Leistungen
Synthesis of He* prototype resist to be supplied to WP5
Helium Ion Beam ResistSynthesis of Helium Ion Beam Resist
Mask for 50 nm lithographyFabrication of masks for lithography in the resolution range 50 nm
Public website available online and logo of the project created
Report outlining which part of the data will be accessible only to the partners and which part will be open to others in full compliance with an Open-Access policy.
Veröffentlichungen
Autoren:
Johannes Fiedler, Adriá Salvador Palau, Eivind Kristen Osestad, Pekka Parviainen and Bodil Holst
Veröffentlicht in:
Machine Learning: Science and Technology, 2023, ISSN 2632-2153
Herausgeber:
IOP Publishing
DOI:
10.1088/2632-2153/acd988
Autoren:
Johannes Fiedler; Bodil Holst
Veröffentlicht in:
Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics, Ausgabe 00223700, 2022, ISSN 0022-3700
Herausgeber:
Institute of Physics
DOI:
10.1088/1361-6455/ac4b41
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