Veröffentlichungen
Autoren:
Maarten. H. van Es, Martijn van Riel, Tom Duivenvoorde, Hamed Sadeghian
Veröffentlicht in:
3rd ERP 3D Nanomanufacturing Dissemination Event Proceedings, Ausgabe 06-11-2017, 2017
Herausgeber:
TNO
Autoren:
Maarten. H. van Es, Hamed Sadeghian
Veröffentlicht in:
3rd ERP 3D Nanomanufacturing Dissemination Event Proceedings, Ausgabe 06-11-2017, 2017
Herausgeber:
TNO
Autoren:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 13, ISBN 9781-510616592
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Autoren:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 23, ISBN 9781-510616592
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Autoren:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, Ausgabe 2017, 2017, Seite(n) 2, ISBN 9781-510613751
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Autoren:
Eelco van Setten, John McNamara, Jan van Schoot, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Jörg Zimmermann, Jens-Timo Neumann, Matthias Rösch, Paul Graeupner
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 34, ISBN 9781-510622142
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502149
Autoren:
Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, John McNamara, Jan van Schoot, Kars Troost, Joseph Zekry, Timon Fliervoet, Stephen Hsu, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Bartosz Bilski, Paul Graeupner
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 5, ISBN 9781-510625624
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2514952
Autoren:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Paul Graeupner, Joerg Zimmermann, Peter Kuerz, Marco Pieters, Winfried Kaiser
Veröffentlicht in:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 3, ISBN 9781-510625624
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515205
Autoren:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Jo Finders, Hans Meiling, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Erik Loopstra, Bernhard Kneer, Sascha Migura
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 33, ISBN 9781-510622142
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2502894
Autoren:
Boris Menchtchikov, Robert Socha, Chumeng Zheng, Sudharshanan Raghunathan, Leendertjan Karssemeijer, Irina Lyulina, Jonathan Lee, Igor Aarts, Krishanu Shome, Chris de Ruiter, Manouk Rijpstra, Henry Megens, Ralph Brinkhof, Floris Teeuwisse, Chung-Tien Li, Jan Hermans, Philippe Leray
Veröffentlicht in:
Optical Microlithography XXXI, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 11, ISBN 9781-510616677
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297493
Autoren:
Ting-Ju Yueh, Miao-Chi Chen, Hsueh-Hung Wu, Shin-Rung Peng, Chun-Kuang Chen, L. J. Chen, John Lin, Kevin Cheng, Alexander Padi, Cathy Wang, Jean Phillippe van Damme, Theo Thijssen, Marcel Beckers, Albert Mollema, Leon Levasier, Jason Hung, Amy Chen, Floris Teeuwisse, Robin Tijssen, Marcel Mastenbroek, Harald Vos, Wilson Tzeng, Laurens van Bokhoven, Niels Lammers
Veröffentlicht in:
Optical Microlithography XXXI, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 8, ISBN 9781-510616677
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297387
Autoren:
Henry Megens, Ralph Brinkhof, Igor Aarts, Haico Kok, Leendertjan Karssemeijer, Gijs ten Haaf, Shawn Lee, Daan Slotboom, Chris de Ruiter, Irina Lyulina, Simon Huisman, Stefan Keij, Evert Mos, Wim Tel, Manouk Rijpstra, Emil Schmitt-Weaver, Kaustuve Bhattacharyya, Robert Socha, Boris Menchtchikov, Michael Kubis, Jan Mulkens
Veröffentlicht in:
Optical Microlithography XXXII, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 18, ISBN 9781-510625709
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515449
Autoren:
Laurent Fillinger, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Marco v.d.Lans
Veröffentlicht in:
Semicon Innovation Day 2019, Ausgabe 21-05-2019, 2019
Herausgeber:
TNO Optomechatronics
Autoren:
Aliasghar Keyvani, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Marco v.d.Lans
Veröffentlicht in:
Semicon Innovation Day 2019, Ausgabe 21-05-2019, 2019
Herausgeber:
TNO Optomechatronics
Autoren:
Maarten H. van Es, Laurent Fillinger, Mehmet S. Tamer, Marco van der Lans
Veröffentlicht in:
Semicon Innovation Day 2019, Ausgabe 21-05-2019, 2019
Herausgeber:
TNO Optomechatronics
Autoren:
Maarten E. v. Reijzen, Mehmet S. Tamer, Maarten H. v. Es, Martijn v. Riel, Tom Duivenvoorde
Aliasghar Keyvani, Hamed Sadeghian, Marco v.d. Lans
