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Evaluation of Novel Ultra-Fast selective III-V Epitaxy

Descrizione del progetto

Integrazione di materiale otticamente attivo per applicazioni fotoniche al silicio

I dispositivi ottici ed elettronici basati su semiconduttori III-V stanno attualmente guadagnando quote di mercato e la produzione di wafer semiconduttori III-V in nitruro di gallio è incrementata, con diametri che raggiungono dimensioni comprese tra i 5 e i 15 cm. Ciononostante, questi valori sono ancora inferiori rispetto all’intervallo compreso tra 20 e 30 cm, ovvero lo standard nella tecnologia dei semiconduttori di ossido di metallo complementari (CMOS, complementary metal-oxide-semiconductor). Integrare i semiconduttori III-V su wafer di silicio o di silicio sopra l’isolante per combinare applicazioni elettroniche e fotoniche e consentire alle tecnologie fotoniche di sfruttare la tecnologia CMOS al silicio a elevato sviluppo è un obiettivo di vecchia data. Il progetto ENUF, finanziato dall’UE, intende combinare due diversi metodi di crescita epitassiale per raggiungere un’integrazione a basso costo di strutture III-V sopra l’isolante su un substrato di silicio a grande superficie, con l’obiettivo di consolidarle come sostituzione per i metodi di deposizione III-V esistenti. I nuovi metodi consentirebbero inoltre un’integrazione a basso costo di materiali otticamente attivi per applicazioni fotoniche al silicio.

Obiettivo

As the worldwide photonics market is increasing and optical and electronic devices based on III-V semiconductors are gaining market segment, the production of III-V semiconductor wafers including GaN has increased in volume and sizes have increased from 2” to 6”. However, this is still short of the 8”-12” common in Silicon CMOS technology. Furthermore, the integration of III-Vs on silicon or on-insulator, has been a long-standing goal for the past 50 years, in order to combine electronic and photonic applications, and to allow photonic technologies to take advantage of the highly developed silicon CMOS technology, thereby opening up for vast new application opportunities. The aim of ENUF is for the first time to attempt to combine two different growth methods to achieve a low-cost integration of large-area III-V on insulator on a silicon platform, and to establish this as a replacement technology for existing III-V wafer production or to enable low-cost integration of optically active material as enabling technology for silicon photonic applications. The method can also be adapted to GaN on Si or on insulator for low-cost high-volume production of high power electronics and light emitting devices.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.

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Programma(i)

Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.

Argomento(i)

Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.

Meccanismo di finanziamento

Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.

ERC-POC - Proof of Concept Grant

Vedi tutti i progetti finanziati nell’ambito di questo schema di finanziamento

Invito a presentare proposte

Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.

(si apre in una nuova finestra) ERC-2018-PoC

Vedi tutti i progetti finanziati nell’ambito del bando

Istituzione ospitante

IBM RESEARCH GMBH
Contributo netto dell'UE

Contributo finanziario netto dell’UE. La somma di denaro che il partecipante riceve, decurtata dal contributo dell’UE alla terza parte collegata. Tiene conto della distribuzione del contributo finanziario dell’UE tra i beneficiari diretti del progetto e altri tipi di partecipanti, come i partecipanti terzi.

€ 75 000,00
Indirizzo
SAEUMERSTRASSE 4
8803 RUESCHLIKON
Svizzera

Mostra sulla mappa

Regione
Schweiz/Suisse/Svizzera Nordwestschweiz Aargau
Tipo di attività
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Collegamenti
Costo totale

I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.

€ 75 000,00

Beneficiari (2)

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