Mask Based Lithography for Fast, Large Scale Pattern Generation with Nanometer Resolution

Información del proyecto

Nanolace

Identificador del acuerdo de subvención: 863127

DOI

10.3030/863127

Proyecto cerrado

Fecha de la firma de la CE 24 Septiembre 2019

Fecha de inicio 1 Enero 2020

Fecha de finalización 31 Diciembre 2024

Financiado con arreglo a

• EXCELLENT SCIENCE - Future and Emerging Technologies (FET)

Coste total

€ 3 642 284,24

Aportación de la UE

€ 3 356 511,75

Coordinado por

UNIVERSITETET I BERGEN
Norway

CORDIS proporciona enlaces a los documentos públicos y las publicaciones de los proyectos de los programas marco HORIZONTE.

Los enlaces a los documentos y las publicaciones de los proyectos del Séptimo Programa Marco, así como los enlaces a algunos tipos de resultados específicos, como conjuntos de datos y «software», se obtienen dinámicamente de OpenAIRE .

Resultado final

Demonstrators, pilots, prototypes (4)

He* prototype resist

Synthesis of He* prototype resist to be supplied to WP5

Helium Ion Beam Resist

Synthesis of Helium Ion Beam Resist

Mask for 50 nm lithography

Fabrication of masks for lithography in the resolution range 50 nm

Program for mask calculations

Design of program with user interface for mask calculations for use in future lithography instruments

Websites, patent fillings, videos etc. (1)

Website online and logo created

Public website available online and logo of the project created

Open Research Data Pilot (1)

Data Management Plan

Report outlining which part of the data will be accessible only to the partners and which part will be open to others in full compliance with an Open-Access policy.

Publicaciones

Peer reviewed articles (5)

Atomic diffraction by nanoholes in hexagonal boron nitride

Autores: Eivind Kristen Osestad, Ekaterina Zossimova, Michael Walter, Bodil Holst, Johannes Fiedler
Publicado en: Nanoscale Advances, Edición 6, 2024, Página(s) 5337-5347, ISSN 2516-0230
Editor: Royal society of chemistry
DOI: 10.1039/d4na00322e

Testing the validity of supersonic molecular beam modeling in the high-throughput range using an Even-Lavie valve

Autores: Simen K. Hellner, Sabrina D. Eder, Gianangelo Bracco, Bodil Holst
Publicado en: Physical Review A, Edición 109, 2024, ISSN 2469-9926
Editor: American Physical Society (APS)
DOI: 10.1103/physreva.109.032813

Realistic mask generation for matter-wave lithography via machine learning

Autores: Johannes Fiedler, Adriá Salvador Palau, Eivind Kristen Osestad, Pekka Parviainen and Bodil Holst
Publicado en: Machine Learning: Science and Technology, 2023, ISSN 2632-2153
Editor: IOP Publishing
DOI: 10.1088/2632-2153/acd988

Atomtronic Matter-Wave Lensing

Autores: Saurabh Pandey, Hector Mas, Georgios Vasilakis, Wolf von Klitzing
Publicado en: Physical Review Letters, Edición 126, 2025, ISSN 0031-9007
Editor: American Physical Society
DOI: 10.1103/physrevlett.126.170402

An atom passing through a hole in a dielectric membrane: impact of dispersion forces on mask-based matter-wave lithography

Autores: Johannes Fiedler; Bodil Holst
Publicado en: Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics, Edición 00223700, 2022, ISSN 0022-3700
Editor: Institute of Physics
DOI: 10.1088/1361-6455/ac4b41