Mask Based Lithography for Fast, Large Scale Pattern Generation with Nanometer Resolution

Projektinformationen

Nanolace

ID Finanzhilfevereinbarung: 863127

DOI

10.3030/863127

Projekt abgeschlossen

EK-Unterschriftsdatum 24 September 2019

Startdatum 1 Januar 2020

Enddatum 31 Dezember 2024

Finanziert unter

• EXCELLENT SCIENCE - Future and Emerging Technologies (FET)

Gesamtkosten

€ 3 642 284,24

EU-Beitrag

€ 3 356 511,75

Koordiniert durch

UNIVERSITETET I BERGEN
Norway

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Links zu Ergebnissen und Veröffentlichungen von RP7-Projekten sowie Links zu einigen Typen spezifischer Ergebnisse wie Datensätzen und Software werden dynamisch von OpenAIRE abgerufen.

Leistungen

Demonstrators, pilots, prototypes (4)

He* prototype resist

Synthesis of He* prototype resist to be supplied to WP5

Helium Ion Beam Resist

Synthesis of Helium Ion Beam Resist

Mask for 50 nm lithography

Fabrication of masks for lithography in the resolution range 50 nm

Program for mask calculations

Design of program with user interface for mask calculations for use in future lithography instruments

Websites, patent fillings, videos etc. (1)

Website online and logo created

Public website available online and logo of the project created

Open Research Data Pilot (1)

Data Management Plan

Report outlining which part of the data will be accessible only to the partners and which part will be open to others in full compliance with an Open-Access policy.

Veröffentlichungen

Peer reviewed articles (5)

Atomic diffraction by nanoholes in hexagonal boron nitride

Autoren: Eivind Kristen Osestad, Ekaterina Zossimova, Michael Walter, Bodil Holst, Johannes Fiedler
Veröffentlicht in: Nanoscale Advances, Ausgabe 6, 2024, Seite(n) 5337-5347, ISSN 2516-0230
Herausgeber: Royal society of chemistry
DOI: 10.1039/d4na00322e

Testing the validity of supersonic molecular beam modeling in the high-throughput range using an Even-Lavie valve

Autoren: Simen K. Hellner, Sabrina D. Eder, Gianangelo Bracco, Bodil Holst
Veröffentlicht in: Physical Review A, Ausgabe 109, 2024, ISSN 2469-9926
Herausgeber: American Physical Society (APS)
DOI: 10.1103/physreva.109.032813

Realistic mask generation for matter-wave lithography via machine learning

Autoren: Johannes Fiedler, Adriá Salvador Palau, Eivind Kristen Osestad, Pekka Parviainen and Bodil Holst
Veröffentlicht in: Machine Learning: Science and Technology, 2023, ISSN 2632-2153
Herausgeber: IOP Publishing
DOI: 10.1088/2632-2153/acd988

Atomtronic Matter-Wave Lensing

Autoren: Saurabh Pandey, Hector Mas, Georgios Vasilakis, Wolf von Klitzing
Veröffentlicht in: Physical Review Letters, Ausgabe 126, 2025, ISSN 0031-9007
Herausgeber: American Physical Society
DOI: 10.1103/physrevlett.126.170402

An atom passing through a hole in a dielectric membrane: impact of dispersion forces on mask-based matter-wave lithography

Autoren: Johannes Fiedler; Bodil Holst
Veröffentlicht in: Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics, Ausgabe 00223700, 2022, ISSN 0022-3700
Herausgeber: Institute of Physics
DOI: 10.1088/1361-6455/ac4b41