Descrizione del progetto DEENESFRITPL La nuova tecnica di nanomodellazione offre la speranza di realizzare modelli su larga scala con singole molecole La capacità di modellare i materiali in dimensioni sempre più ridotte utilizzando la fotolitografia è alla base dei progressi della nanotecnologia. Quando la dimensione peculiare dei materiali è ridotta alla scala nanometrica, i singoli atomi e le singole molecole possono essere manipolati per alterare drasticamente le proprietà del materiale. Finora, la nanolitografia alla massima risoluzione è in grado di generare modelli fino a 20 nm. La litografia ultravioletta estrema, una tecnologia litografica di nuova generazione, è in grado di fornire modelli di dimensioni ancora più ridotte. Tuttavia, la sfocatura dell’elettrone secondario da fotoni ultra-ultravioletti ostacola la creazione di modelli di singole molecole. Il progetto Nanolace, finanziato dall’UE, sottoporrà a dimostrazione una tecnica di nanolitografia rivoluzionaria: la litografia atomica a maschera. Si perseguiranno due approcci: maschere a stato solido e maschere ottiche. In caso di successo il progetto sarà il primo ad utilizzare i condensati di Bose-einstein per la litografia e il primo a sottoporre a dimostrazione la litografia basata su una maschera a risoluzione nanometrica, rivoluzionando il mondo del micro e dell’elettronica quantistica. Mostra l’obiettivo del progetto Nascondi l’obiettivo del progetto Obiettivo Lithography refers to the transfer of a pattern onto a substrate. Lithography techniques are used in the production of a huge range of devices and materials ranging from microelectronics and MEMS devices to optical metamaterials and smart surfaces for medical and other applications. The ultimate goal and limit of lithography is to obtain fast and large scale patterning which enables the controlled positioning of individual molecules or atoms. This requires fast, large scale single nm resolution patterning. At the moment no techniques are available that can do that. Fast positioning of individual molecules or atoms over large areas can path the way for the creation and industrial application of whole new classes of materials and devices including room temperature quantum electronic devices, electronic metamaterials as well as nano filtration membranes and can push the performance of todays microelectronics. The highest resolution (~20 nm), fast, large scale lithography technique today is photolithography where a photon beam is projected through a mask, so that the pattern from the mask is replicated by direct imaging on a substrate coated with resist. Next generation Extreme Ultra Violet (EUV) lithography uses 92 eV photons and is targeted to deliver 8 nm resolution. The EUV ultimate limit, determined by the secondary electron generation blur, is estimated to be around 6 nm, which does not enable single nm resolution patterning. Further reductions in the photolithography resolution of the patterning would increase the photon energy, exacerbating the secondary blur.In Nanolace, a radical breakthrough to reach nm resolution lithography will be demonstrated: single nm resolution patterns will be generated with solid state and optical masks, proposed by partners in the consortium using metastable and Bose Einstein condensated atoms. Nanolace will be the first demonstration of lithography with a Bose Einstein condensate. Campo scientifico scienze naturaliscienze fisicheelettromagnetismo ed elettronicamicroelettronicascienze naturaliscienze fisichefisica della materia condensatacondensati di bose-einsteinscienze naturaliscienze fisichefisica teoreticafisica delle particellefotoni Programma(i) H2020-EU.1.2. - EXCELLENT SCIENCE - Future and Emerging Technologies (FET) Main Programme H2020-EU.1.2.1. - FET Open Argomento(i) FETOPEN-01-2018-2019-2020 - FET-Open Challenging Current Thinking Invito a