IMPROVED TARGET MATERIAL FOR HIGH-YIELD SPUTTERING DEPOSITION OF HIGH QUALITY ITO FILMS WITH LOW RESISTIVITY AND HIGH OPTICAL TRANSMISSION

Projektinformationen

ID Finanzhilfevereinbarung: BRE20298

Projekt abgeschlossen

Startdatum 1 Januar 1993

Enddatum 31 Dezember 1995

Finanziert unter

• Specific programme (EEC) of research and technological development in the field of industrial and materials technologies, 1990-1994

Gesamtkosten

Keine Daten

EU-Beitrag

€ 1 100 000,00

Koordiniert durch

Métaleurop Recherche SA
France

Sonstige Dokumente

• IMPROVED TARGET MATERIAL FOR HIGH-YIELD SPUTTERING DEPOSITION OF HIGH QUALITY ITO FILMS WITH LOW RESISTIVITY AND HIGH OPTICAL TRANSMISSION