Veröffentlicht in:
Semicon Innovation Day 2019, Ausgabe 21-05-2019, 2019
Herausgeber:
TNO Optomechatronics
Autoren:
Maarten H. van Es, Laurent Fillinger, Hamed Sadeghian
Veröffentlicht in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, 2019, Seite(n) 20, ISBN 9781-510625662
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515048
Autoren:
Maarten E. van Reijzen, Mehmet S. Tamer, Maarten H. van Es, Martijn M. C. J. M. van Riel, Sasan Keyvani, Hamed Sadeghian, Marco van der Lans
Veröffentlicht in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, Ausgabe 2 July 2019, 2019, Seite(n) 19, ISBN 9781-510625662
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515441
Autoren:
Bartosz Bilski, Joerg Zimmermann, Matthias Roesch, Jack Liddle, Eelco van Setten, Gerardo Bottiglieri, Jan van Schoot
Veröffentlicht in:
35th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2019), Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 42, ISBN 9781-510630680
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2536329
Autoren:
Jan Van Schoot, Eelco van Setten, Kars Troost, Sjoerd Lok, Judon Stoeldraijer, Rudy Peeters, Jos Benschop, Joerg Zimmermann, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 34, ISBN 9781-510629981
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2538325
Autoren:
Claus Zahlten, P. Gräupner, Jan van Schoot, Peter Kuerz, J. Stoeldraijer, Winfried Kaiser
Veröffentlicht in:
35th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2019), Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 43, ISBN 9781-510630680
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2536469
Autoren:
Heiko Feldmann, Olaf Conradi, Paul Graeupner, Jan van Schoot, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Veröffentlicht in:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 2, ISBN 9781-510629981
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2538927
Autoren:
Heiko Feldmann, Paul Graupner, Peter Kurz, Winfried Kaiser
Veröffentlicht in:
ESSDERC 2019 - 49th European Solid-State Device Research Conference (ESSDERC), Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 61-63, ISBN 978-1-7281-1539-9
Herausgeber:
IEEE
DOI:
10.1109/essderc.2019.8901696
Autoren:
Lars Wischmeier
Veröffentlicht in:
"17th Workshop ""Beams and More"", Suttgart, 2019", Ausgabe 2019, 2019
Herausgeber:
ims chips, Stuttgart, Germany
Autoren:
Sandip Halder, Dieter Van den Heuvel, Stephane Lariviere, Philippe Leray, Kaushik Sah, Andrew Cross, Antonio Mani
Veröffentlicht in:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII, Ausgabe 2019, 2019, Seite(n) 65, ISBN 9781-510625662
Herausgeber:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2515805
Autoren:
L. Wischmeier, P. Gräupner, P. Kürz, W. Kaiser (ZEISS) , J. v. Schoot, J. Mallmann, J. d. Pee, J. Stoeldraijer (ASML)
Veröffentlicht in:
2020
Herausgeber:
SPIE
Autoren:
Kateřina Rubešová, Jan Havlíček, Vít Jakeš, Ladislav Nádherný, Jakub Cajzl, Dalibor Pánek, Tomáš Parkman, Alena Beitlerova, Romana Kučerková, František Hájek, Martin Nikl
Veröffentlicht in:
CrystEngComm, Ausgabe 21/34, 2019, Seite(n) 5115-5123, ISSN 1466-8033
Herausgeber:
Royal Society of Chemistry
DOI:
10.1039/c9ce00842j
Autoren:
Kaushik Sah, Sandip Halder, Andrew Cross, Philippe Leray
Veröffentlicht in:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 2020, Seite(n) 1-1, ISSN 0894-6507
Herausgeber:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI:
10.1109/tsm.2019.2963483
Autoren:
S. Migura, W. Kaiser, J.T. Neumann, H. Enkisch, D. Hellweg
Veröffentlicht in:
EUV Lithography, 2nd Edition, Ausgabe 2018, 2018, Seite(n) 225-333, ISBN 9781-510616783
Herausgeber:
SPIE Press
Rechte des geistigen Eigentums
Antrags-/Publikationsnummer:
10
2018219375
Datum:
2018-11-13
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2018046280 A1
Datum:
2017-08-18
Antrags-/Publikationsnummer:
10
2018218162
Datum:
2018-10-24
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
10
2018206967
Datum:
2018-05-04
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2019020449 A1
Datum:
2018-07-18
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2018041491 A1
Datum:
2017-07-28
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2019020450 A1
Datum:
2018-07-18
Antrags-/Publikationsnummer:
10
2018219595
Datum:
2018-11-15
Antragsteller:
CARL ZEISS SMT GMBH
Antrags-/Publikationsnummer:
WO
2019020445 A1
Datum:
2018-07-18
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