presentare proposte H2020-FETOPEN-2018-2020 Vedi altri progetti per questo bando Bando secondario H2020-FETOPEN-2018-2019-2020-01 Meccanismo di finanziamento RIA - Research and Innovation action Coordinatore UNIVERSITETET I BERGEN Contribution nette de l'UE € 678 718,50 Indirizzo Museplassen 1 5020 Bergen Norvegia Mostra sulla mappa Regione Norge Vestlandet Vestland Tipo di attività Higher or Secondary Education Establishments Collegamenti Contatta l’organizzazione Opens in new window Sito web Opens in new window Partecipazione a programmi di R&I dell'UE Opens in new window Rete di collaborazione HORIZON Opens in new window Altri finanziamenti € 285 772,49 Partecipanti (6) Classifica in ordine alfabetico Classifica per Contributo netto dell'UE Espandi tutto Riduci tutto THE PROVOST, FELLOWS, FOUNDATION SCHOLARS & THE OTHER MEMBERS OF BOARD, OF THE COLLEGE OF THE HOLY & UNDIVIDED TRINITY OF QUEEN ELIZABETH NEAR DUBLIN Irlanda Contribution nette de l'UE € 445 567,50 Indirizzo College green trinity college D02 CX56 Dublin 2 Mostra sulla mappa Regione Ireland Eastern and Midland Dublin Tipo di attività Higher or Secondary Education Establishments Collegamenti Contatta l’organizzazione Opens in new window Sito web Opens in new window Partecipazione a programmi di R&I dell'UE Opens in new window Rete di collaborazione HORIZON Opens in new window Altri finanziamenti € 0,00 THE UNIVERSITY OF BIRMINGHAM Regno Unito Contribution nette de l'UE € 481 413,00 Indirizzo Edgbaston B15 2TT Birmingham Mostra sulla mappa Regione West Midlands (England) West Midlands Birmingham Tipo di attività Higher or Secondary Education Establishments Collegamenti Contatta l’organizzazione Opens in new window Sito web Opens in new window Partecipazione a programmi di R&I dell'UE Opens in new window Rete di collaborazione HORIZON Opens in new window Altri finanziamenti € 0,00 NORGES TEKNISK-NATURVITENSKAPELIGE UNIVERSITET NTNU Norvegia Contribution nette de l'UE € 393 953,75 Indirizzo Hogskoleringen 1 7491 Trondheim Mostra sulla mappa Regione Norge Trøndelag Trøndelag Tipo di attività Higher or Secondary Education Establishments Collegamenti Contatta l’organizzazione Opens in new window Sito web Opens in new window Partecipazione a programmi di R&I dell'UE Opens in new window Rete di collaborazione HORIZON Opens in new window Altri finanziamenti € 0,00 IDRYMA TECHNOLOGIAS KAI EREVNAS Grecia Contribution nette de l'UE € 899 125,00 Indirizzo N plastira str 100 70013 Irakleio Mostra sulla mappa Regione Νησιά Αιγαίου Κρήτη Ηράκλειο Tipo di attività Research Organisations Collegamenti Contatta l’organizzazione Opens in new window Sito web Opens in new window Partecipazione a programmi di R&I dell'UE Opens in new window Rete di collaborazione HORIZON Opens in new window Altri finanziamenti € 0,00 IRRESISTIBLE MATERIALS LTD Regno Unito Contribution nette de l'UE € 153 016,25 Indirizzo Langdon house langdon road SA1 8QY Swansea Mostra sulla mappa Regione Wales West Wales and The Valleys Swansea Tipo di attività Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments) Collegamenti Contatta l’organizzazione Opens in new window Partecipazione a programmi di R&I dell'UE Opens in new window Rete di collaborazione HORIZON Opens in new window Altri finanziamenti € 0,00 MB SCIENTIFIC AB Svezia Contribution nette de l'UE € 304 717,75 Indirizzo Falhagsleden, 61 753 23 Uppsala Mostra sulla mappa PMI L’organizzazione si è definita una PMI (piccola e media impresa) al momento della firma dell’accordo di sovvenzione. Sì Regione Östra Sverige Östra Mellansverige Uppsala län Tipo di attività Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments) Collegamenti Contatta l’organizzazione Opens in new window Sito web Opens in new window Partecipazione a programmi di R&I dell'UE Opens in new window Rete di collaborazione HORIZON Opens in new window Altri finanziamenti € 0,00
