Mask Based Lithography for Fast, Large Scale Pattern Generation with Nanometer Resolution

Informazioni relative al progetto

Nanolace

ID dell’accordo di sovvenzione: 863127

DOI

10.3030/863127

Progetto chiuso

Data della firma CE 24 Settembre 2019

Data di avvio 1 Gennaio 2020

Data di completamento 31 Dicembre 2024

Finanziato da

• EXCELLENT SCIENCE - Future and Emerging Technologies (FET)

Costo totale

€ 3 642 284,24

Contributo UE

€ 3 356 511,75

Coordinato da

UNIVERSITETET I BERGEN
Norway

CORDIS fornisce collegamenti ai risultati finali pubblici e alle pubblicazioni dei progetti ORIZZONTE.

I link ai risultati e alle pubblicazioni dei progetti del 7° PQ, così come i link ad alcuni tipi di risultati specifici come dataset e software, sono recuperati dinamicamente da .OpenAIRE .

Risultati finali

Demonstrators, pilots, prototypes (4)

He* prototype resist

Synthesis of He* prototype resist to be supplied to WP5

Helium Ion Beam Resist

Synthesis of Helium Ion Beam Resist

Mask for 50 nm lithography

Fabrication of masks for lithography in the resolution range 50 nm

Program for mask calculations

Design of program with user interface for mask calculations for use in future lithography instruments

Websites, patent fillings, videos etc. (1)

Website online and logo created

Public website available online and logo of the project created

Open Research Data Pilot (1)

Data Management Plan

Report outlining which part of the data will be accessible only to the partners and which part will be open to others in full compliance with an Open-Access policy.

Pubblicazioni

Peer reviewed articles (5)

Atomic diffraction by nanoholes in hexagonal boron nitride

Autori: Eivind Kristen Osestad, Ekaterina Zossimova, Michael Walter, Bodil Holst, Johannes Fiedler
Pubblicato in: Nanoscale Advances, Numero 6, 2024, Pagina/e 5337-5347, ISSN 2516-0230
Editore: Royal society of chemistry
DOI: 10.1039/d4na00322e

Testing the validity of supersonic molecular beam modeling in the high-throughput range using an Even-Lavie valve

Autori: Simen K. Hellner, Sabrina D. Eder, Gianangelo Bracco, Bodil Holst
Pubblicato in: Physical Review A, Numero 109, 2024, ISSN 2469-9926
Editore: American Physical Society (APS)
DOI: 10.1103/physreva.109.032813

Realistic mask generation for matter-wave lithography via machine learning

Autori: Johannes Fiedler, Adriá Salvador Palau, Eivind Kristen Osestad, Pekka Parviainen and Bodil Holst
Pubblicato in: Machine Learning: Science and Technology, 2023, ISSN 2632-2153
Editore: IOP Publishing
DOI: 10.1088/2632-2153/acd988

Atomtronic Matter-Wave Lensing

Autori: Saurabh Pandey, Hector Mas, Georgios Vasilakis, Wolf von Klitzing
Pubblicato in: Physical Review Letters, Numero 126, 2025, ISSN 0031-9007
Editore: American Physical Society
DOI: 10.1103/physrevlett.126.170402

An atom passing through a hole in a dielectric membrane: impact of dispersion forces on mask-based matter-wave lithography

Autori: Johannes Fiedler; Bodil Holst
Pubblicato in: Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics, Numero 00223700, 2022, ISSN 0022-3700
Editore: Institute of Physics
DOI: 10.1088/1361-6455/ac4b41