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Next generation of memory for the age of IoT

Projektbeschreibung

Neue Technologie für zukünftige Internet-der-Dinge-Geräte

Neben den Laptops und Smartphones gibt es noch Milliarden andere mit dem Internet verbundene Geräte; etwa den intelligenten Kühlschrank, der Einkaufslisten erstellen kann. Das Herzstück eines jeden Internet-der-Dinge-Geräts ist der Mikrocontroller, der über Logiktransistoren für die Datenverarbeitung und einen eingebetteten nichtflüchtigen Speicher für die Datenspeicherung verfügt. Die meisten Mikrocontroller werden im Bereich der 40-nm-Knoten und oberhalb davon hergestellt. Kleinere Technologieknoten, etwa 28 nm, versprechen einen geringeren Stromverbrauch und niedrigere Kosten, was für die Einführung des Internets der Dinge von entscheidender Bedeutung ist. In diesem Zusammenhang wird das EU-finanzierte Projekt IoTMemory nach einer Lösung, einer neuen Technologie für eingebettete nichtflüchtige Speicher, suchen. Im Einzelnen werden die Forschenden einen klaren Weg zu eingebetteten nichtflüchtigen Speicherzellen erarbeiten, der selbst für den 7-nm-Knoten, den fortschrittlichsten der heute verfügbaren Technologieknoten, geeignet ist.

Ziel

Serving the €17bn microcontroller industry: Every IoT device needs a microcontroller (MCU). Each MCU has logic transistors for processing data and eNVM (flash) for storing data, among other components. Most microcontrollers today are manufactured at 40nm nodes or above. Smaller technology nodes, like 28nm, promise lower power and lower cost, critical for IoT adoption. Logic transistor scale down fine to 28nm and below. But Flash does not scale down to smaller technology nodes – the effects of Moore’s law have hit a physical limit at 28nm for Flash memory; writing data will destroy them. Consequentially, the benefits of 28nm will be denied to MCU vendors, unless a new eNVM technology is found.
FeFET, the ferroelectric field effect transistor by FMC, is based on the discovery that hafnium oxide, the gate material of modern logic transistors, can be modified such that it becomes ferro-electric. By applying a positive or negative voltage, the material can store a 0 or 1. The gate remembers the state even when power is turned off – the transistor becomes a non-volatile memory cell. As hafnium oxide retains ferro electricity to at least 2nm film thickness, we have clear path to eNVM cells even at the 7nm node – the most advanced technology node available today.
In Phase 1, FMC wants to better understand the technical requirements in various sectors of the microcontroller market, develop a communication approach, and develop a detailed plan how to meet their application specific functional and performance requirements.
Today, FMC is focused on advancing its technology from TRL5 to TRL6 to satisfy minimum viable product properties ahead of commencing prototype production. In Phase 2, FMC will use the base technology to create a range of custom-specific memory macros that satisfy the requirement of different market segments and customer types (TRL7-8).
The company should reach more than 115M€ revenues by 2024 provided it can raise the required financing.

Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

H2020-EIC-SMEInst-2018-2020

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Unterauftrag

H2020-SMEInst-2018-2020-1

Koordinator

FERROELECTRIC MEMORY GMBH
Netto-EU-Beitrag
€ 50 000,00
Adresse
CHARLOTTE-BUHLER-STR. 12
01099 Dresden
Deutschland

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KMU

Die Organisation definierte sich zum Zeitpunkt der Unterzeichnung der Finanzhilfevereinbarung selbst als KMU (Kleine und mittlere Unternehmen).

Ja
Region
Sachsen Dresden Dresden, Kreisfreie Stadt
Aktivitätstyp
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Links
Gesamtkosten
€ 71 429,00