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Evaluation of Novel Ultra-Fast selective III-V Epitaxy

Projektbeschreibung

Integration von optisch aktivem Material für Anwendungen der Silizium-Photonik

Optische und elektronische Geräte auf der Grundlage von III-V-Halbleitern fassen am Markt derzeit zunehmend Fuß. Auch die Produktion von III-V-Halbleiterwafern auf der Basis von Galliumnitrid ist gestiegen und umfasst inzwischen Scheibengrößen von zwei bis sechs Zoll. Damit bleiben sie jedoch noch immer hinter komplementären Metalloxid-Halbleitern (CMOS) zurück, die in der Regel im Bereich von acht bis zwölf Zoll liegen. Seit jeher wird das Ziel angestrebt, III-V-Halbleiter auf einem Silizium- oder Silicon-on-Insulator-Wafer zu integrieren, um die Kombination von elektronischen und photonischen Anwendungen möglich zu machen und die Vorteile der hochentwickelten Silizium-CMOS-Technologie für photonische Technologien zu erschließen. Das EU-finanzierte Projekt ENUF möchte zwei unterschiedliche epitaktische Wachstumsverfahren kombinieren, um die kostengünstige Integration von III-V-on-Insulator-Strukturen auf einem großflächigen Siliziumsubstrat zu ermöglichen und dadurch einen Ersatz für bestehende III-V-Beschichtungsmethode zu schaffen. Auch die Integration von optisch aktiven Materialien für Anwendungen der Siliziumphotonik wäre durch diese neuen Methoden mit geringem finanziellem Aufwand machbar.

Ziel

As the worldwide photonics market is increasing and optical and electronic devices based on III-V semiconductors are gaining market segment, the production of III-V semiconductor wafers including GaN has increased in volume and sizes have increased from 2” to 6”. However, this is still short of the 8”-12” common in Silicon CMOS technology. Furthermore, the integration of III-Vs on silicon or on-insulator, has been a long-standing goal for the past 50 years, in order to combine electronic and photonic applications, and to allow photonic technologies to take advantage of the highly developed silicon CMOS technology, thereby opening up for vast new application opportunities. The aim of ENUF is for the first time to attempt to combine two different growth methods to achieve a low-cost integration of large-area III-V on insulator on a silicon platform, and to establish this as a replacement technology for existing III-V wafer production or to enable low-cost integration of optically active material as enabling technology for silicon photonic applications. The method can also be adapted to GaN on Si or on insulator for low-cost high-volume production of high power electronics and light emitting devices.

Wissenschaftliches Gebiet (EuroSciVoc)

CORDIS klassifiziert Projekte mit EuroSciVoc, einer mehrsprachigen Taxonomie der Wissenschaftsbereiche, durch einen halbautomatischen Prozess, der auf Verfahren der Verarbeitung natürlicher Sprache beruht. Siehe: Das European Science Vocabulary.

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Programm/Programme

Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.

Thema/Themen

Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.

Finanzierungsplan

Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.

ERC-POC - Proof of Concept Grant

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Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.

(öffnet in neuem Fenster) ERC-2018-PoC

Alle im Rahmen dieser Aufforderung zur Einreichung von Vorschlägen finanzierten Projekte anzeigen

Gastgebende Einrichtung

IBM RESEARCH GMBH
Netto-EU-Beitrag

Finanzieller Nettobeitrag der EU. Der Geldbetrag, den der Beteiligte erhält, abzüglich des EU-Beitrags an mit ihm verbundene Dritte. Berücksichtigt die Aufteilung des EU-Finanzbeitrags zwischen den direkten Begünstigten des Projekts und anderen Arten von Beteiligten, wie z. B. Dritten.

€ 75 000,00
Adresse
SAEUMERSTRASSE 4
8803 RUESCHLIKON
Schweiz

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Region
Schweiz/Suisse/Svizzera Nordwestschweiz Aargau
Aktivitätstyp
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Links
Gesamtkosten

Die Gesamtkosten, die dieser Organisation durch die Beteiligung am Projekt entstanden sind, einschließlich der direkten und indirekten Kosten. Dieser Betrag ist Teil des Gesamtbudgets des Projekts.

€ 75 000,00

Begünstigte (2)

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