Mask Based Lithography for Fast, Large Scale Pattern Generation with Nanometer Resolution

Informations projet

Nanolace

N° de convention de subvention: 863127

DOI

10.3030/863127

Projet clôturé

Date de signature de la CE 24 Septembre 2019

Date de début 1 Janvier 2020

Date de fin 31 Decembre 2024

Financé au titre de

• EXCELLENT SCIENCE - Future and Emerging Technologies (FET)

Coût total

€ 3 642 284,24

Contribution de l’UE

€ 3 356 511,75

Coordonné par

UNIVERSITETET I BERGEN
Norway

CORDIS fournit des liens vers les livrables publics et les publications des projets HORIZON.

Les liens vers les livrables et les publications des projets du 7e PC, ainsi que les liens vers certains types de résultats spécifiques tels que les jeux de données et les logiciels, sont récupérés dynamiquement sur OpenAIRE .

Livrables

Demonstrators, pilots, prototypes (4)

He* prototype resist

Synthesis of He* prototype resist to be supplied to WP5

Helium Ion Beam Resist

Synthesis of Helium Ion Beam Resist

Mask for 50 nm lithography

Fabrication of masks for lithography in the resolution range 50 nm

Program for mask calculations

Design of program with user interface for mask calculations for use in future lithography instruments

Websites, patent fillings, videos etc. (1)

Website online and logo created

Public website available online and logo of the project created

Open Research Data Pilot (1)

Data Management Plan

Report outlining which part of the data will be accessible only to the partners and which part will be open to others in full compliance with an Open-Access policy.

Publications

Peer reviewed articles (5)

Atomic diffraction by nanoholes in hexagonal boron nitride

Auteurs: Eivind Kristen Osestad, Ekaterina Zossimova, Michael Walter, Bodil Holst, Johannes Fiedler
Publié dans: Nanoscale Advances, Numéro 6, 2024, Page(s) 5337-5347, ISSN 2516-0230
Éditeur: Royal society of chemistry
DOI: 10.1039/d4na00322e

Testing the validity of supersonic molecular beam modeling in the high-throughput range using an Even-Lavie valve

Auteurs: Simen K. Hellner, Sabrina D. Eder, Gianangelo Bracco, Bodil Holst
Publié dans: Physical Review A, Numéro 109, 2024, ISSN 2469-9926
Éditeur: American Physical Society (APS)
DOI: 10.1103/physreva.109.032813

Realistic mask generation for matter-wave lithography via machine learning

Auteurs: Johannes Fiedler, Adriá Salvador Palau, Eivind Kristen Osestad, Pekka Parviainen and Bodil Holst
Publié dans: Machine Learning: Science and Technology, 2023, ISSN 2632-2153
Éditeur: IOP Publishing
DOI: 10.1088/2632-2153/acd988

Atomtronic Matter-Wave Lensing

Auteurs: Saurabh Pandey, Hector Mas, Georgios Vasilakis, Wolf von Klitzing
Publié dans: Physical Review Letters, Numéro 126, 2025, ISSN 0031-9007
Éditeur: American Physical Society
DOI: 10.1103/physrevlett.126.170402

An atom passing through a hole in a dielectric membrane: impact of dispersion forces on mask-based matter-wave lithography

Auteurs: Johannes Fiedler; Bodil Holst
Publié dans: Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics, Numéro 00223700, 2022, ISSN 0022-3700
Éditeur: Institute of Physics
DOI: 10.1088/1361-6455/ac4b41