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Next generation of memory for the age of IoT

Description du projet

Une nouvelle technologie pour les futurs appareils IdO

Au-delà de l’ordinateur portable et des smartphones, il existe des milliards d’appareils connectés à Internet, à l’instar d’un réfrigérateur intelligent capable de générer des listes de courses. Au cœur de tout dispositif IdO se trouve un microcontrôleur (MCU), qui comporte des transistors logiques pour le traitement des données et une mémoire non volatile intégrée (eNVM) pour le stockage des données. La fabrication de la plupart des MCU est basée sur des nœuds de 40 nm ou plus. Les nœuds technologiques plus petits, notamment 28 nm, promettent une puissance et un coût plus faibles, condition essentielle à l’adoption de l’IdO. Dans ce contexte, le projet IoTMemory financé par l’UE cherchera une solution sous la forme d’une nouvelle technologie eNVM. Plus précisément, les chercheurs traceront une voie claire vers les cellules eNVM, même au nœud de 7 nm, le nœud technologique le plus avancé disponible aujourd’hui.

Objectif

Serving the €17bn microcontroller industry: Every IoT device needs a microcontroller (MCU). Each MCU has logic transistors for processing data and eNVM (flash) for storing data, among other components. Most microcontrollers today are manufactured at 40nm nodes or above. Smaller technology nodes, like 28nm, promise lower power and lower cost, critical for IoT adoption. Logic transistor scale down fine to 28nm and below. But Flash does not scale down to smaller technology nodes – the effects of Moore’s law have hit a physical limit at 28nm for Flash memory; writing data will destroy them. Consequentially, the benefits of 28nm will be denied to MCU vendors, unless a new eNVM technology is found.
FeFET, the ferroelectric field effect transistor by FMC, is based on the discovery that hafnium oxide, the gate material of modern logic transistors, can be modified such that it becomes ferro-electric. By applying a positive or negative voltage, the material can store a 0 or 1. The gate remembers the state even when power is turned off – the transistor becomes a non-volatile memory cell. As hafnium oxide retains ferro electricity to at least 2nm film thickness, we have clear path to eNVM cells even at the 7nm node – the most advanced technology node available today.
In Phase 1, FMC wants to better understand the technical requirements in various sectors of the microcontroller market, develop a communication approach, and develop a detailed plan how to meet their application specific functional and performance requirements.
Today, FMC is focused on advancing its technology from TRL5 to TRL6 to satisfy minimum viable product properties ahead of commencing prototype production. In Phase 2, FMC will use the base technology to create a range of custom-specific memory macros that satisfy the requirement of different market segments and customer types (TRL7-8).
The company should reach more than 115M€ revenues by 2024 provided it can raise the required financing.

Champ scientifique (EuroSciVoc)

CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: https://op.europa.eu/en/web/eu-vocabularies/euroscivoc.

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Régime de financement

SME-1 - SME instrument phase 1

Coordinateur

FERROELECTRIC MEMORY GMBH
Contribution nette de l'UE
€ 50 000,00
Adresse
CHARLOTTE-BUHLER-STR. 12
01099 Dresden
Allemagne

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PME

L’entreprise s’est définie comme une PME (petite et moyenne entreprise) au moment de la signature de la convention de subvention.

Oui
Région
Sachsen Dresden Dresden, Kreisfreie Stadt
Type d’activité
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Liens
Coût total
€ 71 429,00