, Mehmet S. Tamer, Maarten H. van Es, Martijn M. C. J. M. van Riel, Sasan Keyvani, Hamed Sadeghian, Marco van der Lans
Opublikowane w:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, Numer 2 July 2019, 2019, Strona(/y) 19, ISBN 9781-510625662
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515441
Autorzy:
Bartosz Bilski, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Jack Liddle, Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Jan van Schoot
Opublikowane w:
35th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2019), Numer 2019, 2019, Strona(/y) 42, ISBN 9781-510630680
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2536329
Autorzy:
Jan Van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Rudy Peeters, Jos Benschop, Joerg Zimmermann, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 34, ISBN 9781-510629981
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2538325
Autorzy:
Claus Zahlten, P. Gräupner, Jan van Schoot, Peter Kuerz, J. Stoeldraijer, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
35th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2019), Numer 2019, 2019, Strona(/y) 43, ISBN 9781-510630680
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2536469
Autorzy:
Heiko Feldmann, Olaf Conradi, Paul Graeupner, Jan van Schoot, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 2, ISBN 9781-510629981
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2538927
Autorzy:
Heiko Feldmann, Paul Graupner, Peter Kurz, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
ESSDERC 2019 - 49th European Solid-State Device Research Conference (ESSDERC), Numer 2019, 2019, Strona(/y) 61-63, ISBN 978-1-7281-1539-9
Wydawca:
IEEE
DOI:
10.1109/essderc.2019.8901696
Autorzy:
Lars Wischmeier
Opublikowane w:
"17th Workshop ""Beams and More"", Suttgart, 2019", Numer 2019, 2019
Wydawca:
ims chips, Stuttgart, Germany
Autorzy:
Sandip Halder, Dieter Van den Heuvel, Stephane Lariviere, Philippe Leray, Kaushik Sah, Andrew Cross, Antonio Mani
Opublikowane w:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, Numer 2019, 2019, Strona(/y) 65, ISBN 9781-510625662
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515805
Autorzy:
L. Wischmeier, P. Gräupner, P. Kürz, W. Kaiser (ZEISS) , J. v. Schoot, J. Mallmann, J. d. Pee, J. Stoeldraijer (ASML)
Opublikowane w:
2020
Wydawca:
SPIE
Autorzy:
Kateřina Rubešová, Jan Havlíček, Vít Jakeš, Ladislav Nádherný, Jakub Cajzl, Dalibor Pánek, Tomáš Parkman, Alena Beitlerova, Romana Kučerková, František Hájek, Martin Nikl
Opublikowane w:
CrystEngComm, Numer 21/34, 2019, Strona(/y) 5115-5123, ISSN 1466-8033
Wydawca:
Royal Society of Chemistry
DOI:
10.1039/c9ce00842j
Autorzy:
Kaushik Sah, Sandip Halder, Andrew Cross, Philippe Leray
Opublikowane w:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 2020, Strona(/y) 1-1, ISSN 0894-6507
Wydawca:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI:
10.1109/tsm.2019.2963483
Autorzy:
S. Migura, W. Kaiser, J.T. Neumann, H. Enkisch, D. Hellweg
Opublikowane w:
EUV Lithography, 2nd Edition, Numer 2018, 2018, Strona(/y) 225-333, ISBN 9781-510616783
Wydawca:
SPIE Press
Prawa własności intelektualnej
Numer wniosku/publikacji:
10
2018219375
Data:
2018-11-13
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
WO
2018046280 A1
Data:
2017-08-18
Numer wniosku/publikacji:
10
2018218162
Data:
2018-10-24
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
10
2018206967
Data:
2018-05-04
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
WO
2019020449 A1
Data:
2018-07-18
Numer wniosku/publikacji:
WO
2018041491 A1
Data:
2017-07-28
Numer wniosku/publikacji:
WO
2019020450 A1
Data:
2018-07-18
Numer wniosku/publikacji:
10
2018219595
Data:
2018-11-15
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
WO
2019020445 A1
Data:
2018-07-18
Wyszukiwanie danych OpenAIRE...
Podczas wyszukiwania danych OpenAIRE wystąpił błąd
Brak wyników